JPS6038222B2 - 鉄鋼用連続鋳造鋳型 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、普通鋼、特殊鋼等の鉄鋼の連続鋳造用鋳型に
関する。

従来から、鉄鋼の連続鋳造用鋳型として、冷却効果を高
めるために銅又は銅合金を基体材質とし、鏡込中欧弱な
鋳型基体を製品スラブ、ブルーム等に依る摩耗傷発生か
ら保護し、一方においてスラブに鋼又は銅合金が付着侵
入して生じる腕化現象を防止し、製品鋼表面に生じる微
小割れ（スタークラック）を防止するために、上記鋳型
基体上にク。

ムメッキを施したものが採用されている。ところが、こ
のようなクロムメッキと基体銅又は銅合金との熱膨張率
が大きく相違するために、単に数回の鋳込みを行なうだ
けで熱ショックの大きな鋳込みによりクロムメッキが剥
離する結果、基体鋼又は銅合金面が露出し、著しい損傷
を受けるとともに銅又は銅合金の附着による微４・割れ
が製品に、多数発生するという欠点があった。このため
製品表面手入を要し、歩留りが著しく低く、決して好ま
しいものではなかった。このクロムメッキ鋳型の欠点を
解決するものとして、基体銅又は銅合金と熱膨張率が極
めて近似しており且つ同一の結晶構造を有するニッケル
メッキを施した鋳型が提供され、熱ショックによりニッ
ケルメッキが剥離しない所から長寿命が期待された。

しかし現実には、ニッケルメッキがマイクロビツカース
硬度ＨＶ２００〜３００と軟弱であるため、鋳込みによ
りニッケルメッキ面が極めて激しく塑性変形し、部分的
に基体面が露出することが判明した。このため長寿命鋳
型を得るには、必然的にニッケルメッキ厚さを著しく厚
くする必要があるが、その反面厚膜ニッケルメッキでれ
は冷却効果の低下に依り銭込速度を著しく低下させなけ
ればならず、又、ニッケルメッキの過熱に依り、溶鋼と
大気との界面が鋳型に接触する部分（メニスカズ）近傍
のニッケルメッキ層の割れが発生し、ブレークアウト事
故を惹起する虞がある。まなた、鋳型基体表面に、第１
層として、Ｎｉ及びＣｏの１種以上からなるメッキ層を
設け、その表面に第２層としてＮｉ及びＣｏの１種以上
とＰ及びＢの１種以上とからなる合金メッキ層を積層し
、更にその表面に第３層としてＣｒメッキを施した鉄鋼
連続鋳造用鋳型も知られている（特公昭５２一５０７３
３号）。この多層メッキ鋳型は、Ｎｉ及びＣｏの１種以
上とＰ及びＢの１種以上とからなる高硬度耐摩耗メッキ
皮膜（ＨＶ６００〜１１１０）である第２層と基体銅若
し〈は鋼合金（ＨＶ５０〜１５０）との間にＮｉ及び．
Ｃｏの１種以上からなる第１層（ＨＶ２００〜４００）
を設け、硬度勾配を小さくして密着性を高めることによ
り上記第２層の剥離を防止すると共に、Ｃｒメッキを更
に設けることにより鏡込開始時に発生する溶鋼飛沫（ス
プラツシュ）が第２層に附着しないようにしたものであ
る。この多層メッキ鋳型は、そのメッ厚さを同一とした
場合、前述のクロムメッキ、ニッケルメッキ鋳型に比し
、実に約５〜７倍もの寿命向上が可であり、この間製品
表面の微小割れもなく、歩隣りは極めてよい、鋳型表面
の変形も少ない等の多大の利点を有するものであった。
しかしながら、上記多層メッキを施すことにより確かに
鋳型広面の寿命は５００〜１０００チャージ程度まで延
長されるものの、尚、その寿命を延長し、稼動率やスピ
ードアップの点において改善すべき余地のあることが見
出された。郎ち、上記多層メッキ鋳型の使用中に、第１
図及び第２図に示すように、鋳型狭面１の両端部近傍２
及び下端部近傍３に、局所的なメッキ層４の損耗が生じ
、これが次第にその面積及び深さを増大し、激しい場合
には鋳型基体５自体にまで達し、その他の部分が依然と
して充分に耐性を発揮する状態に保たれているのにも拘
らず、鋳型としての耐用限度に至るという現象が生じる
のである。このような現象は、第３図に示すタイプの鋳
型狭面にも生じる。同様に、第４図に示すように、鋳型
広面６の下端部近傍７及び鋳型狭面が接触する両端部近
傍８にも、やはり損耗が発生する。斯かる局部的な損耗
は、特に鋳型狭面についてその発生が著しく、鋳型狭面
の寿命は、広面のそれの１／２又はそれ以下となること
がいまいまであり、結果として、鋳型の寿命は鋳型狭面
の寿命或はときに発生する広面局部の異常摩耗により支
配される煩向がある。従って、上記多層メッキ鋳型の実
際上の寿命は、従釆のク。ムメッキ鋳型の寿命の３〜４
倍程度に止まることがいよいよであった。このような局
部的損耗の防止策として、鋳型の基体銅又は銅合金上に
、ニッケルメッキ層及びニッケル又はニッケル基合金材
料の漆射による半融合皮膜を順次施した鋳型が知られて
いる（特公昭５３−４０５６号）。

しかしながら、このような鋳型においても、上記半融合
皮膜とその下地層たるニッケルメッキ層との密着性は充
分満足し得るものではなく、しかも該下地層たるニッケ
ルメッキの硬度がマイクロビッカース硬度ＨＶ２００〜
２４の峯度に過ぎないので鋳型基体の耐摩耗性も充分で
なく、結果として満足し得る鋳型寿命の延長は期待でき
ない。本発明者は、以上の現状に鑑み、耐熱性及び耐摩
耗性に優れた溶射皮膜を、基体銅又は銅合金上に高い密
着力をもって施せば、鋳型の局部的損耗を防止し得、寿
命延長が可能になると考え、鉛意研究を重ねた。しかる
に、一般に耐熱性及び耐摩耗性に優れた溶射皮膜は、鋼
又は鋼合金に対して極めて低度の密着性しか示さず、溶
鋼の熱衝撃や機械的摩擦或は冷却水の噴射による高温水
蒸気の化学的腐食作用等により容易に剥離、脱落する。
更に、前述の特公昭５３−４０５６号公報記載の如く、
ニッケルメッキ層を基体銅又は銅合金と溶射皮膜の間に
介在させた場合でも、該溶射皮膜の密着性は満足できる
ものではなく、単に従来のクロムメッキ鋳型等の３〜４
倍程度の寿命延長が可能となるに過ぎない。ところが、
本発明者の引続く研究に依れば、耐熱性及び耐摩耗性に
優れた溶射皮膜は、ニッケル及びコバルトの少くとも１
種及びリン及びホウ素の少くとも１種を含有する合金メ
ッキ層に対し、特に強い密着性を示すことが判明した。
そして、談合金メッキ層を基体鋼又は銅合金にニッケル
及びコバルトの少くとも１種のメッキ層を介し又は介す
ることなく施せば、全体として高度の密着性を有する耐
熱、耐摩耗性保護皮膜を得ることができ、これを従来の
鋳型の問題であった前記局部的損耗が生じる部分を最イ
・範囲として施すことにより、鋳型の大幅な寿命延長が
可能となることが判明した。本発明は、この知見に基き
完成されたものである。即ち、本発明は、‘ｉ｝ニッケ
ル及びコバルトの少くとも１種及びリン及びホウ素の少
くとも・１種の合金メッキ層が鋳型基体内面に施され、
更に‘ｉｉ｝金属炭化物を含有する溶射用無機物質の熔
射皮膜が、少くとも鋳型内面隅部及び下端部に施されて
いることを特徴とする鉄鋼用達続鋳造鋳型に係る。

本発明に依れば、従来の、鋳型内面隈部及び下端部に発
生する前記局部的損耗を有効に防止することができ、従
来のクロムメッキ鋳型の実に少くとも６倍以上の、寿命
延長が可能である。

従って、鋳型の取換え等の煩雑さ、非能率性が大幅に解
消され、操業のスピードアップ、高稼動率化に大きな貢
献が果され、工業上高度の有用性が発揮される。斯かる
優れた鋳型の寿命延長効果が発揮される理由は、前記溶
射皮膜が基体銅又は銅合金に、前記合金メッキ層を介し
て強固に密着されており、そのため高温の、溶鋼による
熱ショック、機械的摩耗や冷却水と港鋼との接触により
発生する高温水蒸気等の化学的腐食作用等に対し、本発
明鋳型が強い耐性を発揮すると共に、上記合金メッキ層
が高度の耐熱、耐摩耗性を発揮するため、局部的損耗が
発生する鋳型内面隅部及び下端部のみならず他の部分に
おいても溶鋼による熱的、機械的衝撃に対し高い耐性を
発揮するためと推測される。

いずれにせよ本発明において上記優れた効果を発現させ
るためには、前記合金メッキ層の使用が必須である。本
発明において、ニッケル及びコバルトの少くとも１種及
びリン及びホウ素の少くとも１種の合金メッキ層（以下
単に「合金メッキ層」という）は、本来高硬度を有し、
高い耐熱、耐摩耗性を有すると共に、溶射皮膜との密着
性、更には耐化学侵蝕性にも特に優れたものである。

一般に、合金中のリン及びホウ素の含有量が、リン６〜
１５重量％程度、好ましくは８〜１４重量％程度であり
、ホゥ素１〜８重量％、好ましくは２〜６重量％程度の
場合に、最良の結果が発揮される。これら合金メッキ中
でも、ニッケル及びコバルトの少くとも１種及びリンの
合金であって、リン含有量が８〜１４重量％程度のもの
が特に好ましい。その理由は未だ解明されるに至ってい
ないが、リン含有量が上記範囲を外れると、該合金メッ
キの融点が高いものとなり、港射により半溶融皮膜の形
成が困難になるためと推測される。斯かる合金メッキ層
の厚さは、特に限定されないが、通常、２０〜５００ｒ
ｍ程度、好ましくは３０〜２００仏ｍ程度、より好まし
くは５０〜１００仏ｍ程度とすれば、一般に優れた効果
が発揮される。厚さが、２０〜５００仏ｍ程度を外れる
と、薄すぎる場合は溶射皮膜の把持が不完全となり、さ
らに溶射前処理にグリッドブラストを行うと部分的に消
失する虜れがある。又厚すぎると熱伝導性の低下等の不
利以外に無用のコストアップとなる。斯かる合金メッキ
層を施すには、電解法、無電解法のいずれもか採用でき
るが、一般に析出結晶が繊密な無電解〆ッキ法が推奨さ
れる。尚、本発明においては、高硬度の上記合金メッキ
層と基体鋼又は銅合金との間の硬度勾配を緩和し、密着
性をより向上させるために、ニッケル及びコバルトの少
くとも１種のメッキ層を、上記合金メッキ層の下地層と
して施すこともできる。

この場合、該メッキ層の厚さは、冷却効率、操業条件等
を勘案すれば、通常１００〜３０００山ｍ程度、好まし
くは２００〜５００山ｍ程度とするのがよいが、上記範
囲外であっても大きな支障はない。本発明においては、
上記合金メッキ層上に、溶射用無機物質の溶射皮膜を設
ける。

該無機物質としては、優れた、耐熱怪及び耐摩耗性を有
すると共に、溶射皮膜としても高硬度と高い引張り強度
を有するものが広い範囲で採用できる。例えば、金属の
酸化物、室化物、炭化物、ホゥ化物、ケィ化物等の所謂
セラミックが使用できる。これらのうちでも、冷却効率
を阻害しない観点から、比較的熱伝導性の良好な炭化物
サーメット材料が特に好ましい。第１表に、代表的な炭
化物サーメット材料の主成分を例示する。第１表 以上の如き溶射用無機材料は、１種又か２種以上使用す
ることができ、常法により、プラズマ溶射、火炎溶射等
により溶射皮膜とされる。

溶射皮膜の厚さは、通常２０〜５００〆ｍ程度、好まし
くは５０〜２００仏ｍ程度が適当である。該厚さが２０
仏ｍを下回ると耐摩耗性、耐熱性等が不充分となる優向
があり、また５００仏ｍを上回ると熱伝導性の点から抜
熱効果が劣化する傾向を生じＹ特に部分的にに溶射皮膜
を施す場合に抜熱効果が不均一となって銅又は銅合金の
基体に悪影響を与える虜れがある。上記溶射皮膜の適用
部分は、基体全面に施してもよいが、局部的損耗の発生
部分の近傍を覆う範囲に施せば充分である。即ち、第５
図において、鋳型の内面隅部９及び鋳型下端部３及び７
を覆う範囲に、上記漆射皮膜を施せばよい。実際には、
作業上の便宜を考慮して、鋳型基体広面にあっては、第
６図斜線部に示すように、鋳型基体狭面が矢印ａ又はｂ
の方向に幅換え移動する範囲の上端から下端までの全域
１０及び鋳型基体広面の下端から該広面の高さの１／６
〜１／３程度の幅で長手方向全体にわたる範囲１１に施
すのがよい。同機に、第７図に示すように、鋳型基体狭
面にあっては、その両端から夫々狭面全幅の約１／４程
度を最大幅として上端から下端にわたる範囲１２及び該
狭面下端から狭面全高の約１／４〜１／２程度までの高
さで左端から右端にわたる範囲１３に施せば足りる。ま
た第８図に示すタイプの狭面にあっては、幅広部両端の
突出した部分の上端から下端にわたる範囲１４ａ及び幅
狭部の両端から夫々下部全幅の約１／４程度以内を幅と
する上端から下端にわたる範囲１４ｂ並びに幅狭部の下
端から該幅狭部全高の１／３〜１／２程度を高さとする
右端から左端にかけての範囲１５に施せば足りるが、上
記範囲１４ｂを若干上方に延長した部分１４ｃにも施し
、１４ａ，１４ｂ．１４ｃと一連の溶射皮膜とするのが
好ましい。尚、いずれの場合も、安全幅として、局部的
損耗が発生し得る最大範囲よりも若干広い範囲に亘つて
溶射皮膜を施すのが好ましい。尚、本発明においては、
上記溶射皮膜を施すべき範囲の合金メッキ層上に、該溶
射皮膜の下地層として、所謂ボンデイング下地層を施す
こともできる。

このボンディング下地層を介在させることにより、合金
メッキ層と溶射皮膜との密着性を一段と向上させ得る。
このボンディング下地層は、Ｍ。−Ｎｉ−Ａそ，Ｎｉ−
Ａ〆，Ｎｉ一Ｃｒ，Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ，Ｎｉ−Ｃｒ−Ｓｉ
−Ｂ等公知のボンディング用溶射材を用いて施すことが
できる。斯かるボンディング下地層は、一層乃至数層を
施すことができる。また、本発明においては、鋳型基体
上に前記合金メッキ層及び溶射皮膜を順次施した後、こ
れらの上に更にクロムメッキ層を設けることもできる。

該クロムメッキ層は、稀込開始時に発生するスプラツシ
ュの附着防止の効果を果たすものである。その厚さとし
ては、銭込初期に特に該効果が発揮されればよいので、
通常、１０〜５０ムｍ程度で充分である。勿論、この範
囲以上としてもよい。更に、本発明においては、以上の
各層を熱処理することもできる。この熱処理により、各
層間に内包される内部応力が除去されるので、各層間の
密着性が一段と向上する。同時に、前記合金メッキ層の
硬度が熱処理によりマイクロピッカース硬度ＨＶＩＩＯ
成前後にまで上昇するので、溶鋼による機械的摩耗に対
する耐性が向上する。熱処理温度といま、通常、３５０
〜６００℃程度が好ましい。熱処理方法としては「高周
波加熱、火炎による加熱、副射又は表面に塗布した可燃
材料の燃焼等による方法を採用できるが、基体銅板に歪
みを生じさせないように背面を速水冷却しながら表面を
加熱することが望ましい。本発明鋳型は、例えば以下の
如くして作製できる。

まず、既述の溶射皮膜を施すべき部分の基体銅又は銅合
金１７に対し、第９図の如く、斜面１６を形成するよう
に切削等の加工を行ない、次いで基体銅又は銅合金の全
面に、ニッケル及びコバルトの少くとも１種のメッキ層
を施し又は施すことなく、合金メッキ層１８を均一厚さ
で施す。次いで、斜面１６上の合金メッキ層１８上に、
ボンディング処理を行ない又は行なうことなく、溶射用
無機材料を港射する。このとき斜面境界２川こ相当する
合金メッキ層１８と熔射皮膜１９との間に生じる盛上り
等は、ダイヤモンドホイール等で仕上げて、平滑平面と
する。該平滑平面上へは、必要に応じて、クロムメッキ
層２１を全面に亘つて施す。尚、前記斜面１６は、基本
銅又は銅合金上にニッケル及びコバルトの少くとも１種
のメッキ層を施し、該メッキ層を加工することにより設
けてもよい。

また、前記斜面１６を設けることに代えて、第１０図に
示す如き加工面とすることもできる。以下に実施例及び
比較例を掲げる。

実施例 １ 第３図及び第８図に示した形状のリン脱酸銅基体狭面（
高さ１２０仇吻、広幅２４仇枕、狭幅１５仇岬、幅広の
部分の高さ８０肋肋、厚さ７５側）のメッキ不要部分を
マスキング後、水酸化ナトリウム１０雌／夕、炭酸ナト
リウム６０ｇ／夕及び界面活性剤聡／夕からなる水溶液
中で、５５００にて３分間、該鋳型を陰極とし、１０Ａ
／ｂ肘の電流密度で電解脱脂を行なう。

水洗後、２０％硫酸水溶液に浸潰し、室温下１５分間酸
活性処理を行い、水洗する。以上を前処理とする。次い
で、スルフアミン酸ニッケル４７０ｇ／〆、塩化ニッケ
ル３０ｇ／そ及びホウ酸５雌／そからなるメッキ液中で
、ｐＨ４．５、俗温５２℃、電流密度沙／ｄ〆にて５０
時間を要し、ニッケルメッキ（マイクロビッカース硬度
ＨＶ２４０）を全面にわたりｌｏｏ０レｍ施す。

この左右に突出した幅広部分の両側端から夫々５５柳の
範囲に、研削により夫々左右に下降する斜面（最大深さ
２００ｒｍ）を設ける。水洗脱脂後、硫酸ニッケル３４
雌／夕、塩化ニッケル７舷／〆及びリン酸４０ｍ‘／メ
からなるメッキ液中で、ｐＨ４．３格温５５ｏｏ、電流
密度３Ａ／ｄ肘の条件下７時間を要して、リン約１０％
を含有するＮｉ−Ｐ合金メッキ（マイクロビツカース硬
度ＨＶ６５０）を全面に１００仏ｍ施し、水洗、乾燥す
る。

次いで、前記斜面を形成した溶射予定区域の外周をマス
クし、グリッドブラストにより該斜面の表面を粗面化す
る。グリッドは、カーボランダム６０〜８０メッシュ、
、吹付圧８ｋ９／地、距離約２０仇舵で１ケ所につき約
１９秒行なう。次いで、同区城の外周に鉄板製のマスク
板を当てがい、上記斜面上に下記組成のＷＣ−Ｎｉサー
メツトを漆射するる。成分 ％Ｃｏｌ２％を含むＷ
Ｃ ５０Ｃｒ
６Ｓｉ ｌ．５ Ｆｅ ｌ．５ Ｂ Ｉ．０ Ａそ ０．７ Ｃ Ｏ．５ Ｎｉ 残部 溶射条件は、Ｎ２−広ガスを用い、アーク電力８０Ｖ，
４５０Ａ、溶射距離１５０〜１８仇豚で各区域１分間溶
射を行い、厚さ約２３０仏ｍのＷＣ一Ｎｉサーメット層
を得る。

溶射面を、まず６０メッシュシリコンカーバイドホイー
ル、次いで１５０メッシュシリコンカーバィドホィール
で該溶射面以外の部分と均一な平滑平面となるまで研削
仕上げする。次いで、脱脂、水洗後、無水クロム酸２５
０ｇ／そ及び硫酸２．繋／夕を含むメッキ液中で、俗温
５に、電流密度１０Ａ／ｄ〆にて１時間を要し、クロム
メッキ層１７仏ｍを全面に施す。

上記で得た鋳型を、水洗、乾燥後、水浴中で冷却しつつ
、高周波誘導加熱を行なう。

この加熱は、２００Ｋ戊の高周波発振機を用いて加熱深
さを約２００一ｍとし、電磁コイルとメッキ面との距離
を約７側に保持し、該電磁コイルをｌｍ／分の速度で１
の主復させることにより行なう。斯くして得られた鋳型
狭面を連続鋳造鋳型の一方の狭面とし、これと対面する
位置の狭面には、ＷＣ−Ｎｊサーメット溶射を行わない
以外は上記と同機にして得た狭面（Ｎｉ層１０００仏ｍ
，Ｎｉ−Ｐ層１００仏ｍ，Ｃｒ層１７山ｍ）を用い、且
つＷＣ−Ｎｉサーメット港射を行わない以外は上記と同
様にして得た１対の広面を用いて、１セットの鋳型を粗
立てる。

この鋳型を使用して、２５０トン／チャージの鉄鋼連続
鋳造を行なう。鋳込後１５０チャージ経過時点で点検し
た所、広面の下端から上方に約２仇岬の幅の範囲及びＷ
Ｃ−Ｎｉサーメット層を有しない狭面の左右両端近傍と
下端部に基体銅の露出はなかったが表層の損耗が見られ
る。

これに対し、幅広部分両端近傍に若干の表層損耗が観察
されたが、上記幅広部分の左右の両端近傍の港射区域に
は、依然として良好な表面状態が観察される。更に連続
鋳造を続け、３４０チャージ分の高品質製品スラブを収
得後、鋳型内面を点検した所、ＷＣ−Ｎｉサーメット層
を有しない狭面及び広面にあっては、前記損耗の範囲と
深さが進行し、部分的な基体銅の露出が見られ、以後の
連続鋳造は不可能な状態となっていた。

これに対し、本発明のＷＣ−Ｎｉサーメット層を有する
狭面にあっては、当該サーメット層を施した範囲に部分
的な溶射層の剥離が若干認められるものの大部分は依然
として良好な表面状態を保持し、まだ充分の耐性を保有
していることが判った。更に、上記本発明のＷＣ−Ｎｉ
サ−メツト層を有する狭面を取り外してこれをそのまま
使用し、対向する狭面及び１対の広面として、前記と同
様にＷＣ−Ｎｉサーメット層を有しないもの（Ｎｉ層１
０００仏ｍ，Ｎｊ−Ｐ層１００山ｍ，Ｃｒ層１７仏ｍ）
を用いて、１セットの鋳型を組立て、この鋳型を用いて
、２５０トンノチャージの鉄鋼連続鋳造を行なう。

銭込後、１００チャージまで、高品質製品スラブを製造
することができた。この結果、上記本発明のＷＣ−Ｎｉ
サーメット層を有する狭面は、通算して４４０チャージ
の連続鋳造を行なえることが判つた。実施例 ２ 銀１％を含む銅−銀合金製の鉄鋼連続鋳造用鋳型基体（
広面：長さ１８５仇駁×高さ１２０仇肋￥×厚さ６仇肋
、狭面：長さ２３０肋×高さ１２００肋×厚さ６０柵）
の広面から４０仇吻の範囲及び左右両端から６０伽の範
囲並びに狭面の下端から６比蚊の範囲及び左右両端から
６仇肋の範囲を溶射区域とし、外方に向って最大２００
仏ｍの斜面を設ける。

次いで、実施例１と同様に前処理後、Ｎｉメッキ層５０
０仏ｍ，Ｎｉ−Ｐ合金メッキ層Ｐ含量約１０％）１００
ムｍを全面に順次メッキする。

次いで、上記溶射区域に対応するメッキ層上に、Ｍｏ５
％、Ａ夕５．５％、残部Ｎｉからなるボンディング用溶
射材を、Ａｒ−Ｑガスを用い、アーク電力５００Ａ，６
４〜７０Ｖ、溶射距離１００〜１５０側、溶射材送り１
班迄／分にて、１の当り１．８秒を要して、斜面端に相
当する部分を最大厚さとする厚さ５０山ｍの溶射を行な
う。更にその上に、実施例１で使用したＷＣ−Ｎｉ系サ
ーメツトを、Ａｒ一日２ガスを用い、アーク電力４０山
Ｌ ７７〜８２Ｖ、溶射距離１３０〜１５仇職、溶射村
送り７賭／分にて、１地当り３０秒以下の時間を要し、
最大厚み２３０ムｍの溶射を行ない「実施例１と同様に
均一平滑面となるまで研削する。次いで、実施例１と同
様にして、クロムメッキ２０山ｍを全面に施した後、高
周波譲導加熱を行なう。以上の狭面及び広面各１対によ
り１セットの鋳型を組立て、溶鋼２５０トン／チャージ
にて連続鋳造を行なった所、２３伍岬×１６０仇蚊の高
品質製品スラブを連続して９００チャージ得ることがで
きた。比較例 １実施例１で使用した鋳型と同一の狭面
鋳型基体上に、実施例１と同様にして前処理した後、ニ
ッケルメッキ１０００山ｍを施し、実施例１と同様に左
右両端部に最大深さ２００山ｍの斜面を設ける。

その上にＮｉ−Ｐ合金メッキを施すことなく、実施例１
と同様にしてグリッドプラストによる相面化、ＷＣ−Ｎ
ｉサーメツトの溶射皮膜形成及び表面の研削仕上げによ
る平滑化を行ない、更に実施例１と同様に該溶射皮膜上
にクロムメッキを施す。こうして得られる狭面を使用し
、これに対面する狭面として実施例１で使用したものと
同一の狭面（Ｎｉ層１０００４ｍ，Ｎｉ−Ｐ層１００山
ｍ，Ｃｒ層１７山ｍ）及び１対の広面を使用して、１セ
ットの鋳型を組立てる。この鋳型を使用し、実施例１と
同様に２５０トン／チャージの、鉄鋼連続鋳造を行なつ
ｏ１１６チャージ孫込後の点検によれば、前記Ｎｉ−Ｐ
合金メッキ層を介することなくＷＣ−Ｎｉサーメット溶
射皮膜を施してなる鋳型狭面において、片側の溶射皮膜
がほとんど完全に剥離、消失し、他方の溶射皮膜もその
面積の約１／２が剥離消失して全面に引掻き状の損耗を
受けていることが観察される。

更に連続鋳造を続け、合計２２９１チャージまで製品ス
ラブを得ることができたが、その時点で残存するＷＣ−
Ｎｉ溶射皮膜は面積として１／３以下であった。実施例
１で使用した本発明狭面鋳型の３４０チャージ綾込後の
溶射皮膜と比較すると、はるかに損耗度が大きく、Ｎｉ
−Ｐ合金メッキ層を介在させることによる溶射皮膜の耐
久性の向上が顕著であることが判る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、鋳型狭面の正面図であり、第２図は第１図の
Ａ−Ａ′切断線に沿う上記狭面の断面図である。 第３図は、第１図に示す狭面とは異なる型式の狭面を示
す。第４図は鋳型広面の正面図である。第５図は、鋳型
狭面と広面とを組み立て１セットの鋳型とした場合の１
部破断図である。第６図は、鋳型広面の正面図であり、
第７図及び第８図は夫々鋳型狭面の正面図である。第９
図は、本発明により各層を施した鋳型基体の断面図であ
り、第１０図は同鋳型基体の他の実施態様を示す断面図
である。１・・・鋳型狭面、２・・・両端部近傍、３・
・・下端部近傍、４・・・メッキ層、５…鋳型基体、６
・・・鋳型広面、７・・・下端部近傍、８・・・鋳型狭
面が接触する両端部近傍、９・・・鋳型内面隅部、１０
，１１，１２，１３，１４ａ，１４ｂ，１５・・・溶射
区域、１６…斜面、１７・・・鋳型基体、１８・・・合
金メッキ層、１９・・・溶射皮膜、２０・・・斜面境界
、２１・・・クロムメッキ層。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図 第１０図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ （i） ニツケル及びコバルトの少くとも１種及び
   リン及びホウ素の少くとも１種の合金メツキ層が鋳型基
   体内面に施され、更に（ii） 金属炭化物を含有する溶
   射用無機物質の溶射皮膜が、少くとも鋳型内面隅部及び
   下端部に施されていることを特徴とする鉄鋼用連続鋳造
   鋳型。 ２ （i） ニツケル及びコバルトの少くとも１種のメ
   ツキ層及び（ii） ニツケル及びコバルトの少くとも１
   種及びリン及びホウ素の少くとも１種の合金メツキ層が
   順次鋳型基体内面に施され、更に（iii） 金属炭化物
   を含有する溶射用無機物質の溶射皮膜が、少くとも鋳型
   内面隅部及び下端部に施されていることを特徴とする鉄
   鋼用連続鋳造鋳型。