JPS6045932A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体、特に非磁性基体上に金属磁性薄
膜を被着したいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体に係わる
。

背景技術とその問題点 従来一般に普及されている磁気記録媒体線針状の磁性粉
と高分子結合剤とを主体とする磁性塗料を非磁性基体上
に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録媒体であ
る。

これに比し、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎ１等の磁性金属、或いはこ
れらの合金を真空蒸着、ス・母ツタリング、或いはイオ
ングレーティング等のいわゆるフィジカルベーパーデポ
ジション技術によって非磁性基体上に形成する金属薄膜
型の磁気記録媒体はその磁性層中に非磁性の結合剤が混
入されていないために著しく高い残留磁束密度を得るこ
とができること、また磁性層を極めて薄く形成すること
ができるために高出力且つ短波長応答性に優れていると
いう利点を有する。

しかしながら、この種の薄膜型の磁気記録媒体において
そのＣｏ等の磁性金属を単に非磁性基体上に例えば蒸着
しただけでは充分高い抗磁力Ｈｃを有する磁性層を得る
とと拡困難である。このような薄膜型磁気記録媒体にお
いて高い抗磁力Ｈｃを有する磁性層を得る方法としては
非磁性基体に対して上述の磁性金属の蒸着粒子を斜めに
入射させる斜め蒸着法が提案されている。しかしながら
、このような斜め蒸着法による場合においても必ずしも
安定して充分高い抗磁力ＨＣが得られるものではない。

このような点に鑑み非磁性基体上にＢ１等の下地層を被
着し、これの上に垂直、或いは斜め蒸着によって金属磁
性薄膜を形成したものが提案されたこのような下地層が
形成された金属薄膜型の磁気記録媒体においては、高い
抗磁力Ｉ［ｃを得ること≠Ｉできるものの、この抗磁力
Ｈａは下地層の厚さに依存し１．また角型比軸も、この
下地層の厚さに依存するｅ第１図中、実線曲線及び破線
曲線は、夫々下地層の厚さに対する抗磁力Ｈｃと角型比
Ｒｓの関係を示したもので、これよシ明らか力ように下
地層Ｂｌの厚さを厚くすれば抗磁力Ｈｃは増大するが、
角型比Ｒ６は小さくなってしまう。一方、角型比Ｒ３を
大きくさせるために下地層Ｂｉｔ薄くすると抗磁力Ｈｅ
が低下してしまう。またこれら抗磁力Ｈａと角型比Ｒｇ
は、例えばこの下地層上に形成する金属磁性薄膜の厚さ
及びその組成等にも依存するものであるが、仁れらいず
れについても両抗磁力ＨＣと角型比Ｒ８の関係は相容れ
危いものでおる６そして、従来のこの種磁気記録媒体に
おいて得られる角型比は最大８５％程度であシ、このと
きの抗磁力は３００００程度である。この場合、抗磁力
ｔｉｅを高くしようとすると最大３００００ｓ以上のも
のを得るととｔ−きるが、このとき角型比は６５％以下
になってしまう。

発明の目的 本発明においては、上述した金属薄膜型の磁気記録媒体
においてその角型比と抗磁力の両者を同時に高めること
ができる磁気記録媒体を提供するものである。

発明の概要 本発明においては、第２図に示すように非磁性基体（１
）上に、凝固時に体積膨張する金属の下地層（２）と、
これの上に基体温度が１２０℃以上で入射角が４０°以
上の斜め蒸着によって形成された金属磁性薄膜（３）と
を有してなる。

実施例 本発明においては、非磁性基体（１）上に液状体から凝
固時に体積膨張する金属の下地層（２）と、これの上に
金属磁性薄膜（３）とを形成するものであるが、非磁性
基体（１）は下地層（２）及び金属磁性薄膜（３）の被
着形成時の基体加熱温度に耐える耐熱性を有す例えば、
ｆリアミド、ポリイミド等の高分子フィルム、若しく轢
ガラスセラミック、表面酸化した金属板等の焦機物等を
用い得る。

また、下地層（２）は、凝固時に体積が膨張する金属、
例えばＢｉ　、Ｇａ　、８ｂ　、Ｇｏ　、８１　を或い
はこれら゛金属の合金５ｉ−Ｃｕ、５ｌ−Ａｎ、Ｇｅ−
ＡｕｔＧｅ−Ｉｎ等を例えば３ＯＮ３００Ｘの厚さに蒸
着して形成する。表１に各金属の液体から凝固時に膨張
する体積の膨張（吻と融点ｍ、ｐを示す。

表　１ 金属磁性薄膜（３）社Ｃｏ　ＩＦ　ｅ　ＦＮ　ｉ　ｅ或
いはこれらの合金の例えばＮｌがＯ〜４０原子チ含むＣ
ｏ−Ｎ１合金等を１００〜１０００　Ｘに斜め蒸着して
形成する。この金属磁性薄膜（３）の蒸着は特に基体温
度１２０”Ｃ以上好ましくは１３０℃以上とし、基体面
に対する入射角すなわち基体面の法線に対するｈ度が４
０°以上となる斜め蒸着によって形成する。

第３図は、基体（１）に対する下地層（２）及び金属磁
性薄膜（３）の蒸着装置の一例を示す。図中Ｏ）は真空
容器で、（ロ）はその真空ポンプ等の排気系に連結され
る排気口を示す。真空容器αカ内には例えばフィルム状
の非磁性基体（１）を走行移行させる供給ロール（２）
と巻取リールＱ４とが配置される。α→はこの基体（１
）を加熱するハロダンラング等の加熱手段を示す。そし
て容器（ｌ内の基体（１）の移行途上に対向して下地層
の蒸着源Ｑ峰と金属磁性薄膜の蒸着ｒｉＯｆ）とを配置
する。傷！Ｓは両蒸着源←Ｏ及び０力間と更に蒸着源α
力と基体（１）との間の一部を遮蔽する遮蔽板で、これ
によシ金属磁性薄膜の蒸着源ａ″／）からの蒸着粒子の
基体（すに対する入射角θが４０°以上の帥、囲にある
ように選定される。ここに基体（１）は、下地層の蒸着
源ＱＱ側から金属磁性薄膜の蒸着源０ηへと移行するよ
うになされて、基体（す上にまず蒸着源０りからの下地
層が蒸着されてのち、これの上に金属磁性薄膜が斜め蒸
着によって被着される′ようになされる。

実施例１ 第３図で説明した蒸着装置を用いてｌＸｌ０−ｔｏｒｒ
下で基体（１）上に下地層（２）と金属磁性薄膜（３）
とを蒸着する。この蒸着時の基体温度は、１５０℃とし
蒸着源０ＱとしてはＢｉ蒸着源を、蒸着源ぐっとしては
Ｃｏ−３０原子％Ｎ１合金（Ｃｏ−Ｎ１３ｇ）を用いた
。そして基体（１）上にＢｉ下地層（２）を８０芙の厚
さに蒸着し、これの上にＣ０−Ｎ１３０４１ｔ！Ａ磁性
薄膜（３）をその厚さが１００Ｘ〜１０００＾の間で夫
々変化させて蒸着した各磁気記録媒体を得た。この場合
Ｃｏ−Ｎｉ３ｇの基体（１）への最低入射角θは４０°
に選定した。このようにして得た各磁気記録媒体のＣｏ
　＋Ｊｌ　５（３金属磁性薄膜の膜厚に対する抗磁力Ｈ
Ｃ及び角型比Ｒ８について測定した結果を第４図及び第
５図中、曲線θカ及び６］）に示鳴尚、第４図及び第５
図において夫々曲線（ロ）及び幹は非磁性基体上に夫々
下地層及び金属磁性薄膜を垂直に蒸着して得た磁気記録
媒体の同様のＣｏ−Ｎｔ、。

金属磁性薄膜の膜厚に対する抗磁力Ｈｃ及び角型比Ｒｇ
の関係の測定結果を示すもので曲線θ→及び輪は、夫々
下地層を形成することなく本発明と同様に最低入射角４
０°で斜め蒸着して得た磁気記録媒体の同様の測定結果
を示すものである。これら第４図及び第５図によって明
らかなように本発明による磁気記録媒体は従来のいずれ
の磁気記録媒体に比しても高い抗磁力Ｈｅを得るこ′と
ができるものであシ、シかもその角型比Ｒ８においても
下地層を設けない場合と同程度に高くでき、下地層及び
金属磁性薄膜を垂直蒸着した例に比しては数−〜１０％
以上向上していることがわかる。

尚、上述した例においてはＢｉ下地層も斜め蒸着される
がこの下地層に関しては、垂直蒸着する場合も、同等の
効果が得られ、生産性の見地からはこの下地層に関して
は垂直蒸着を適用することが望ましい・ 発明の効果 上述したように本発明による磁気記ｆ！！媒体によれば
、凝固（固化時）体積膨張する金属の下地層（２）を形
成することと仁れの上に金属磁性薄膜（３）を斜め蒸着
することとが相俟って高い抗磁力Ｈｅを得ることができ
、しか屯その角型比も８５％程度以上に高めることがで
き、所期の目的を達成し得るものである。

尚、下地層を形成することな（Ｃｏ−Ｎｌの連続斜め蒸
着法による場合において、この蒸着に当って酸素導入を
なせば大きな抗磁力が得られるが、このような酸化によ
る場合飽和磁束密度の低下は免れないものであるが、本
発明による磁気記録媒体によれば、何等酸素導入をする
ことなく、高抗磁力を得るようにしているのでこの酸化
による飽和磁束密度の低下が回避できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の説明に供する磁気記録媒体の下地層と
抗磁力及び角型比の関係を示す特性曲線図、第２図は本
発明による磁気記録媒体の一例の路線的拡大断面図、第
３図は本発明による磁気記録媒体を得る蒸着装置の一例
の路線的構成図、第４図及び第５図は本発明による磁気
記録媒体と従来の磁気記録媒体の各磁気的特性の対比図
である。 （すは非磁性基体、（２）は下地層、（３）は金属磁性
薄膜である。 第１図 →下ル眉へ厚さ 第２図 第８囚 第４図 第５図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基体上に凝固時に体積膨張する金属の下地層と、
   これの上に基体温度が１２０℃以上で、入射角が４０°
   以上の斜め蒸着によって形成された金属磁性薄膜とを有
   して々る磁気記録媒体。