JPS603689A - 磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録装置Info
- Publication number
- JPS603689A JPS603689A JP11221783A JP11221783A JPS603689A JP S603689 A JPS603689 A JP S603689A JP 11221783 A JP11221783 A JP 11221783A JP 11221783 A JP11221783 A JP 11221783A JP S603689 A JPS603689 A JP S603689A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic recording
- magnetic field
- recording body
- alternating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G19/00—Processes using magnetic patterns; Apparatus therefor, i.e. magnetography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明癲、磁気記録装置、詳しく言えば磁化可能な磁気
記録体と交番磁界発生手段と画像状に磁気記録体を加熱
する加熱手段とを有し、前記交番磁界発生手段の形成す
る交番磁界中で画像状に磁気記録体を加熱して磁気潜像
を形成する磁気記録装置に関する。
記録体と交番磁界発生手段と画像状に磁気記録体を加熱
する加熱手段とを有し、前記交番磁界発生手段の形成す
る交番磁界中で画像状に磁気記録体を加熱して磁気潜像
を形成する磁気記録装置に関する。
従来技術
磁気記録体に磁気潜像を形成する方法の１つに強磁性体
の熱残留磁化現象を利用するものがある。
の熱残留磁化現象を利用するものがある。
この方法は、強磁性体である磁気記録体を、そのキュー
リ温度近傍まで温度上昇させて、外部磁界印加の下で室
温まで冷却後外部磁界を消去すると残留磁化が現われる
現象を利用するものであって、磁界だけで磁化する方法
に比べて小さな外部磁界で飽和残留磁化に近い残留磁化
が得られる方法である。
リ温度近傍まで温度上昇させて、外部磁界印加の下で室
温まで冷却後外部磁界を消去すると残留磁化が現われる
現象を利用するものであって、磁界だけで磁化する方法
に比べて小さな外部磁界で飽和残留磁化に近い残留磁化
が得られる方法である。
この熱残留磁化現象を利用した磁気記録方法では画像情
報を含む熱パターンを磁気潜像パターンに変換している
ので、フラッシュランプ、サーマルヘッド、レーザー等
の熱パターン入力装置を利用でき、磁気ヘッド等の磁界
発生手段だけの場合に比べよシ簡単に磁気潜像を形成す
ることができる。
報を含む熱パターンを磁気潜像パターンに変換している
ので、フラッシュランプ、サーマルヘッド、レーザー等
の熱パターン入力装置を利用でき、磁気ヘッド等の磁界
発生手段だけの場合に比べよシ簡単に磁気潜像を形成す
ることができる。
このような磁気記録法では、熱残留磁化させるため熱と
磁界とをほぼ同時に印加すること及び磁性トナーによっ
て磁気潜像を良好に現象するため磁気潜像自体に周期的
な変調を加えることが重要な要件となっている。
磁界とをほぼ同時に印加すること及び磁性トナーによっ
て磁気潜像を良好に現象するため磁気潜像自体に周期的
な変調を加えることが重要な要件となっている。
この要件を満たす磁気記録装置として、磁化可能な磁気
記録体と交番磁界発生手段と画像状に磁気記録体を加熱
する加熱手段とを有し、前記交番磁界発生手段の形成す
る交番磁界中で画像状に磁気記録体を加熱して磁気潜像
を形成するものが既に提案されている。
記録体と交番磁界発生手段と画像状に磁気記録体を加熱
する加熱手段とを有し、前記交番磁界発生手段の形成す
る交番磁界中で画像状に磁気記録体を加熱して磁気潜像
を形成するものが既に提案されている。
しかしながら従来の磁気記録装置では、交番磁界発生手
段は電磁ヘッドを交流電流で駆動する構成となっている
ため種々の欠点がある。すなわち、電磁ヘッドで形成し
得る磁界は電磁ヘット°の開口部のみでちシ、幅にして
２０θμｍ程度の狭い範囲である上に電磁ヘッドの先端
からの距離が太きくなると急激に磁界が減少し、数１０
μｍ程度の短い距離しか磁界が到達しないため、電磁ヘ
ッドの形成する磁界中で熱／やターンを印加するには磁
気記録体をシート状とし、その両面に電磁ヘッドと加熱
手段を設け、かつ加熱手段と電磁ヘッドとの位置を極め
て高精度で設定しなくてはならない。
段は電磁ヘッドを交流電流で駆動する構成となっている
ため種々の欠点がある。すなわち、電磁ヘッドで形成し
得る磁界は電磁ヘット°の開口部のみでちシ、幅にして
２０θμｍ程度の狭い範囲である上に電磁ヘッドの先端
からの距離が太きくなると急激に磁界が減少し、数１０
μｍ程度の短い距離しか磁界が到達しないため、電磁ヘ
ッドの形成する磁界中で熱／やターンを印加するには磁
気記録体をシート状とし、その両面に電磁ヘッドと加熱
手段を設け、かつ加熱手段と電磁ヘッドとの位置を極め
て高精度で設定しなくてはならない。
そのため磁気記録装置が複雑となシまた大型化する欠点
がある。さらに電磁ヘッドの形成する磁界が十分磁気記
録体に到達するように磁気記録体シートを十分に薄くし
なくてはならず、その機械的強度を損なう原因ともなっ
ている。
がある。さらに電磁ヘッドの形成する磁界が十分磁気記
録体に到達するように磁気記録体シートを十分に薄くし
なくてはならず、その機械的強度を損なう原因ともなっ
ている。
発明の目的
本発明の目的は、簡単な機構でかつ磁気記録体の機械的
強度を損なうことなく磁気潜像を形成で １きる磁気記
録装置を提供することである°。
強度を損なうことなく磁気潜像を形成で １きる磁気記
録装置を提供することである°。
発明の構成
本発明による磁気記録装置は、交番磁界発生手段として
回転磁石を用い、該回転磁石が形成する交番磁界中で磁
気記録体を画像状に加熱することによってその画像に対
応しかつ磁気的変調を受けた磁気潜像を形成することを
特徴とする特にこの磁気記録装置では、磁気記録体の移
動速度ｖ （ｍｙ＋／ｓｅｃ ） と回転磁石の磁極数
２ｎ１回転数＠（ｒｐｓ）との間に ０００／くｖ／ｎ−ｍくθＳ なる関係があることが好ましく、さらに回転磁石が磁気
記録体において形成する磁界Ｈと、磁気記録体の加熱部
の渦［Ｔ２における抗磁力Ｈｃ （Ｔ ２ ）と、磁気
記録体の常（Ｍｒ Ｔ 、における抗磁力Ｈｃ （Ｔ
１）との間に ／ Ｈｃ （Ｔ ） ＜ Ｈ＜ ａ Ｈｃ （Ｔ １）なる
関係があることが好ましい。
回転磁石を用い、該回転磁石が形成する交番磁界中で磁
気記録体を画像状に加熱することによってその画像に対
応しかつ磁気的変調を受けた磁気潜像を形成することを
特徴とする特にこの磁気記録装置では、磁気記録体の移
動速度ｖ （ｍｙ＋／ｓｅｃ ） と回転磁石の磁極数
２ｎ１回転数＠（ｒｐｓ）との間に ０００／くｖ／ｎ−ｍくθＳ なる関係があることが好ましく、さらに回転磁石が磁気
記録体において形成する磁界Ｈと、磁気記録体の加熱部
の渦［Ｔ２における抗磁力Ｈｃ （Ｔ ２ ）と、磁気
記録体の常（Ｍｒ Ｔ 、における抗磁力Ｈｃ （Ｔ
１）との間に ／ Ｈｃ （Ｔ ） ＜ Ｈ＜ ａ Ｈｃ （Ｔ １）なる
関係があることが好ましい。
実施例
本発明の実施例について説明する前にます熱残留磁化現
象について簡単に説明する。
象について簡単に説明する。
第１図（ａ）は強磁性体の抗磁界Ｈｃの温度依存性を例
示するグラフであシ、図中Ｔｃは一般にキューリ一温度
と呼ばれる。このような温度依存性を示す強磁性体を、
外部磁界Ｈの印加下で初期温度熱残留磁化を生ずる。こ
れが熱残留磁化現象である。初期温度がＴ の場合には
、その温度におけす る強磁性体の抗磁力Ｈｃ （Ｔ １ ）が外部磁界Ｈよ
シも大きいのでその残留磁化はＭｒ （Ｔ工）となシは
とんと磁化されない。したがって磁気記録体とじてとの
ような熱残留磁化現象を有する磁性体を用い外部磁界Ｈ
を印加しながら高温部温度Ｔ２、低温部温度■ なる熱
ｉＲターンで像状加熱を行なうとその熱ノＱターンに応
じた磁気潜像が得られる。
示するグラフであシ、図中Ｔｃは一般にキューリ一温度
と呼ばれる。このような温度依存性を示す強磁性体を、
外部磁界Ｈの印加下で初期温度熱残留磁化を生ずる。こ
れが熱残留磁化現象である。初期温度がＴ の場合には
、その温度におけす る強磁性体の抗磁力Ｈｃ （Ｔ １ ）が外部磁界Ｈよ
シも大きいのでその残留磁化はＭｒ （Ｔ工）となシは
とんと磁化されない。したがって磁気記録体とじてとの
ような熱残留磁化現象を有する磁性体を用い外部磁界Ｈ
を印加しながら高温部温度Ｔ２、低温部温度■ なる熱
ｉＲターンで像状加熱を行なうとその熱ノＱターンに応
じた磁気潜像が得られる。
第２図（ａ）は、本発明の磁気記録装置に用いる磁気記
録体の構造を示すものであシ、非磁性基層１上に磁化可
能な磁性体層２が設けである。第２図（ｂ）は、磁気記
録体の別の構造を示すものであり、非磁性基層１上に磁
化可能な磁性体層２を設け、更に表面保護層３を設けで
ある。
録体の構造を示すものであシ、非磁性基層１上に磁化可
能な磁性体層２が設けである。第２図（ｂ）は、磁気記
録体の別の構造を示すものであり、非磁性基層１上に磁
化可能な磁性体層２を設け、更に表面保護層３を設けで
ある。
磁性体ノ曽２の材料としては前述の熱残留磁化現象を屯
する６ｈ性体であって且つこの熱残留磁化現象が比較的
低い幅度で生じるものが望ましく、キューリ一点編度が
７３０℃程度の分散塗布形ＣｒＯ２磁性体層やＴｂ・Ｆ
ｔｂ 、 Ｇｄ−Ｆｉ等の希土類金属・遷移金属の非晶
質合金薄膜が適している。磁性体層の膜、厚は、潜像の
形成する礎、界が太きくなシ、良質の画像を得ることが
できるので厚い方が好ましいかあ壕シ厚くしても効呆は
低くθ／μｍ〜１０θμｍ程度でよい。
する６ｈ性体であって且つこの熱残留磁化現象が比較的
低い幅度で生じるものが望ましく、キューリ一点編度が
７３０℃程度の分散塗布形ＣｒＯ２磁性体層やＴｂ・Ｆ
ｔｂ 、 Ｇｄ−Ｆｉ等の希土類金属・遷移金属の非晶
質合金薄膜が適している。磁性体層の膜、厚は、潜像の
形成する礎、界が太きくなシ、良質の画像を得ることが
できるので厚い方が好ましいかあ壕シ厚くしても効呆は
低くθ／μｍ〜１０θμｍ程度でよい。
第３図は、本発明による磁気記録装置の実施例を示すも
ので、４は基層１と磁性体層２とから成る磁気記録体で
あって矢印の方向に移動する無端ベルトを構成している
。このベルト状磁気記録体４の壕わ）にはサーマルヘッ
ド５、現像装置６、転写ロール７、清掃装置８、消磁ヘ
ッド９が配置されている。このベルト状磁気記録体４の
内側には交番磁界発生手段１０、駆動ローラ１１、アイ
ドラローラ１２が配置され、この磁気記録体４を支持し
ている。交番磁界発生手段１０は、磁気記録体４を挾ん
でサーマルヘッドに対向して設けられ、回動自在に支持
されたスリーブ１３と反時計方向に回転する回転磁石１
４とで構成されている。
ので、４は基層１と磁性体層２とから成る磁気記録体で
あって矢印の方向に移動する無端ベルトを構成している
。このベルト状磁気記録体４の壕わ）にはサーマルヘッ
ド５、現像装置６、転写ロール７、清掃装置８、消磁ヘ
ッド９が配置されている。このベルト状磁気記録体４の
内側には交番磁界発生手段１０、駆動ローラ１１、アイ
ドラローラ１２が配置され、この磁気記録体４を支持し
ている。交番磁界発生手段１０は、磁気記録体４を挾ん
でサーマルヘッドに対向して設けられ、回動自在に支持
されたスリーブ１３と反時計方向に回転する回転磁石１
４とで構成されている。
スリーブ１３は弾性を有する材質でその表面を被覆して
あシ、磁気記録体４に密着しながら磁気記録体４と同じ
速度で回転する。一方回転磁石１４はその外周に異極性
の磁極が交互に等間隔で配置されたマグネットロールで
ある。図示するマグネットロールの磁極数は／６極とな
っているがこれに限定するものではなく、その回転速度
との関係で適当に定められる。またこのマグネットロー
ルの回転方向は時計回シ又は反時計回シのいずれの方向
でもよい。
あシ、磁気記録体４に密着しながら磁気記録体４と同じ
速度で回転する。一方回転磁石１４はその外周に異極性
の磁極が交互に等間隔で配置されたマグネットロールで
ある。図示するマグネットロールの磁極数は／６極とな
っているがこれに限定するものではなく、その回転速度
との関係で適当に定められる。またこのマグネットロー
ルの回転方向は時計回シ又は反時計回シのいずれの方向
でもよい。
次にこの磁気記録装置の動作について簡単に説〜
明する。磁気記録体４には交番磁界発生手段１０によシ
交番磁界が印加されておシ、この交番磁界（７）Ｔ ’
ｔ’ ｆ −Ｗ ｋへパ゛に″ｆｆｉ′ｆ）−ｙｅｍ７
“ １し、熱残留磁化現象によシ磁気潜像を形成する。
交番磁界が印加されておシ、この交番磁界（７）Ｔ ’
ｔ’ ｆ −Ｗ ｋへパ゛に″ｆｆｉ′ｆ）−ｙｅｍ７
“ １し、熱残留磁化現象によシ磁気潜像を形成する。
モチ口ん、サーマルヘッド５０代わシにレーザー、フラ
ッシュランプ等の他の加熱手段を用いてもよい一磁気慴
像は現像装置６へ移動し、そこで磁性トナーが付着させ
られトナー像となる。トナー像は、さらに転与ロール１
０へ運はれ、この転写ロール１０にバイアスを印加する
ことによって記録紙に転写される。その後苗掃装置８に
よって残留トナーが磁気記録体４から除去される。複数
枚の複写物を所望する揚台には、この現像−転写−清掃
の工程を所望回数だけ繰返した後、交流を印加した消イ
Ｒヘッド９によってその磁気潜像を消去する。
ッシュランプ等の他の加熱手段を用いてもよい一磁気慴
像は現像装置６へ移動し、そこで磁性トナーが付着させ
られトナー像となる。トナー像は、さらに転与ロール１
０へ運はれ、この転写ロール１０にバイアスを印加する
ことによって記録紙に転写される。その後苗掃装置８に
よって残留トナーが磁気記録体４から除去される。複数
枚の複写物を所望する揚台には、この現像−転写−清掃
の工程を所望回数だけ繰返した後、交流を印加した消イ
Ｒヘッド９によってその磁気潜像を消去する。
交番磁界発生手段１０は、磁気記録体４に広い範囲にわ
たり作用しかつ厚さ方向に減衰の少ない交番磁界を発生
し、磁性体層２に厚み方向に均一な周期的磁化パターン
を形成する。交番磁界の周波数をｔ （−Ｌ−＞磁気記
録体の移動速度をｖ （＋ｍ／５ｅｃ）ｅＣ ると、形成さ、れた磁化パターンの波長λ（朋）はλ＝
１ ・・・・・・・ ■ で与えられる。一方マグネットロール１４の磁極数を２
０１回転数をｍ ｒｐｓとすると発生される交番磁界の
周波数ｆ（／５ｅｃ）は、 ｆ＝ｎ・ｍ ・・・・・・・・・ Ｏ で与えられる。０式をの式に代入すると磁化パターンの
波長λ（朋）は、λ−□となる。
たり作用しかつ厚さ方向に減衰の少ない交番磁界を発生
し、磁性体層２に厚み方向に均一な周期的磁化パターン
を形成する。交番磁界の周波数をｔ （−Ｌ−＞磁気記
録体の移動速度をｖ （＋ｍ／５ｅｃ）ｅＣ ると、形成さ、れた磁化パターンの波長λ（朋）はλ＝
１ ・・・・・・・ ■ で与えられる。一方マグネットロール１４の磁極数を２
０１回転数をｍ ｒｐｓとすると発生される交番磁界の
周波数ｆ（／５ｅｃ）は、 ｆ＝ｎ・ｍ ・・・・・・・・・ Ｏ で与えられる。０式をの式に代入すると磁化パターンの
波長λ（朋）は、λ−□となる。
０１ｍ
ところで、本発明者らの検討によれば、良好な現像を行
なうためには、磁気潜像の変調の波長、すなわち磁気記
録体に形成された周期的磁化パターンの波長λは／μｍ
＝３θθμｍ が適しており、特に７０３ｍ ＝ ２０
０μｍが望ましい。したがって図示する磁気記録装置で
は、 θ００ ／ （−（θＳ ｎ ＋ ｍ となるようにｖ、ｎ、ｍが定められている。
なうためには、磁気潜像の変調の波長、すなわち磁気記
録体に形成された周期的磁化パターンの波長λは／μｍ
＝３θθμｍ が適しており、特に７０３ｍ ＝ ２０
０μｍが望ましい。したがって図示する磁気記録装置で
は、 θ００ ／ （−（θＳ ｎ ＋ ｍ となるようにｖ、ｎ、ｍが定められている。
また交番磁界発生手段１０が発生する交番磁界の大きさ
をＨとすると、第１図（ａ）かられかるように交番磁界
Ｈは磁性体層２の高温部Ｔ２ における１抗磁界ＨＣ（
Ｔ ２ ）よシも大きく、低己部Ｔ１における抗磁界Ｈ
ｅ （Ｔ□）よシも十分小さくなければならない。なぜ
ならば交番磁界ＨがＨｃ （Ｔ ２ ）に満たない場合
は、高温部の熱残留磁化は飽和残留磁化に至らず、画像
部の磁化が発生する磁界が弱く、現低時に十分な０度の
画像を得ることができない。
をＨとすると、第１図（ａ）かられかるように交番磁界
Ｈは磁性体層２の高温部Ｔ２ における１抗磁界ＨＣ（
Ｔ ２ ）よシも大きく、低己部Ｔ１における抗磁界Ｈ
ｅ （Ｔ□）よシも十分小さくなければならない。なぜ
ならば交番磁界ＨがＨｃ （Ｔ ２ ）に満たない場合
は、高温部の熱残留磁化は飽和残留磁化に至らず、画像
部の磁化が発生する磁界が弱く、現低時に十分な０度の
画像を得ることができない。
一方交番磁界が十分太きく Ｈｃ （Ｔ １）に近い値
又はＨｃ （Ｔ ｓ ）以上である場合には、低温部に
も十分な大きさの磁化が形成され、背景部の汚れ、地肌
のカプリの原因となるからでおる。したがって交番磁界
Ｈは、特に磁性体層２の低温部に大きな磁化が形成され
ないように、 Ｈｃ （Ｔ２）＜Ｈ＜２ Ｈｃ （Ｔ１）であることが
好ましく、第３図の磁気記録装置ではこの条件を勇足す
るように、磁性体層の材料、マグネットロール、加熱温
度等が適当に選定されている。
又はＨｃ （Ｔ ｓ ）以上である場合には、低温部に
も十分な大きさの磁化が形成され、背景部の汚れ、地肌
のカプリの原因となるからでおる。したがって交番磁界
Ｈは、特に磁性体層２の低温部に大きな磁化が形成され
ないように、 Ｈｃ （Ｔ２）＜Ｈ＜２ Ｈｃ （Ｔ１）であることが
好ましく、第３図の磁気記録装置ではこの条件を勇足す
るように、磁性体層の材料、マグネットロール、加熱温
度等が適当に選定されている。
たとえば第３１Δの磁気記録装置において、磁性体層２
として、３０μｍ厚ポリイミドテープ上に５０μｍ Ｊ
Ｖ−Ｃｒ○２ 分散塗布層を設けたものを用い、交番磁
界発生手段１ｏとして外周Ｓθ朋のスリーブと／６個の
４Ｆ、４が対称的に着磁されスリーブ上に、２５０カウ
スの磁束密度を形成するマグネットロールとから成るも
のを用い、マグネットロール４をろ０θＯｒｐｍで回転
させるとともに磁気記録体４をＱ Ｏｖ＋ｍ／ ｓｅｃ
の速度で移動させて潜像形成を行なった後、コ００ ａ
ｍ７ｓｅｃの速度で磁気記録体を移動させて現像・転写
を行なって１０００枚の複写物を作成したところ、画像
濃度１３のきめの細い、地肌汚れのない極めて良質な画
像が安定して得られた。因みに、この場合の磁化ノぐタ
ーンの波とな夛、前述した好ましい範囲に含まれている
。
として、３０μｍ厚ポリイミドテープ上に５０μｍ Ｊ
Ｖ−Ｃｒ○２ 分散塗布層を設けたものを用い、交番磁
界発生手段１ｏとして外周Ｓθ朋のスリーブと／６個の
４Ｆ、４が対称的に着磁されスリーブ上に、２５０カウ
スの磁束密度を形成するマグネットロールとから成るも
のを用い、マグネットロール４をろ０θＯｒｐｍで回転
させるとともに磁気記録体４をＱ Ｏｖ＋ｍ／ ｓｅｃ
の速度で移動させて潜像形成を行なった後、コ００ ａ
ｍ７ｓｅｃの速度で磁気記録体を移動させて現像・転写
を行なって１０００枚の複写物を作成したところ、画像
濃度１３のきめの細い、地肌汚れのない極めて良質な画
像が安定して得られた。因みに、この場合の磁化ノぐタ
ーンの波とな夛、前述した好ましい範囲に含まれている
。
発明の効果
本発明の磁気記録装置では、交番磁界発生手段として回
転磁石が用いられているので、従来の電磁ヘッドを用い
たものに比べ交番磁界の距離に対する減衰率がはるかに
小さく、磁気記録体の厚さ方向に均一な磁界がその表面
全域にわたって得られる。また回転磁石の磁極数及び回
転数を適当に定めることによって所望の周波数の交番磁
界を得ることができ、さらにこの交番に界の周波数と磁
１気記録体の移動速度を適当に定めることによって磁
気潜像の変８ｊ４の波長を所望する大きさにすることが
できる。したがって適正な濃度をもったきめの細かい画
像が得られるばがシでなく高速複写も可能となる。また
、交番磁界の距離に対する減衰率が小さいので比較的厚
い磁気記録体を使用でき磁気記録体の侯・シ械的強度を
損なう仁とがない。さらに本発明の′９．＠磁界発生手
段では電磁ヘッドのような′６圧源を必要としないので
穢構が簡単化される。
転磁石が用いられているので、従来の電磁ヘッドを用い
たものに比べ交番磁界の距離に対する減衰率がはるかに
小さく、磁気記録体の厚さ方向に均一な磁界がその表面
全域にわたって得られる。また回転磁石の磁極数及び回
転数を適当に定めることによって所望の周波数の交番磁
界を得ることができ、さらにこの交番に界の周波数と磁
１気記録体の移動速度を適当に定めることによって磁
気潜像の変８ｊ４の波長を所望する大きさにすることが
できる。したがって適正な濃度をもったきめの細かい画
像が得られるばがシでなく高速複写も可能となる。また
、交番磁界の距離に対する減衰率が小さいので比較的厚
い磁気記録体を使用でき磁気記録体の侯・シ械的強度を
損なう仁とがない。さらに本発明の′９．＠磁界発生手
段では電磁ヘッドのような′６圧源を必要としないので
穢構が簡単化される。
第１図は、強磁性体の熱残留磁化現象を説明するだめの
グラフで、（ａ）は強磁性体の抗磁力の温度依存性を示
し、（ｂ）は残留磁化曲線を示し、第Ω図（ａ）及び（
ｂ）は、本発明の磁気記録装置に用いるイ厳気記録体の
例を示す部分１析而図、第３図は、本発明の磁気記録装
置の概略図である。 １・・・非磁性基層、２・・・磁性体層、３・・・表面
保強層、４・・・磁気記録体、５・・・サーマルヘッド
、６・・・現像装置、７・・・転写ロール、８・・・清
掃装置、９・・・消磁ヘッド、１０・・・交番磁界発生
手段、１１・・・駆動ロール、１２・・・アイドラロー
ル、１３・・・スリーブ、１４・・・回転磁石。 第１図 ↑ 第２図 第３図 ミト 二 ＝６１Ｆ
グラフで、（ａ）は強磁性体の抗磁力の温度依存性を示
し、（ｂ）は残留磁化曲線を示し、第Ω図（ａ）及び（
ｂ）は、本発明の磁気記録装置に用いるイ厳気記録体の
例を示す部分１析而図、第３図は、本発明の磁気記録装
置の概略図である。 １・・・非磁性基層、２・・・磁性体層、３・・・表面
保強層、４・・・磁気記録体、５・・・サーマルヘッド
、６・・・現像装置、７・・・転写ロール、８・・・清
掃装置、９・・・消磁ヘッド、１０・・・交番磁界発生
手段、１１・・・駆動ロール、１２・・・アイドラロー
ル、１３・・・スリーブ、１４・・・回転磁石。 第１図 ↑ 第２図 第３図 ミト 二 ＝６１Ｆ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）磁化可能な磁気記録体と交番磁界発生手段と画像
状に磁気記録体を加熱する加熱手段とを有し、前記交番
磁界発生手段の形成する交番磁界中で画像状に磁気記録
体を加熱して磁気潜像を形成する磁気記録装置において
、前記交番磁界発生手段が異なる極性の磁極を等間隔で
設けた回転磁石であることを特徴とする磁気記録装置。 （，２磁気記録体の移動速度ｖ （ｍｍ／ｓｅｃ ｌ
と回転磁石の磁極数２ｎ５回転数ｍ（ｒｐｓ）との間に
θ００ ／＜ｖ／ｎ−ｍ＜θＳ なる関係がおることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の磁気記録装置。 （３）前記回転磁石が磁気記録体において形成する磁界
Ｈと、磁気記録体の加熱部の温度Ｔ２における抗磁力Ｈ
ｃ （Ｔ ２ ＞と、磁気記録体の常温又は非加熱部の
扁此Ｔ における抗磁力ＨＣ（Ｔ １）との間に、 Ｈｃ（Ｔ２）＜Ｈ＜ゴＨｃ（Ｔ１） なる関係があることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の磁気記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11221783A JPS603689A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11221783A JPS603689A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 磁気記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603689A true JPS603689A (ja) | 1985-01-10 |
Family
ID=14581186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11221783A Pending JPS603689A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603689A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8264664B2 (en) * | 2004-06-25 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Method for producing a marker on a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1983
- 1983-06-22 JP JP11221783A patent/JPS603689A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8264664B2 (en) * | 2004-06-25 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Method for producing a marker on a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method |
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