JPS6034036A - マスタスライス方式lsi基板 - Google Patents
マスタスライス方式lsi基板Info
- Publication number
- JPS6034036A JPS6034036A JP14297183A JP14297183A JPS6034036A JP S6034036 A JPS6034036 A JP S6034036A JP 14297183 A JP14297183 A JP 14297183A JP 14297183 A JP14297183 A JP 14297183A JP S6034036 A JPS6034036 A JP S6034036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cells
- master slice
- terminal
- cell
- lsi substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
- H01L27/118—Masterslice integrated circuits
- H01L27/11898—Input and output buffer/driver structures
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はマスタスライス方式LSI基板の構造に関する
ものである。
ものである。
背景技術
従来、この種のL8I基板において、第1図に示すよう
に、入出力用の端子セル(以下I10端子セルと呼ぶ)
7は、m行n列の内部セル領域2の外側の周辺領域3に
配置していた。しかし最近のL8Iの集積度の増大、す
なわちセル行列数の飛躍的な増加に伴い、I10端子セ
ルフも増加の傾向にある。
に、入出力用の端子セル(以下I10端子セルと呼ぶ)
7は、m行n列の内部セル領域2の外側の周辺領域3に
配置していた。しかし最近のL8Iの集積度の増大、す
なわちセル行列数の飛躍的な増加に伴い、I10端子セ
ルフも増加の傾向にある。
したがって、従来のようにI10端子セルフを外側周辺
領域3のみに配置する方式では、チップの面積が大きく
なり、また内部セル6とI10端子セルフとの配線が極
端に混雑し、セル行列数の増加に見合うI10端子セル
フの用意が困難になるという欠点があり/ヒ。
領域3のみに配置する方式では、チップの面積が大きく
なり、また内部セル6とI10端子セルフとの配線が極
端に混雑し、セル行列数の増加に見合うI10端子セル
フの用意が困難になるという欠点があり/ヒ。
発明の開示
本発明の目的は、上記の欠点を解決し、集積度に見合う
I10端子セルを用意できる、マスタスライス方式LS
I基板を提供することにある。
I10端子セルを用意できる、マスタスライス方式LS
I基板を提供することにある。
本発明は上述の目的を達成するために、互いに電気的に
絶縁されているトランジスタ、抵抗等からなるセルを、
m行n列の行列状に配置したマスタスライス方式LSI
基板において、I10端子セルをこのセル行列の内部セ
ル領域と、外側周辺領域とに配置する構成を採用するも
のである。
絶縁されているトランジスタ、抵抗等からなるセルを、
m行n列の行列状に配置したマスタスライス方式LSI
基板において、I10端子セルをこのセル行列の内部セ
ル領域と、外側周辺領域とに配置する構成を採用するも
のである。
木兄HAはセル行列の内部領域にも、I10端子セルを
配置する構成により、LSI基板の集積度の増加に見合
ったI10端子セルを、配線性を低下させたり、チップ
面積を急増させることなく用意できるという効果がある
。
配置する構成により、LSI基板の集積度の増加に見合
ったI10端子セルを、配線性を低下させたり、チップ
面積を急増させることなく用意できるという効果がある
。
発明を実施するための最良の形態
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第2図は本発明の実施例のLSI基板の平面図であり、
内部セル6をm行n列の行列状に配置した内部セル領域
2と、この周囲にある外側周辺領の適当な位置に配置し
ている。
内部セル6をm行n列の行列状に配置した内部セル領域
2と、この周囲にある外側周辺領の適当な位置に配置し
ている。
このように構成することにより、内部セル6の増加圧見
合う十分なI10端子セルフおよび7′を用意すること
ができ、高密度化されたマスタスライス方式LSI基板
を、チップ面積を急増させることなく、用意することが
できるという効果がある。
合う十分なI10端子セルフおよび7′を用意すること
ができ、高密度化されたマスタスライス方式LSI基板
を、チップ面積を急増させることなく、用意することが
できるという効果がある。
なお、I10端子セルフ′と内部セル6との配線は、従
来のI10端子セルフに対してと同様に行える0
来のI10端子セルフに対してと同様に行える0
第1図は従来のマスタスライス方式LSI基板の一例の
平面図を示し、第2図は本発明の実施例のマスタスライ
ス方式LSI基板の平面図を示す。 l・・・・・・マスタスライス方式LSI基板、2・・
・−・−内部セル領域、3・・・・・・外側周辺領域、
4・・・・・・I10端子セル行、5・・・・・・内部
セル行、6・・・・・・内部セル、7・・・・・・外側
周辺領域内にあるI10端子セル、7′・・・・・・内
部セル領域内にあるI10端子セル。 第 I 閃 カ2閃
平面図を示し、第2図は本発明の実施例のマスタスライ
ス方式LSI基板の平面図を示す。 l・・・・・・マスタスライス方式LSI基板、2・・
・−・−内部セル領域、3・・・・・・外側周辺領域、
4・・・・・・I10端子セル行、5・・・・・・内部
セル行、6・・・・・・内部セル、7・・・・・・外側
周辺領域内にあるI10端子セル、7′・・・・・・内
部セル領域内にあるI10端子セル。 第 I 閃 カ2閃
Claims (1)
- 内部セル領域内に、互いに電気的に絶縁されたトランジ
スタ、抵抗等からなるセルをm行n列の行列状に配置し
、その外側の周辺領域内に、入出力用の端子セルを直線
状に配置してなるマスタスライス方式LSI基板におい
て、前記入出力用の端子セルを前記内部セル領域内にあ
るm行n列のセル行列中にも混在させてなることを特徴
とするマスタスライス方式LSI基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14297183A JPS6034036A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | マスタスライス方式lsi基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14297183A JPS6034036A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | マスタスライス方式lsi基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6034036A true JPS6034036A (ja) | 1985-02-21 |
Family
ID=15327916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14297183A Pending JPS6034036A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | マスタスライス方式lsi基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6034036A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0533476A2 (en) * | 1991-09-18 | 1993-03-24 | Fujitsu Limited | Semiconductor integrated circuit with scan patch |
WO2002099884A3 (en) * | 2001-06-01 | 2003-08-07 | Virtual Silicon Technology Inc | Integrated circuit design with library cells |
-
1983
- 1983-08-04 JP JP14297183A patent/JPS6034036A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0533476A2 (en) * | 1991-09-18 | 1993-03-24 | Fujitsu Limited | Semiconductor integrated circuit with scan patch |
EP0533476A3 (ja) * | 1991-09-18 | 1994-03-23 | Fujitsu Ltd | |
US6487682B2 (en) | 1991-09-18 | 2002-11-26 | Fujitsu Limited | Semiconductor integrated circuit |
WO2002099884A3 (en) * | 2001-06-01 | 2003-08-07 | Virtual Silicon Technology Inc | Integrated circuit design with library cells |
US6766496B2 (en) | 2001-06-01 | 2004-07-20 | Virtual Silicon Technology, Inc. | Method and apparatus for integrated circuit design with a software tool |
US7051308B2 (en) | 2001-06-01 | 2006-05-23 | Virtual Silicon Technology, Inc. | Method and apparatus for integrated circuit design with library cells |
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