JPS60258941A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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- JPS60258941A JPS60258941A JP11490884A JP11490884A JPS60258941A JP S60258941 A JPS60258941 A JP S60258941A JP 11490884 A JP11490884 A JP 11490884A JP 11490884 A JP11490884 A JP 11490884A JP S60258941 A JPS60258941 A JP S60258941A
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は樹脂封止型半導体装置、特にフラットパッケー
ジタイプの樹脂封止型半導体装置に適用してその樹脂ク
ラック発生を防止するためのパッケージデザインに関す
る。
ジタイプの樹脂封止型半導体装置に適用してその樹脂ク
ラック発生を防止するためのパッケージデザインに関す
る。
第2図〈A〉、同図(B)は夫々従来のフラットパッケ
ージタイプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図である
。これらの図において、1は樹脂モールド層、2は半導
体ベレット、3は金属製のベッド部、4は金属製のリー
ド、5はボンディングワイヤである。また、第2図(A
)中のT1〜T4は各部の厚さである。図示のようにT
1〜T4の値、及びTI /T4の比率が異なる点を除
けば、第2図(A)及び同図(B)に示したフラットパ
ッケージタイプの樹脂封止型半導体装置は全く同じ構造
を有している。
ージタイプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図である
。これらの図において、1は樹脂モールド層、2は半導
体ベレット、3は金属製のベッド部、4は金属製のリー
ド、5はボンディングワイヤである。また、第2図(A
)中のT1〜T4は各部の厚さである。図示のようにT
1〜T4の値、及びTI /T4の比率が異なる点を除
けば、第2図(A)及び同図(B)に示したフラットパ
ッケージタイプの樹脂封止型半導体装置は全く同じ構造
を有している。
ところで、例えば第2図(A>のものでは、樹脂モール
ド層1の全体の厚さを1.5mnとする場合、T+ =
0.63#、T2 =0.2繭、T3−〇、’ 15M
、T4 =0.52姻、TI /’T4 = 1 。
ド層1の全体の厚さを1.5mnとする場合、T+ =
0.63#、T2 =0.2繭、T3−〇、’ 15M
、T4 =0.52姻、TI /’T4 = 1 。
2で製造されている。
また第2図(B)のものでは、樹脂モールド層1の全体
の厚さを2.0a+y+とした場合、Tt =0゜7I
nIn、 T2 =0.2mm、 T3 =0.15m
n、 T4−O,95#、TI /T4 =0.74で
製造されている。
の厚さを2.0a+y+とした場合、Tt =0゜7I
nIn、 T2 =0.2mm、 T3 =0.15m
n、 T4−O,95#、TI /T4 =0.74で
製造されている。
上記のような寸法は、主に11脂モ一ルド層1を形成す
る際の成形性を重視して設定されたものである。
る際の成形性を重視して設定されたものである。
上述のようなフラットパッケージタイプの樹脂封止型半
導体装置を例えばサーキットボードに実装する場合、実
装工程の自動化を図るため、近年では半田リフロー法が
多用されている。このように実装工程の自動化が可能に
なったことから、フランI・パッケージタイプの樹脂封
止型半導体装置に対する需要は年々増大して来ている。
導体装置を例えばサーキットボードに実装する場合、実
装工程の自動化を図るため、近年では半田リフロー法が
多用されている。このように実装工程の自動化が可能に
なったことから、フランI・パッケージタイプの樹脂封
止型半導体装置に対する需要は年々増大して来ている。
ところが、半田リフロー法では樹脂封止型半導体装置の
製品全体を230〜260℃程度の高温で処理するため
、製品に熱ストレスが加わる。他方、従来の製品は熱ス
トレスに対するマージンが小さいため、半田リフローの
後に樹脂モールド層1にクラック等の外形変化を生じる
など、信頼性に開角があった。
製品全体を230〜260℃程度の高温で処理するため
、製品に熱ストレスが加わる。他方、従来の製品は熱ス
トレスに対するマージンが小さいため、半田リフローの
後に樹脂モールド層1にクラック等の外形変化を生じる
など、信頼性に開角があった。
特に最近では半導体ペレット2が大型化すると共に、樹
脂モールド層1の厚さが薄くなる傾向にあるため、上記
の熱ストレスによるクラック発生等の問題がより一層顕
著に現れるようになっている。
脂モールド層1の厚さが薄くなる傾向にあるため、上記
の熱ストレスによるクラック発生等の問題がより一層顕
著に現れるようになっている。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、熱ストレス
に対するマージンが大きく、半田リフロー法による実装
を行なっても樹脂モールド層にクラック等の外形変化を
生じない、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を提供す
るものである。
に対するマージンが大きく、半田リフロー法による実装
を行なっても樹脂モールド層にクラック等の外形変化を
生じない、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を提供す
るものである。
本発明による樹脂封止型半導体装置は基本的には第2図
(A)(B)の従来品と同じ構造で、樹脂モールド層全
体の厚さ、前記T1及びT4の値、T 1/′T 4の
比率等を最適化することにより、熱ストレスに対するフ
ラットパッケージの強度を向上したものである。
(A)(B)の従来品と同じ構造で、樹脂モールド層全
体の厚さ、前記T1及びT4の値、T 1/′T 4の
比率等を最適化することにより、熱ストレスに対するフ
ラットパッケージの強度を向上したものである。
即ち、第2図(A>を参照して言えば、半導体ペレット
2の寸法が5.0m以上、樹脂モールド層1の全体の厚
さが2.2m以下、T1及びT4が0.7M以上、且つ
TI /T4が0.9〜1゜1以内であることを特徴と
するもめである。
2の寸法が5.0m以上、樹脂モールド層1の全体の厚
さが2.2m以下、T1及びT4が0.7M以上、且つ
TI /T4が0.9〜1゜1以内であることを特徴と
するもめである。
以下に本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例になるフラットパッケージ
タイプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。図
示のように、この実施例でもその基本的な構造は第2図
(A)(B)の従来の樹脂封止型半導体装置と全く同じ
で、樹脂モールド層1、半導体ペレット2、ベッド部3
、リード4、ボンディングワイヤ5を具備している。但
し、■1〜T2の値、その他の具体的な寸法は下記の5
− 通りで、第2図(A)(B)の従来品とは異なっている
。
タイプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。図
示のように、この実施例でもその基本的な構造は第2図
(A)(B)の従来の樹脂封止型半導体装置と全く同じ
で、樹脂モールド層1、半導体ペレット2、ベッド部3
、リード4、ボンディングワイヤ5を具備している。但
し、■1〜T2の値、その他の具体的な寸法は下記の5
− 通りで、第2図(A)(B)の従来品とは異なっている
。
Tr (ペレット上の樹脂モールド層の厚さ);0.8
m T2 (ペレットの厚さ); 0.25m++ T3 (ベッド部の厚さ): 0.15a T4 (ベッド部下の樹脂モールド層の厚さ);0.8 上記実施例の樹脂封止型半導体装置20個につき、これ
を260℃の半田槽に10秒間浸漬して樹脂クラック等
の不良発生個数を調べ、その耐熱性を試験した。また、
比較例として第2図(A)及び(B)の従来品について
も同様の耐熱性試験を行なった。これらの試験結果を下
記第1表に示す。
m T2 (ペレットの厚さ); 0.25m++ T3 (ベッド部の厚さ): 0.15a T4 (ベッド部下の樹脂モールド層の厚さ);0.8 上記実施例の樹脂封止型半導体装置20個につき、これ
を260℃の半田槽に10秒間浸漬して樹脂クラック等
の不良発生個数を調べ、その耐熱性を試験した。また、
比較例として第2図(A)及び(B)の従来品について
も同様の耐熱性試験を行なった。これらの試験結果を下
記第1表に示す。
第1表
不良発生個数
実施例品 0/20
6−
従来品A 20 、/ 20
従来品B 15/20
この試験結果から明らかなように、上記実施例の樹脂封
止型半導体装置は従来品に比較して著しく耐熱性が改善
されており、半田リフロー法による自動実装に十分に耐
え得るものである。
止型半導体装置は従来品に比較して著しく耐熱性が改善
されており、半田リフロー法による自動実装に十分に耐
え得るものである。
次に1本発明に至った過程を説明すると、問題の熱スi
〜レスの原因は半田浸漬時に製品内に生じる熱応力であ
り、この応力(σ)は一般に次式で表わされる。
〜レスの原因は半田浸漬時に製品内に生じる熱応力であ
り、この応力(σ)は一般に次式で表わされる。
σ=に−E・α・Δ丁
なお、上記式において、
K:定数
E:弾性係数
α:線膨張係数
ΔT:温度差
である。樹脂封止型半導体装置、特にフラットパ; ツ
ケージタイプでは該応力σが樹脂モールド層1、半導体
ペレット2、ベッド部3の各部に生じ、それらの総和ど
してパッケージの熱ストレスが発現する。そこで、樹脂
封止型半導体装置を構成する各材料のE、αおよびE×
αの値を調べてみると下記第2表の通りで、これらの値
から樹脂モールド層1に生じる応力が最も大きいことが
分る。
ケージタイプでは該応力σが樹脂モールド層1、半導体
ペレット2、ベッド部3の各部に生じ、それらの総和ど
してパッケージの熱ストレスが発現する。そこで、樹脂
封止型半導体装置を構成する各材料のE、αおよびE×
αの値を調べてみると下記第2表の通りで、これらの値
から樹脂モールド層1に生じる応力が最も大きいことが
分る。
第2表
これらの応力を熱ストレスどして最少限にする方法とし
て各材料の厚さを薄くすることも考えられる。しかし、
これは単位面積当りで言えることであって、面積が大き
くなると全体の応力も大きくなるから、当然に影響がで
てくる。また、薄(した分だけその材料の絶縁強度も小
さくなるから、当然ながら厚さには下限が存在する。
て各材料の厚さを薄くすることも考えられる。しかし、
これは単位面積当りで言えることであって、面積が大き
くなると全体の応力も大きくなるから、当然に影響がで
てくる。また、薄(した分だけその材料の絶縁強度も小
さくなるから、当然ながら厚さには下限が存在する。
そこで、ペレッI−サイズ0.5m平方、ペレット厚さ
0.3m、該ベレットに最適化されたフレーム厚0.1
5#のリードフレームを用い、■!及びT4を種々変化
させたフラン1−パッケージタイプの樹脂封止型半導体
装置を作製し、これらの夫々について半田浸漬試験を行
なったところ第3図に示す結果が得られた。この試験結
果から、半田浸漬の熱衝撃に耐え得るためには、T1及
びT2の最小値が0.7111#lで、Tt /T2の
比率が0.9〜1.1であれば良いことが分る。
0.3m、該ベレットに最適化されたフレーム厚0.1
5#のリードフレームを用い、■!及びT4を種々変化
させたフラン1−パッケージタイプの樹脂封止型半導体
装置を作製し、これらの夫々について半田浸漬試験を行
なったところ第3図に示す結果が得られた。この試験結
果から、半田浸漬の熱衝撃に耐え得るためには、T1及
びT2の最小値が0.7111#lで、Tt /T2の
比率が0.9〜1.1であれば良いことが分る。
この知見に基づき、上記実施例の樹脂封止型半導体装置
を試作して評価したところ既述のような良好な成績が得
られ、本発明を完成するに至ったものである。
を試作して評価したところ既述のような良好な成績が得
られ、本発明を完成するに至ったものである。
以上詳述したように、本発明によれば特にフラー〇−
ットパッケージタイプの樹脂封止型半導体装置における
耐熱性を著しく改善することができ、装置の信頼性低下
を生じることなく半田リフロー法による実装作業の自動
化が可能となる等、顕著な効果が得られるものである。
耐熱性を著しく改善することができ、装置の信頼性低下
を生じることなく半田リフロー法による実装作業の自動
化が可能となる等、顕著な効果が得られるものである。
第1図は本発明の一実施例になるフラットパッケージタ
イプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図、第2図(A
>(B)は夫々従来のフラットパッケージタイプによる
樹脂封止型半導体装置を示す断面図、第3図は本発明に
至るために行なった耐熱衝撃試験の結果を示す線図であ
る。 1・・・樹脂モールド層、2・・・半導体ペレット、3
・・・ベッド部、4・・・リード、5・・・ボンディン
グワイヤ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 10− 第1図 第2図 M3図 ”4 (m m )
イプの樹脂封止型半導体装置を示す断面図、第2図(A
>(B)は夫々従来のフラットパッケージタイプによる
樹脂封止型半導体装置を示す断面図、第3図は本発明に
至るために行なった耐熱衝撃試験の結果を示す線図であ
る。 1・・・樹脂モールド層、2・・・半導体ペレット、3
・・・ベッド部、4・・・リード、5・・・ボンディン
グワイヤ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 10− 第1図 第2図 M3図 ”4 (m m )
Claims (1)
- 金属製のベッド部と、該ベッド部上にマウントされた半
導体ペレットと、前記ベッド部の周囲に配設された金属
製のリードと、該リードのベッド側端部を前記半導体ベ
レットの表面に形成された内部端子に接続するボンディ
ングワイヤと、前記ベッド部、半導体ペレット、ボンデ
ィングワイヤ及び前記リードのボンディング端を封止す
る樹脂モールド層とを具備し、前記リードの他端部が前
記樹脂モールド層から外方に延出されてなる樹脂封止型
半導体装置において、前記半導体ベレットのサイズが5
.0#平方以上であること、前記樹脂モールド層の厚さ
が2.2am以下であること、前記半導体ペレットの頂
面上を覆う前記樹脂モールド層の厚さ及び前記ベッド部
下面を覆う樹脂モールド層の厚さが0.7mta以上で
、両者の厚さの比が0.9〜1.1以内であることを特
徴とする樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11490884A JPS60258941A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 樹脂封止型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11490884A JPS60258941A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60258941A true JPS60258941A (ja) | 1985-12-20 |
Family
ID=14649638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11490884A Pending JPS60258941A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60258941A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012137620A1 (ja) * | 2011-04-05 | 2012-10-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
-
1984
- 1984-06-05 JP JP11490884A patent/JPS60258941A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012137620A1 (ja) * | 2011-04-05 | 2012-10-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
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