JPS61101006A - 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 - Google Patents
厚膜型正特性半導体素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS61101006A JPS61101006A JP22350984A JP22350984A JPS61101006A JP S61101006 A JPS61101006 A JP S61101006A JP 22350984 A JP22350984 A JP 22350984A JP 22350984 A JP22350984 A JP 22350984A JP S61101006 A JPS61101006 A JP S61101006A
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- Japan
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- film type
- type positive
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は機器の保温、加熱などに用いられる面状発熱体
のなかで、ガラスフリットを必要としない厚膜型正特性
半導体素子の製造方法に関するものである。
のなかで、ガラスフリットを必要としない厚膜型正特性
半導体素子の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
BaTiO3系半導体から彦る素子は所定温度以上で急
激に抵抗値が増大するスイッチング特性及びスイッチン
グ後の自己発熱特性を有し、昇温特性が2 ベー/ 速く自己温度制御機能を有し、外部の制御回路を必要と
しないため広く利用されている。
激に抵抗値が増大するスイッチング特性及びスイッチン
グ後の自己発熱特性を有し、昇温特性が2 ベー/ 速く自己温度制御機能を有し、外部の制御回路を必要と
しないため広く利用されている。
従来の正特性サーミスタ発熱体はBaTiO3系半導体
粉末を加圧成形した後、焼成して得ていだが、実用可能
な厚膜状の正特性サーミスタ発熱体を得ることは困難で
あるとされていた。
粉末を加圧成形した後、焼成して得ていだが、実用可能
な厚膜状の正特性サーミスタ発熱体を得ることは困難で
あるとされていた。
従来、B a T i O3系半導体を膜状に加工する
方法としては、次のよう女ものが知られている。
方法としては、次のよう女ものが知られている。
■ ディスク形に成形した後、焼成したものを薄片に研
磨する。
磨する。
■ 真空蒸着法により基板上に薄膜を形成する。
◎ BaTiO3系半導体粉末に導電性の添加剤とガラ
スフリットを加えてペースト状とし、基板上にスクリー
ン印刷した後、焼成する。
スフリットを加えてペースト状とし、基板上にスクリー
ン印刷した後、焼成する。
しかし、前記■の方法ではBa T iO3系半導体の
結晶粒子径が大きくもろいだめ、膜状に壕で研磨するこ
とは甚だ困難である。壕だ、前記■の方法では操作が面
倒であり、発熱体に適した大電力を得ることがむずかし
い。さらに、前記■の方法では面積抵抗が高くカリやす
く制御が困難であり、3 べ−・ 発熱体には適さず、またあらかじめガラスフリットを調
合、焼成しておかなければならず、面倒であると共にガ
ラスフ“JL)の材質によってはB aT’i03 ゛
光半導体の持つスイッチング特性及び自己発熱特性を劣
化させる。そして、ガラスフリットを加えるこ吉により
BaTi○3系半導体とガラスフリットの耐熱性、熱膨
張係数の差から熱衝撃に弱く、熱伝導が妨げられる。さ
らに、導電性の添加剤とガラスフリットを均一に混合す
ることは困難であり、特性にばらつきを生じる原因の一
つと々っている。
結晶粒子径が大きくもろいだめ、膜状に壕で研磨するこ
とは甚だ困難である。壕だ、前記■の方法では操作が面
倒であり、発熱体に適した大電力を得ることがむずかし
い。さらに、前記■の方法では面積抵抗が高くカリやす
く制御が困難であり、3 べ−・ 発熱体には適さず、またあらかじめガラスフリットを調
合、焼成しておかなければならず、面倒であると共にガ
ラスフ“JL)の材質によってはB aT’i03 ゛
光半導体の持つスイッチング特性及び自己発熱特性を劣
化させる。そして、ガラスフリットを加えるこ吉により
BaTi○3系半導体とガラスフリットの耐熱性、熱膨
張係数の差から熱衝撃に弱く、熱伝導が妨げられる。さ
らに、導電性の添加剤とガラスフリットを均一に混合す
ることは困難であり、特性にばらつきを生じる原因の一
つと々っている。
発明の目的
そこで本発明では前記従来技術の欠点であった製造上の
繁雑さを解決し、ガラスフリットを用いずに厚膜状にす
ることにより熱衝撃性、熱伝導性に優れ、均一な特性を
持つ厚膜型正特性半導体素子を容易に製造できる方法を
提供することを目的としている。
繁雑さを解決し、ガラスフリットを用いずに厚膜状にす
ることにより熱衝撃性、熱伝導性に優れ、均一な特性を
持つ厚膜型正特性半導体素子を容易に製造できる方法を
提供することを目的としている。
発明の構成
本発明の厚膜型正特性半導体素子の製造方法は、BaT
iO3系半導体粉末にPu B 、P u B2 、P
uB4及びP uBeのうちの少なくとも1種類をそ
の混合量が全重量に対して1〜6o重量係加え、ペース
ト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜状とした後、
焼成することによシ厚膜型正特性半導体素子を得ようと
するものである。
iO3系半導体粉末にPu B 、P u B2 、P
uB4及びP uBeのうちの少なくとも1種類をそ
の混合量が全重量に対して1〜6o重量係加え、ペース
ト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜状とした後、
焼成することによシ厚膜型正特性半導体素子を得ようと
するものである。
従来の導電性添加剤とガラスフリットを用いる方法では
BaTiO3系半導体粉末同士の電気的接続のために導
電性添加剤が必要であり、Ba’Ti○3系粉末同士を
物理的に接続するのにガラスフリットが必要であった。
BaTiO3系半導体粉末同士の電気的接続のために導
電性添加剤が必要であり、Ba’Ti○3系粉末同士を
物理的に接続するのにガラスフリットが必要であった。
しかし、本発明によれば導電性添加剤とガラスフリット
の両方の役割をはだすものとして、Pu’B。
の両方の役割をはだすものとして、Pu’B。
PuB2.PuB4. PuB6を用いたとこ呂に特徴
を有している。これらPuB 、 PuB2. PuB
4. PuB6は常温では導体であり、1000〜11
oo′C以上の温度になると一部分が分解して粒子表面
にB2O3が析出するが、粒子内部は元の一1寸で表面
のB2O3膜により分解が阻止される。従って、BaT
iO3系半導体粉末と、PuB 、 PuB2. Pu
B4. PuB6粉末を混合して焼成すると、PuB
、 PuB2. PuB4. PuB6の表5へ−7 面に析出するB2O3がガラスフリットと同じ役割をし
、粒子内部が導電性添加剤の役割をするだめ、PuB
、 PuB2. PuB4. PuB、を添加するだけ
でガラスフリットを必要としない厚膜型正特性半導体素
子が得られる。
を有している。これらPuB 、 PuB2. PuB
4. PuB6は常温では導体であり、1000〜11
oo′C以上の温度になると一部分が分解して粒子表面
にB2O3が析出するが、粒子内部は元の一1寸で表面
のB2O3膜により分解が阻止される。従って、BaT
iO3系半導体粉末と、PuB 、 PuB2. Pu
B4. PuB6粉末を混合して焼成すると、PuB
、 PuB2. PuB4. PuB6の表5へ−7 面に析出するB2O3がガラスフリットと同じ役割をし
、粒子内部が導電性添加剤の役割をするだめ、PuB
、 PuB2. PuB4. PuB、を添加するだけ
でガラスフリットを必要としない厚膜型正特性半導体素
子が得られる。
また、導電性金属を添加することにより熱伝導性が悪い
ガラスフリットに比べて熱伝導性が良くなり、熱衝撃性
も向上する。
ガラスフリットに比べて熱伝導性が良くなり、熱衝撃性
も向上する。
実施例の説明
以下に本発明の実施例をあげて第1図と共に具体的に説
明する。
明する。
実施例1
B a T 103に1.、oモル%のNb2O,を加
え1000°Cで焼成した後、粉砕してB a T i
O3系半導体粉末を得る。前記BaTiO3系半導体粉
末に全重量に対して3.5重量係のPuB2粉末を加え
均一に混合し、さらにα−テルピネオールを加エテペー
スト状混合物1を作る。
え1000°Cで焼成した後、粉砕してB a T i
O3系半導体粉末を得る。前記BaTiO3系半導体粉
末に全重量に対して3.5重量係のPuB2粉末を加え
均一に混合し、さらにα−テルピネオールを加エテペー
スト状混合物1を作る。
一方、Al2O3などからなる基板2上にあらかじめ一
対のAyなどの導電性物質からなる電極6 ペー7 3.4を設けておき、前記電極3,4上にその電極3,
4の一部が残るように前記ペースト状混合物1をスクリ
ーン印刷などによシ塗布し、室温から10’C/分の昇
温速度で1350″Cまで昇温し、1時間保持した後、
炉内放冷する。このようにして厚膜型正特性半導体素子
を得た。
対のAyなどの導電性物質からなる電極6 ペー7 3.4を設けておき、前記電極3,4上にその電極3,
4の一部が残るように前記ペースト状混合物1をスクリ
ーン印刷などによシ塗布し、室温から10’C/分の昇
温速度で1350″Cまで昇温し、1時間保持した後、
炉内放冷する。このようにして厚膜型正特性半導体素子
を得た。
実施例2
実施例1と同様にしてB a T i03に3.0モル
係のNb2O3を加え1250’Cで焼成した後、粉砕
してB a T 103系半導体粉末を得る。前記Ba
TiO3系半導体粉末に全重量に対して5o重量%のP
u Be粉末を加え均一に混合し、さらにα−テルピ
ネオールを加えてペースト状混合物1にする。
係のNb2O3を加え1250’Cで焼成した後、粉砕
してB a T 103系半導体粉末を得る。前記Ba
TiO3系半導体粉末に全重量に対して5o重量%のP
u Be粉末を加え均一に混合し、さらにα−テルピ
ネオールを加えてペースト状混合物1にする。
ついで、実施例1と同様に前記基板2上にあらかじめ前
記電極3.4を設けておき、前記電極3.4の一部が残
るように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷々ど
により塗布し、室温から10°C/分の昇温速度で13
0o′Cまで昇温し、30分間保持した後、炉内放冷す
る。このようにして厚膜型半導体素子を得た。
記電極3.4を設けておき、前記電極3.4の一部が残
るように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷々ど
により塗布し、室温から10°C/分の昇温速度で13
0o′Cまで昇温し、30分間保持した後、炉内放冷す
る。このようにして厚膜型半導体素子を得た。
7 ′ゝ−・
こうして得た厚膜型半導体素子の室温での面積抵抗は実
施例1の場合4.9 KQ/cmであり、実施例2の場
合0.8にΩ/肩であり、各々の温度と抵抗値の関係は
第2図に示した通シであった。
施例1の場合4.9 KQ/cmであり、実施例2の場
合0.8にΩ/肩であり、各々の温度と抵抗値の関係は
第2図に示した通シであった。
第2図でAは実施例1により得られた素子の特性、Bは
実施例2の場合の特性である。
実施例2の場合の特性である。
発明の効果
以上のように本発明の製造方法によれば、Pu B2
。
。
P u B 6粉末が従来の導電性添加剤とガラスフリ
ットの両方の役割をはだし、電気的接続、物理的接続に
十分な効果があり、ガラスフリットなしで厚膜状正特性
半導体素子が得られることとなる。
ットの両方の役割をはだし、電気的接続、物理的接続に
十分な効果があり、ガラスフリットなしで厚膜状正特性
半導体素子が得られることとなる。
丑た、ガラスフリットという熱伝導の悪いものにかわっ
て熱伝導のよい導電性金属のPuB2. PuB6を用
いることにより、熱伝導が良く々り熱衝撃性も向上する
。さらに、スクリーン印刷々どにより製造できることか
ら作業が容易で量産が可能である。
て熱伝導のよい導電性金属のPuB2. PuB6を用
いることにより、熱伝導が良く々り熱衝撃性も向上する
。さらに、スクリーン印刷々どにより製造できることか
ら作業が容易で量産が可能である。
なお、本発明においてBaTiO3系半導体粉末として
はBaTiO3に各種の添加剤を加えて半導体化したも
のであればなんでもよい。壕だ、Pu B2 。
はBaTiO3に各種の添加剤を加えて半導体化したも
のであればなんでもよい。壕だ、Pu B2 。
Pu Be粉末の添加量を全重量に対して1〜60重量
係重量穴したのは、1重量係未満では面積抵抗が犬きく
なりすぎ発熱体に不適当であり、B a T 103粉
末同士の物理的固定もできなく、一方60重量係を越え
ると面積抵抗が小さくなりすぎ、自己制御特性(PTC
特性)が小さくなり発熱体に不適当になるためである。
係重量穴したのは、1重量係未満では面積抵抗が犬きく
なりすぎ発熱体に不適当であり、B a T 103粉
末同士の物理的固定もできなく、一方60重量係を越え
ると面積抵抗が小さくなりすぎ、自己制御特性(PTC
特性)が小さくなり発熱体に不適当になるためである。
さらに、BaTiO3系半導体粉末とP uB2.P
uB6粉末をペースト状にするのに有機溶剤(実施例で
はα−テルピネオール)を用いだが、ペースト状にでき
るものであればなんでもよい。
uB6粉末をペースト状にするのに有機溶剤(実施例で
はα−テルピネオール)を用いだが、ペースト状にでき
るものであればなんでもよい。
なお、前記実施例ではPuB2 、 Pu B6をそれ
ぞれ1種類のみ添加する場合についてのみ示したが、こ
れらに代えてPuB 、 PuB4を用いた場合にも実
施例と同等の効果が得られることを確認した。まだ、こ
れらPuB 、 PuB2. PuB4. PuB6の
複数種類を同時に前記の範囲で加えた場合にも同様の効
果が得られた。
ぞれ1種類のみ添加する場合についてのみ示したが、こ
れらに代えてPuB 、 PuB4を用いた場合にも実
施例と同等の効果が得られることを確認した。まだ、こ
れらPuB 、 PuB2. PuB4. PuB6の
複数種類を同時に前記の範囲で加えた場合にも同様の効
果が得られた。
以上述べたように本発明によれば、ガラスフリ9ぺ一部
ットを必要とし々い厚膜型正特性半導体素子が容易に製
造でき、その実用上の効果は大きいものである。
造でき、その実用上の効果は大きいものである。
第1図は本発明方法により得られる厚膜型正特性半導体
素子を示す一部切欠斜視図、第2図は本発明の実施例に
よる素子の温度と抵抗値の関係を示す図である。 1・・・・ペースト状混合物、2 ・・・・基板、3.
4・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 、50 /θθ 150 2θ025θ一温度(°
C)
素子を示す一部切欠斜視図、第2図は本発明の実施例に
よる素子の温度と抵抗値の関係を示す図である。 1・・・・ペースト状混合物、2 ・・・・基板、3.
4・・・・・電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 、50 /θθ 150 2θ025θ一温度(°
C)
Claims (1)
- BaTi〇_3系半導体粉末にPuB、PuB_2、P
uB_4及びPuB_6のうちの少なくとも1種類をそ
の混合量が全重量に対して1〜60重量%を加え、ペー
スト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜状とした後
、焼成することを特徴とする厚膜型正特性半導体素子の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22350984A JPS61101006A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22350984A JPS61101006A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61101006A true JPS61101006A (ja) | 1986-05-19 |
Family
ID=16799257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22350984A Pending JPS61101006A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61101006A (ja) |
-
1984
- 1984-10-24 JP JP22350984A patent/JPS61101006A/ja active Pending
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