JPS6158205A - 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 - Google Patents

厚膜型正特性半導体素子の製造方法

Info

Publication number
JPS6158205A
JPS6158205A JP17981284A JP17981284A JPS6158205A JP S6158205 A JPS6158205 A JP S6158205A JP 17981284 A JP17981284 A JP 17981284A JP 17981284 A JP17981284 A JP 17981284A JP S6158205 A JPS6158205 A JP S6158205A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thick film
powder
semiconductor element
glass frit
temperature coefficient
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17981284A
Other languages
English (en)
Inventor
野井 慶一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP17981284A priority Critical patent/JPS6158205A/ja
Publication of JPS6158205A publication Critical patent/JPS6158205A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は機器の保@1加熱などに用いられる面状発熱体
のなかで、ガラスフリットを必要としない厚膜型正特性
半導体素子の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 BaTi015系半導体からなる素子は所定温度以上で
急激に抵抗値が増大するスイッチング特性及びスイッチ
ング後の自己発熱特性を有し、昇温特性が速く自己温度
制御迎機能を有し、外部の制御回路を必要としないため
広く利用されている。
従来の正特性サーミスタ発熱体はBaTi05系半導体
粉末を加圧成形した後、焼成して得ていたが、実用可能
な厚膜状の正特性サーミスタ発熱体を得ることは困難で
あるとされていた。
従来、BaTi0 s系半導体を膜状に加工する方法と
しては、次のようなものが知られている。
■ ディスク形に成形した後、焼成したものを薄片に研
磨する。
■ 真空蒸着法によゆ基板上に薄膜を形成する。
■ BaTi0.系半導体粉末に導電性の添加剤とガラ
スフリットを加えてペースト状とし、基板上にスクリー
ン印刷した後、焼成する。
しかし、前記■の方法ではBaTi05系半導体の結晶
粒子径が大きくもろいため、膜状にまで研磨することは
甚だ困難である。また、前記■の方法では操作が面倒で
あり、発熱体に適した大電力を得ることがむつかしい。
さらに、前記■の方法でぽ面積抵抗が高くなり易く制御
が困難であり、発熱体には適さず、またあらかじめガラ
スフIJ ン)を調合、焼成しておかなければならず、
面倒であると共にガラスフリットの材質によってはBa
TiO3系半導体の持つスイッチング特性及び自己発熱
特性′を劣化させる。そして、ガラスフリットを加える
ことによりBaTiO3系半導体とガラスフリットの耐
熱性、熱膨張係数の差から熱衝撃に弱く、熱伝導が妨げ
られる。さらに、導電性の添加剤とガラスフリットを均
一に混合することは困難であり、特性にばらつきを生じ
る原因の一つとなっている。
発明の目的 そこで本発明では前記従来技術の欠点であった製造上の
繁雑さを解決し、ガラスフリットを用いずに厚膜状にす
ることにより熱衝撃性、熱伝導性に優れ、均一な特性を
持つ厚膜型正特性半導体素子を容易に製造できる方法を
提供することを目的としている。
発明の構成 本発明の厚膜型正特性半導体素子の製造方法は、BaT
iO3系半導体粉末にPrB6を1〜60重量係重量回
加−スト状にした混合物を基板上に塗布して厚膜状とし
た後焼成することに工り厚膜型正特性半導体素子を得よ
うとするものである。
従来の導電性添加剤とガラスフリットを用いる方法では
BaTi05系半導体粉末同志の電気的接続のために4
電性添加剤が必要であり、BaTiO3系粉末同志を物
理的に接続するのにガラスフリットが必要であった。
しかし、本発明によれば導電性添加剤とガラスフリット
の両方の役割をはたすものとして、PrB6を用いたと
ころに特徴を有している。このPrB 6は常温では導
体であり、1000〜1ioo’c以上の温度になると
一部分が分解して粒子表面に8205が析出するが、粒
子内部は元のままで表面のB2O3膜によゆ分解が阻止
される。従って、BaTiO3系半導体粉末と、PrB
 6粉末を混合して焼成すると、PrB 6の表面に析
出するB2O5がガラスフリットと同じ役割をし、粒子
内部が導電性添加剤の役割をするため、PrB6を添加
するだけでガラスフリットを必要としない早膜型正特性
半導体素子が得られる。
また、導電性金属を添加することにより熱伝導性が悪い
ガラスフリットに較べ熱伝導性が良くなり、熱Ii7′
J5性も向上する。
実砲例の説明 以下に本発明の実施例をあげて第1図と共に具体的に説
明する。
実施例1 BaTi03に1.0モル%のNb2O5を加え130
0でで焼成した後、粉砕してBaT工05系半導体粉末
を得る。前記BaT工03系半導体粉末に全重量に対し
て3重量襲のPrB6粉末を加え均一に混合し、さらに
α−テルピネオールを加えてペースト状混合物1を作る
一方、A(120s などからなる基板2上にあらかじ
め一対のAgなどの導電性物質からなる電極3゜4を設
けておき、前記電極3,4上にその電極3゜4の一部が
残るように前記ペースト状混合物1をスクリーン印刷な
どにより塗布し、室温から10′c/ minの昇温速
度で1350’Cまで昇温し、1時間作持した後、炉内
放冷する。このようにして厚膜型正特性半導体素子を得
た。
実施例2 実施例1と同様にしてBaTi03に3.0モル係のY
2O3を加え1260℃で焼成した後、粉砕してBaT
iO3系半導体粉末を得る。前記BaTiO3系半導体
粉末に全重量に対して4o重量%のPrB6粉末を加え
均一に混合し、さらにα−テルピネオールを加えてペー
スト状混合物1にする。ついで1、実施例1と同様に前
記基板2上にあらかじめ前記電極3,4を設けておき、
前記電極3.4の一部が残るように前記ペースト状混合
物1をスクリーン印刷などにより塗布し、室温から1o
 ’c / sinの昇温速度で1300’Gまで昇温
し、30分間保持した後、炉内放冷する。このようにし
て厚膜型半導体素子を得た。
こうして得た厚膜型半導体素子の室温での面fat抵抗
は実施例1の場合4.7にΩ/cA  であり、実施例
2の場合0.4にΩ10Aであり、各々の温度と抵抗値
の関係は第2図に示した通りであった。第2図で人は実
施例1により得られた素子の特性、Bは実砲例2の場合
の特性である。
発明の効果 以上のように本発明の製造方法によれば、PrB 6扮
末が従来の導電性添加剤とガラスフリットの両方の役割
をはたし、電気的接続、物理的接続に十分な効果があり
、ガラスフリットなしで厚膜状正特性半導体素子が得ら
れることとなる。    ゛また、ガラスフリットとい
う熱伝導の悪いものKかわって熱伝導のよい導電性金属
PrB6を用いることにより、熱伝導が良くなり熱衝撃
性も向上する。さらに、スクリーン印刷などにより製造
できることから作業が容易で量産が可能である。
なお、本発明において3a’I’i05系半導体粉末と
してはBaTiO3に各種の添加剤を加えて半導体化し
たものであればなんでもよい。また、PrB6粉末の添
加量を全重量に対して1〜60重量係と規定したのは、
1重量%未満では面債抵抗が大きくなりすぎ発熱体に不
適当であり、BaT工03粉末同志の物理的固定もでき
なく、一方60M量チを越えると面積抵抗が小さくなり
すぎ、自己制御特性(PTC特性)が小さくなり発熱体
に不適当になるためである。さらに、BaTiO3系半
導体粉末とPrB6粉末をペースト状にするのに有機溶
剤(実施例ではα〜テルピネオール)を用いたが、ペー
スト状にできるものであればなんでもよい。
以上述べたように本発明によれば、ガラスフリットを必
要としない厚膜型正特性半導体素子が容易に製造でき、
その実用上の効果は大きいものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法により得られる厚膜型正特性半導体
素子を示す一部切欠斜視図、第2図は本発明の実施例に
よる素子の温度と抵抗値の関係を示す図である。 1・・・・ペースト状混合物、2・・・・・基板、3,
4・・・・・・電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. BaTiO_3系半導体粉末PrB_6を1〜60重量
    %加え、ペースト状にした混合物を基板上に塗布して厚
    膜状とした後、焼成してなることを特徴とする厚膜型正
    特性半導体素子の製造方法。
JP17981284A 1984-08-29 1984-08-29 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 Pending JPS6158205A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17981284A JPS6158205A (ja) 1984-08-29 1984-08-29 厚膜型正特性半導体素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17981284A JPS6158205A (ja) 1984-08-29 1984-08-29 厚膜型正特性半導体素子の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6158205A true JPS6158205A (ja) 1986-03-25

Family

ID=16072320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17981284A Pending JPS6158205A (ja) 1984-08-29 1984-08-29 厚膜型正特性半導体素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6158205A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6158205A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158209A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS61101008A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60261109A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158210A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158204A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158211A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS61101007A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60260103A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS61101004A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6012702A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60260102A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158208A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158207A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS61101009A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6012701A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6012704A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS59111302A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60261107A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60261105A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS60206103A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS61101006A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6158203A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6064403A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法
JPS6012705A (ja) 厚膜型正特性半導体素子の製造方法