JPS60261102A - 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 - Google Patents
厚膜型正特性半導体素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS60261102A JPS60261102A JP11701684A JP11701684A JPS60261102A JP S60261102 A JPS60261102 A JP S60261102A JP 11701684 A JP11701684 A JP 11701684A JP 11701684 A JP11701684 A JP 11701684A JP S60261102 A JPS60261102 A JP S60261102A
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- Japan
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- thick film
- temperature coefficient
- positive temperature
- powder
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は機器の保温、加熱などに用いられる面状発熱体
のなかで、ガラスフリットを必要としない厚膜型正特性
半導体素子の製造方法に関するものである。
のなかで、ガラスフリットを必要としない厚膜型正特性
半導体素子の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
BaT i O3系半導体からなる素子は所定温度以上
で急激に抵抗値が増大するスイッチング特性及びスイッ
チング後の自己発熱特性を有し、昇温特性が速く自己温
度制御機能を有し、外部の制御回路を必要としないため
広く利用されている。
で急激に抵抗値が増大するスイッチング特性及びスイッ
チング後の自己発熱特性を有し、昇温特性が速く自己温
度制御機能を有し、外部の制御回路を必要としないため
広く利用されている。
従来の正特性サーミスタ発熱体はBaTiO3系半導体
粉末を加圧成形した後、焼成して得ていたが、実用可能
な厚膜状の正特性サーミスタ発熱体を得ることは困難で
あるとされていた。
粉末を加圧成形した後、焼成して得ていたが、実用可能
な厚膜状の正特性サーミスタ発熱体を得ることは困難で
あるとされていた。
従来、BaT io s系半導体を膜状に加工する方法
としては、次のようなものが知られている。
としては、次のようなものが知られている。
■ ディスク形に成形した後、焼成したものを薄片に研
磨する。
磨する。
■ 真空蒸着法により基板上に薄膜を形成する。
■ B a T 103系半導体粉末に導電性の添加剤
とガラスフリットを加えてペースト状とし、基板上にス
クリーン印刷した後、焼成する。
とガラスフリットを加えてペースト状とし、基板上にス
クリーン印刷した後、焼成する。
しかし、前記■の方法で1dBaTi03系半導体の結
晶粒子径が大きくもろいため、膜状に1で研磨すること
は甚だ困難である。寸た、前記■の方法では操作が面倒
であり、発熱体に適した大電力を得ることがむつかしい
。さらに、前記■の方法では面積抵抗が高くなり易く制
御が困難であり、発熱体には適さず、寸たあらかじめガ
ラスフリット全調合、焼成しておかなければならず、面
倒であると共にガラスフリットの材質によってはBaT
io3系半導体の持つスイッチング特性及び自己発熱
特性を劣化させる。そして、ガラスフリットを加えるこ
とによりBaTiO3系半導体とガラスフリットの耐熱
性、熱膨張係数の差から熱衝撃に弱く、熱伝導が妨げら
れる。さらに、導電性の添加剤とガラスフリットを均一
に混合することは困難であり、特性にばらつきを牛しる
原因の一つとなっている。
晶粒子径が大きくもろいため、膜状に1で研磨すること
は甚だ困難である。寸た、前記■の方法では操作が面倒
であり、発熱体に適した大電力を得ることがむつかしい
。さらに、前記■の方法では面積抵抗が高くなり易く制
御が困難であり、発熱体には適さず、寸たあらかじめガ
ラスフリット全調合、焼成しておかなければならず、面
倒であると共にガラスフリットの材質によってはBaT
io3系半導体の持つスイッチング特性及び自己発熱
特性を劣化させる。そして、ガラスフリットを加えるこ
とによりBaTiO3系半導体とガラスフリットの耐熱
性、熱膨張係数の差から熱衝撃に弱く、熱伝導が妨げら
れる。さらに、導電性の添加剤とガラスフリットを均一
に混合することは困難であり、特性にばらつきを牛しる
原因の一つとなっている。
発明の目的
そこで本発明では前記従来技術の欠点であった製造上の
繁雑さを解決し、ガラスフリットに用いずに厚膜状にす
ることにより熱衝撃性、熱伝導性に優れ、均一な特性を
持つ厚膜型正特性半導体素子全容易に製造できる方法を
提供することを目的としている。
繁雑さを解決し、ガラスフリットに用いずに厚膜状にす
ることにより熱衝撃性、熱伝導性に優れ、均一な特性を
持つ厚膜型正特性半導体素子全容易に製造できる方法を
提供することを目的としている。
発明の構成
本発明の厚膜型正特性半導体素子の製造方法は、BaT
io 3系半導体粉末にBe、B +、 Be2B
、 BeB2゜BeB4. BeB6. BeB、2
のうち少なくとも一種類以上ヲ1.0〜60.0重量係
加えてペースト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜
状とした後、焼成することにより厚膜型正特性半導体素
子を得ようとするものである。
io 3系半導体粉末にBe、B +、 Be2B
、 BeB2゜BeB4. BeB6. BeB、2
のうち少なくとも一種類以上ヲ1.0〜60.0重量係
加えてペースト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜
状とした後、焼成することにより厚膜型正特性半導体素
子を得ようとするものである。
従来の導電性添加剤とガラスフリットヲ用いる方法では
B a T 105系半導体粉末同志の電気的接続のた
めに導電性添加剤が必要であり、BaTiO3系粉末同
志を物理的に接続するのにガラスフリットが必要であっ
た。
B a T 105系半導体粉末同志の電気的接続のた
めに導電性添加剤が必要であり、BaTiO3系粉末同
志を物理的に接続するのにガラスフリットが必要であっ
た。
しかし、本発明によれば導電性添加剤とガラスフリット
の両方の役割をはだすものとして、B e 4 B +
Be2B 、 BeB2. BeB4r BeB6また
はBeB12 を用いたところに特徴を有している。こ
れらBe4B 。
の両方の役割をはだすものとして、B e 4 B +
Be2B 、 BeB2. BeB4r BeB6また
はBeB12 を用いたところに特徴を有している。こ
れらBe4B 。
Be2B 、 BeB、、 、 BeB4. BeB6
. BeB、□ は常温では導体であり、1000〜1
100℃以上の温度になると一部分が分解して粒子表面
にB2O3が析出するが、粒子内部は元の1まで表面の
B2O5膜により分解が阻止される。従って、BaTi
0j系半導体粉末と、Be4B、 Be2B 、 Be
B2. B2H2゜BeB6tたはBeB、、、粉末を
混合して焼成すると、Be4B、 Be2B 、 Be
B2. BeB4. BeB6iたはBeB 1.、の
表面に析出するB2O3がガラスフリットと同じ役割を
し、粒子内部が導電性添加剤の役割をするため、B e
4B y B e 2 BI Be ” 27 ”
e B4 rB e B 6オたはB e B 1□を
添加するだけでガラスフリットを必要としない厚膜型正
特性半導体素子が得られる。
. BeB、□ は常温では導体であり、1000〜1
100℃以上の温度になると一部分が分解して粒子表面
にB2O3が析出するが、粒子内部は元の1まで表面の
B2O5膜により分解が阻止される。従って、BaTi
0j系半導体粉末と、Be4B、 Be2B 、 Be
B2. B2H2゜BeB6tたはBeB、、、粉末を
混合して焼成すると、Be4B、 Be2B 、 Be
B2. BeB4. BeB6iたはBeB 1.、の
表面に析出するB2O3がガラスフリットと同じ役割を
し、粒子内部が導電性添加剤の役割をするため、B e
4B y B e 2 BI Be ” 27 ”
e B4 rB e B 6オたはB e B 1□を
添加するだけでガラスフリットを必要としない厚膜型正
特性半導体素子が得られる。
寸だ、導電性金属を添加することにより熱伝導性が悪い
ガラスフリットに較べ熱伝導性が良くなり、熱衝撃性も
向上する。
ガラスフリットに較べ熱伝導性が良くなり、熱衝撃性も
向上する。
実施例の説明
以下に本発明の実施例をあげて第1図と共に具体的に説
明する。
明する。
実施例1
BaTi03に1.0モル係ノNb25 を加え130
0℃で焼成した後、粉砕してBaTiO3系半導体粉末
を得る。前記BaTiOs系半導体粉末に全重量に対し
て6.0重量%のBe4B粉末を加え均一に混合し、ζ
らにα−テルピネオールを加えてペースト状混合物1を
作る。
0℃で焼成した後、粉砕してBaTiO3系半導体粉末
を得る。前記BaTiOs系半導体粉末に全重量に対し
て6.0重量%のBe4B粉末を加え均一に混合し、ζ
らにα−テルピネオールを加えてペースト状混合物1を
作る。
一方、Al2O,などからなる基板2上にあらかじめ一
対のA(Jなどの導電性物質からなる電極3゜4を設け
ておき、前記電極3,4上にその電極3゜4の一部が残
るように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷など
により塗布し、室温から1Q’C/minの昇温速度で
1350℃まで昇温し、1時間保持した後、炉内放冷す
る。このようにして厚膜型正特性半導体素子を得た。
対のA(Jなどの導電性物質からなる電極3゜4を設け
ておき、前記電極3,4上にその電極3゜4の一部が残
るように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷など
により塗布し、室温から1Q’C/minの昇温速度で
1350℃まで昇温し、1時間保持した後、炉内放冷す
る。このようにして厚膜型正特性半導体素子を得た。
実施例2
実施例1と同様にしてBaTiO3に3.0モル%)L
a20. ?加え1250’Cで焼成した後、粉砕して
B a T iOs系半導体粉末を得る。前記BaTi
O3系半導体粉末に全重量に対して5.0重量%のB
e 2B粉末と5.0重量%のB e B 2粉末と5
.0重量%のBeB4i加え均一に混合し、きらにα−
テルピネオールを加えてペースト状混合物1にする。つ
いで、実施例1と同様に前記基板2上にあらかじめ前記
電極3゜4を設けておき、前記電極3.4の一部が残る
ように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷などに
より塗布し、室温から1o°C/minの昇温速度で1
300’C’iで昇温し、30分間保持した後、炉内放
冷する。このようにして厚膜型半導体素子を得た。
a20. ?加え1250’Cで焼成した後、粉砕して
B a T iOs系半導体粉末を得る。前記BaTi
O3系半導体粉末に全重量に対して5.0重量%のB
e 2B粉末と5.0重量%のB e B 2粉末と5
.0重量%のBeB4i加え均一に混合し、きらにα−
テルピネオールを加えてペースト状混合物1にする。つ
いで、実施例1と同様に前記基板2上にあらかじめ前記
電極3゜4を設けておき、前記電極3.4の一部が残る
ように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷などに
より塗布し、室温から1o°C/minの昇温速度で1
300’C’iで昇温し、30分間保持した後、炉内放
冷する。このようにして厚膜型半導体素子を得た。
こうして得た厚膜型半導体素子の室幅での面積抵抗は実
施例1の場合5.6にΩ/caであり、実施例2の場合
2.7にΩ/ cUてあり、各々の温度と抵抗値の関係
は第2図に示した通りであった。第2図でAは実施例1
により得られた素子の特性、Bは実施例2の場合の特性
である。
施例1の場合5.6にΩ/caであり、実施例2の場合
2.7にΩ/ cUてあり、各々の温度と抵抗値の関係
は第2図に示した通りであった。第2図でAは実施例1
により得られた素子の特性、Bは実施例2の場合の特性
である。
また、導電性金属としてBeB6. BeB、2を添加
した場合でも前記特性と同等のものが得られ、これらB
e4B 、 Be2B 、 BeB、、 、 BeB4
. BeB6゜B eB 12はそれぞれ単体で添加し
ても複数種類組合せて添加しても同様の効果があること
を実験により確認した。
した場合でも前記特性と同等のものが得られ、これらB
e4B 、 Be2B 、 BeB、、 、 BeB4
. BeB6゜B eB 12はそれぞれ単体で添加し
ても複数種類組合せて添加しても同様の効果があること
を実験により確認した。
発明の効果
以上のように本発明の製造方法によれば、Be4BB6
.、B 、 BeB2. BeB4. BeB6iたば
BeB、2粉末が従来°の導電性添加剤とガラスフリッ
トの両方の役割をはだし、電気的接続、物理的接続に十
分な効果があり、ガラスフリットなしで厚膜状正特性半
導体素子が得られることとなる。
.、B 、 BeB2. BeB4. BeB6iたば
BeB、2粉末が従来°の導電性添加剤とガラスフリッ
トの両方の役割をはだし、電気的接続、物理的接続に十
分な効果があり、ガラスフリットなしで厚膜状正特性半
導体素子が得られることとなる。
また、ガラスフリットという熱伝導の悪いものにかわっ
て熱伝導のよい導電性金属のB e 4B +B e
2 B + B eB 2 + B eB 4 + B
eB 6T B eB 12 f用いることにより、
熱伝導が良くなり熱衝撃性も向上する。さらに、スクリ
ーン印刷などにより製造できることから作業が容易で量
産が可能である。
て熱伝導のよい導電性金属のB e 4B +B e
2 B + B eB 2 + B eB 4 + B
eB 6T B eB 12 f用いることにより、
熱伝導が良くなり熱衝撃性も向上する。さらに、スクリ
ーン印刷などにより製造できることから作業が容易で量
産が可能である。
なお、本発明においてBaTiO3系半導体粉末として
はBaTiO3に各種の添加剤を加えて半導体化したも
のであればなんでもよい。捷だ、B e 4B +Be
2B 、 BeB2. BeB4. BeB6. Be
B12粉末の添加量を全重量に対して1〜60重量%と
規定したのは、1重量係未満では面積抵抗が大きくなり
すぎ発熱体に不適当てあり、BaTi○6粉末同志の物
理的固定もできなく、一方60重量%を越えると面積抵
抗が小さくなりすぎ、自己制御特性(PTC特性)が小
さくなり発熱体に不適当になる/こめである。ζらに、
B aT 105系半導体粉末とBe、B。
はBaTiO3に各種の添加剤を加えて半導体化したも
のであればなんでもよい。捷だ、B e 4B +Be
2B 、 BeB2. BeB4. BeB6. Be
B12粉末の添加量を全重量に対して1〜60重量%と
規定したのは、1重量係未満では面積抵抗が大きくなり
すぎ発熱体に不適当てあり、BaTi○6粉末同志の物
理的固定もできなく、一方60重量%を越えると面積抵
抗が小さくなりすぎ、自己制御特性(PTC特性)が小
さくなり発熱体に不適当になる/こめである。ζらに、
B aT 105系半導体粉末とBe、B。
f3eB 、 BeB 、 BeB4. BeB6.
BeB、2粉末を2 ペースト状にするのに有機溶剤(実施例ではα−テルピ
ネオール)を用いたが、ペースト状にてきるものであれ
はなんでもよい。
BeB、2粉末を2 ペースト状にするのに有機溶剤(実施例ではα−テルピ
ネオール)を用いたが、ペースト状にてきるものであれ
はなんでもよい。
以上述べたように本発明によれば、ガラスフリットヲ必
要としない厚膜型正特性半導体素子が容易に製造でき、
その実用上の効果は大きいものである。
要としない厚膜型正特性半導体素子が容易に製造でき、
その実用上の効果は大きいものである。
第1図は本発明方法により得られる厚膜型正特性半導体
素子を示す一部切欠斜視図、第2図は本発明の実施例に
よる素子の温度と抵抗値の関係を示す図である。 1・・・・ペースト状混合物、2・・基板、3,4・・
・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 一 ン84ンン (’C)
素子を示す一部切欠斜視図、第2図は本発明の実施例に
よる素子の温度と抵抗値の関係を示す図である。 1・・・・ペースト状混合物、2・・基板、3,4・・
・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 一 ン84ンン (’C)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 B a T 10 s光半導体粉末にBe4B 、 B
e、、B 、 BeB、、 。 BeB4. BeB6. BeB、2のうち少なくとも
一種類以上ヲ1.0〜60.0重量係加え、ペースト状
にした混合物を基板上に塗布して厚膜状とした後、焼成
してなることを特徴とする厚膜型正特性半導体素子の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11701684A JPS60261102A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11701684A JPS60261102A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60261102A true JPS60261102A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14701357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11701684A Pending JPS60261102A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60261102A (ja) |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP11701684A patent/JPS60261102A/ja active Pending
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