JPS60261109A - 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 - Google Patents
厚膜型正特性半導体素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS60261109A JPS60261109A JP11702384A JP11702384A JPS60261109A JP S60261109 A JPS60261109 A JP S60261109A JP 11702384 A JP11702384 A JP 11702384A JP 11702384 A JP11702384 A JP 11702384A JP S60261109 A JPS60261109 A JP S60261109A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thick film
- glass frit
- semiconductor
- positive temperature
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11702384A JPS60261109A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11702384A JPS60261109A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60261109A true JPS60261109A (ja) | 1985-12-24 |
JPH0534808B2 JPH0534808B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-05-25 |
Family
ID=14701528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11702384A Granted JPS60261109A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60261109A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63129603U (enrdf_load_stackoverflow) * | 1987-02-19 | 1988-08-24 |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP11702384A patent/JPS60261109A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63129603U (enrdf_load_stackoverflow) * | 1987-02-19 | 1988-08-24 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0534808B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60261109A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS61101008A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158209A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158210A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60206105A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60261107A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6012702A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60261108A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS61101007A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158208A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60206103A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60261102A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60260103A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60261105A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158204A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6012701A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS59111302A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158205A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6064403A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS60260102A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6064404A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS61101004A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS61101009A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS61101006A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
JPS6158206A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |