JPH03205857A - 樹脂封止型電子部品 - Google Patents
樹脂封止型電子部品Info
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- JPH03205857A JPH03205857A JP2000801A JP80190A JPH03205857A JP H03205857 A JPH03205857 A JP H03205857A JP 2000801 A JP2000801 A JP 2000801A JP 80190 A JP80190 A JP 80190A JP H03205857 A JPH03205857 A JP H03205857A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
樹脂封止型電子部品の構造に関し、
プリント板実装時の半田リフローなどによる熱衝撃に際
してもパッケージの損傷が発生しないで良好な状態に保
持することを目的とし、半導体集積回路または混成集積
回路などが形成された基板をリードフレームに搭載し、
プラスチックモールドにより一体外装されてなる樹脂封
止型電子部品において、前記基板に複数の基板欠除部を
設け、基板と外装樹脂との結合固着をよくするように樹
脂封止型電子部品を構成する。
してもパッケージの損傷が発生しないで良好な状態に保
持することを目的とし、半導体集積回路または混成集積
回路などが形成された基板をリードフレームに搭載し、
プラスチックモールドにより一体外装されてなる樹脂封
止型電子部品において、前記基板に複数の基板欠除部を
設け、基板と外装樹脂との結合固着をよくするように樹
脂封止型電子部品を構成する。
本発明は、樹脂封止型電子部品,とくに、能動素子と受
動素子が混成実装され、プラスチックモールドにより一
体外装された混成集積回路装置の基板構造に関する。
動素子が混成実装され、プラスチックモールドにより一
体外装された混成集積回路装置の基板構造に関する。
最近、半導体集積回路や混成集積回路のパッケーシとし
て、エボキシ樹脂等の樹脂材を用い、それら回路基板を
リードフレームと共にインサートモールドした表面実装
型の構造のものが多く使用されている。
て、エボキシ樹脂等の樹脂材を用い、それら回路基板を
リードフレームと共にインサートモールドした表面実装
型の構造のものが多く使用されている。
第4図は従来の樹脂封止型電子部品の構造を示す図で、
同図(イ)はリードフレームと基板、同図(口)は樹脂
封止後の断面図である。
同図(イ)はリードフレームと基板、同図(口)は樹脂
封止後の断面図である。
リードフレーム2には基板1′を搭載するステージ2l
が4隅に設けられており、サポートパー22でタイパー
23にぞれぞれ接続支持されている。基板1′は,たと
えば、混成集積回路用のセラミック基板で導体配線その
他が形成されている。11, 12. 13はそれぞれ
基板1゛に搭載された半導体IC, コンデンサチップ
,抵抗素子である。基板1′は4隅のステージ2lに,
たとえば、エポキシ樹脂系の接着材で接着される。リー
ドフレーム2のリード24とこ\には図示してない基板
1゛のボンディングパッドとはボンディングワイヤ5で
接続されている。
が4隅に設けられており、サポートパー22でタイパー
23にぞれぞれ接続支持されている。基板1′は,たと
えば、混成集積回路用のセラミック基板で導体配線その
他が形成されている。11, 12. 13はそれぞれ
基板1゛に搭載された半導体IC, コンデンサチップ
,抵抗素子である。基板1′は4隅のステージ2lに,
たとえば、エポキシ樹脂系の接着材で接着される。リー
ドフレーム2のリード24とこ\には図示してない基板
1゛のボンディングパッドとはボンディングワイヤ5で
接続されている。
上記のごとくリードフレーム2の上に搭載された基板1
”を,たとえば、エポキシ系の熱硬化性樹脂によりトラ
ンスファーモールド成形し、リード成形・リード切断す
ると、同図(口)に示した樹脂封止型電子部品が得られ
る。
”を,たとえば、エポキシ系の熱硬化性樹脂によりトラ
ンスファーモールド成形し、リード成形・リード切断す
ると、同図(口)に示した樹脂封止型電子部品が得られ
る。
しかし、この種のパッケージにおいては、製造後プリン
ト回路基板などに実装するまでの保存期間中に外装樹脂
に水分が吸収されており,たとえば、プリント回路基板
への搭載のためのりフローその他の半田付け処理に際し
て、吸収されている水分がガス化して膨張し種々の障害
が発生することがある。
ト回路基板などに実装するまでの保存期間中に外装樹脂
に水分が吸収されており,たとえば、プリント回路基板
への搭載のためのりフローその他の半田付け処理に際し
て、吸収されている水分がガス化して膨張し種々の障害
が発生することがある。
たとえば、第3図は従来製品における外装樹脂の障害発
生状況を示す図で、同図(イ)は超音波探傷法により観
測された剥離またはクラック(平面図)である。超音波
探傷法はよく知られているように,たとえば、水中に入
れた被検査物体に超音波を50μmのステップでスキャ
ン照射し一試料に約5分かけて非破壊的に検査して画像
処理したものである。図中、点線7は剥離部であり実線
8は外装樹脂のクラックである。いずれも肉眼観察では
検出できない初期段階のものである。図示したごとく、
剥離やクラックは基板l”を搭載したステージ2lを囲
むように4隅から発生し易いことがわかる。同図(口)
は外装樹脂のクラック(側断面図)で剥離部7を含めて
クラック8の発生の極端なものを模式的に図示したもの
である。
生状況を示す図で、同図(イ)は超音波探傷法により観
測された剥離またはクラック(平面図)である。超音波
探傷法はよく知られているように,たとえば、水中に入
れた被検査物体に超音波を50μmのステップでスキャ
ン照射し一試料に約5分かけて非破壊的に検査して画像
処理したものである。図中、点線7は剥離部であり実線
8は外装樹脂のクラックである。いずれも肉眼観察では
検出できない初期段階のものである。図示したごとく、
剥離やクラックは基板l”を搭載したステージ2lを囲
むように4隅から発生し易いことがわかる。同図(口)
は外装樹脂のクラック(側断面図)で剥離部7を含めて
クラック8の発生の極端なものを模式的に図示したもの
である。
このようなクラックは勿論,目視できないような微小な
剥離が生じても、デバイス全体の長期の信頼性の低下を
招くという問題があり、その解決が求められている。
剥離が生じても、デバイス全体の長期の信頼性の低下を
招くという問題があり、その解決が求められている。
上記した課題は、半導体集積回路または混成集積回路な
どが形成された基板1をリードフレーム2に搭載し、プ
ラスチックモールドにより一体外装されてなる樹脂封止
型電子部品において、前記基板lに複数の基板欠除部3
を設け、基板lと外装樹脂との結合固着をよくした樹脂
封止型電子部品により解決することができる。
どが形成された基板1をリードフレーム2に搭載し、プ
ラスチックモールドにより一体外装されてなる樹脂封止
型電子部品において、前記基板lに複数の基板欠除部3
を設け、基板lと外装樹脂との結合固着をよくした樹脂
封止型電子部品により解決することができる。
本発明によれば、基板1の周辺部に形成された切り欠き
状の基板欠除部3aと外装樹脂,あるいは、基板lの内
部に形成された貫通孔からなる基板欠除部3bと外装樹
脂が嵌合して結合固着し、両者はきわめて強固に密着さ
れているので,たとえ、外装樹脂に水分が吸収されてい
て半田付け時に加熱されてガス化し応力が加わったとし
ても、基板lと外装樹脂の剥離やクラックが発生し難く
なるのである。
状の基板欠除部3aと外装樹脂,あるいは、基板lの内
部に形成された貫通孔からなる基板欠除部3bと外装樹
脂が嵌合して結合固着し、両者はきわめて強固に密着さ
れているので,たとえ、外装樹脂に水分が吸収されてい
て半田付け時に加熱されてガス化し応力が加わったとし
ても、基板lと外装樹脂の剥離やクラックが発生し難く
なるのである。
第1図は本発明の実施例の構造を示す図で、同図(イ)
はリードフレームと基板を、同図(口)は樹脂封止後の
断面図を示す。
はリードフレームと基板を、同図(口)は樹脂封止後の
断面図を示す。
リードフレーム2は前記第4図に示したものと同様のも
のを使用しているので、基板lの裏面の大半は外装樹脂
に密着できる構造になっている。
のを使用しているので、基板lの裏面の大半は外装樹脂
に密着できる構造になっている。
基板lは,たとえば、混成集積回路用の厚さ0.6 m
m, 大きさ23 X 23m mのセラミック基板て
圧膜導体配線その他が形成されている。11, 12.
13はそれぞれ基板lに搭載接着された半導体IC.
コンデンサチップ,抵抗素子である。基板1は4隅のス
テージ21に,たとえば、エポキシ樹脂系の接着材で接
着される。リードフレーム2のリード24とこ\には図
示してない基板1のボンディングパッドとはボンディン
グワイヤ5で接続されている。
m, 大きさ23 X 23m mのセラミック基板て
圧膜導体配線その他が形成されている。11, 12.
13はそれぞれ基板lに搭載接着された半導体IC.
コンデンサチップ,抵抗素子である。基板1は4隅のス
テージ21に,たとえば、エポキシ樹脂系の接着材で接
着される。リードフレーム2のリード24とこ\には図
示してない基板1のボンディングパッドとはボンディン
グワイヤ5で接続されている。
基板Iの4つの周辺部には,たとえば、直径0.4mm
の半円形切り欠き状の基板欠除部3aが1.6mmピッ
チで等間隔に形成され,かつ、前記4つの周辺端部から
約2mm入った直線上に直径0.2mmφの貫通孔から
なる基板欠除部3bを同じ<1.6mmピッチで等間隔
に形成してある。
の半円形切り欠き状の基板欠除部3aが1.6mmピッ
チで等間隔に形成され,かつ、前記4つの周辺端部から
約2mm入った直線上に直径0.2mmφの貫通孔から
なる基板欠除部3bを同じ<1.6mmピッチで等間隔
に形成してある。
上記のごとくリードフレーム2の上に搭載された基板1
を,たとえば、エポキシ系の熱硬化性樹脂によりトラン
スファーモールド成形し、リード成形・リード切断して
外形寸法が28X28X4 mmのPQFP(プラスチ
ック・クワド・フラット・パッケージ)タイプの,たと
えば、同図(口)に示した樹脂封止型電子部品を作製し
た(試料No.1)。
を,たとえば、エポキシ系の熱硬化性樹脂によりトラン
スファーモールド成形し、リード成形・リード切断して
外形寸法が28X28X4 mmのPQFP(プラスチ
ック・クワド・フラット・パッケージ)タイプの,たと
えば、同図(口)に示した樹脂封止型電子部品を作製し
た(試料No.1)。
第2図は本発明の他の基板実施例を示す図である。
同図(イ)は基板1の周辺部に直径0.4mmの半円形
切り欠き状の基板欠除部3aだけを1.6mmピッチで
等間隔に設けた場合で、前記第1図で説明したのと同様
にしてリードフレーム2に搭載接着後、樹脂封止して試
料を作製した(試料No. 2)。
切り欠き状の基板欠除部3aだけを1.6mmピッチで
等間隔に設けた場合で、前記第1図で説明したのと同様
にしてリードフレーム2に搭載接着後、樹脂封止して試
料を作製した(試料No. 2)。
同図(口)は基板1の4つの周辺端部から約2mm入っ
た直線上に直径0.2mmφの貫通孔からなる基板欠除
部3bを同じ<1.6mmピッチで等間隔に形成した場
合で、前記第1図で説明したのと同様にしてリードフレ
ーム2に搭載接着後、樹脂封止して試料を作製した(試
料No. 3)。
た直線上に直径0.2mmφの貫通孔からなる基板欠除
部3bを同じ<1.6mmピッチで等間隔に形成した場
合で、前記第1図で説明したのと同様にしてリードフレ
ーム2に搭載接着後、樹脂封止して試料を作製した(試
料No. 3)。
同図(ハ)は基板1の内部に直径0.2mmφの貫通孔
からなる基板欠除部3bを、導体配線部や搭載部品の邪
魔にならない部分に適当な間隔で150個形成した場合
で、前記第1図で説明したのと同様にしてリードフレー
ム2に搭載接着後、樹脂封止して試料を作製した(試料
No. 4)。
からなる基板欠除部3bを、導体配線部や搭載部品の邪
魔にならない部分に適当な間隔で150個形成した場合
で、前記第1図で説明したのと同様にしてリードフレー
ム2に搭載接着後、樹脂封止して試料を作製した(試料
No. 4)。
以上4種類の本発明実施例の試料と従来例の試料とを、
下記第1表に示した条件で試験し超音波探傷法および目
視により検査した結果を同しく下記第l表にまとめて示
した。
下記第1表に示した条件で試験し超音波探傷法および目
視により検査した結果を同しく下記第l表にまとめて示
した。
放置条件は表示した各種吸湿環境に指定時間の間放置し
た条件を示す。半田付け方式は各放置条件に放置した試
料をプリント回路基板に半田付けする方法を示し、通常
、最も一般的に用いられる赤外線リフロ一法と噴流式デ
ィップ法の2つの方式について試験した。いずれの場合
も最高温度は260°Cに達する条件で半田付けを行っ
た。
た条件を示す。半田付け方式は各放置条件に放置した試
料をプリント回路基板に半田付けする方法を示し、通常
、最も一般的に用いられる赤外線リフロ一法と噴流式デ
ィップ法の2つの方式について試験した。いずれの場合
も最高温度は260°Cに達する条件で半田付けを行っ
た。
評価レベルはO,▲,×の3水準にとり、Oは全く異常
なしの場合,▲は一部に外装樹脂に剥離部7発生の場合
,×は全面剥離または外装樹脂にクラック8が発生した
場合である。
なしの場合,▲は一部に外装樹脂に剥離部7発生の場合
,×は全面剥離または外装樹脂にクラック8が発生した
場合である。
858C−85%−24H
赤外線85°C−85%−48H
リフロ85°C−85%−968
一法 85°C−85%−192H
○ ○ ○ ○
○ ○ O ○
○ ○ ○ ○
○ ▲ ○ ○
85°C−85%−24H
噴流式85°C−85%−48H
ディッ85°C−85%−96H
○ ○ ○ ○
O ○ ○ ○
○ ▲ O ○
○
プ法 85°C−85%−192H O X ▲
O ×予期されたように全般的には噴流式ディップ
法の方が赤外線リフロー法による半田付けよりも条件が
厳しいことがわかる。さらに、従来例の場合には最も条
件のゆるい85°C−85%−24Hといった放置条件
以外では半田付けに際して、外装樹脂に障害が発生する
危険が極めて高いことがわかる。
O ×予期されたように全般的には噴流式ディップ
法の方が赤外線リフロー法による半田付けよりも条件が
厳しいことがわかる。さらに、従来例の場合には最も条
件のゆるい85°C−85%−24Hといった放置条件
以外では半田付けに際して、外装樹脂に障害が発生する
危険が極めて高いことがわかる。
これに対して、本発明の実施例の場合には試料No.
1あるいは試料NO.4ではいずれの放置条件で、いず
れの半田付け方式においても全く外装樹脂に障害が発生
せず、極めて堅牢に樹脂封止されていることがわかった
。その他の試料No. 2あるいは試料No. 3にお
いても従来例に比較すれば格段に改善されていることが
わかる。
1あるいは試料NO.4ではいずれの放置条件で、いず
れの半田付け方式においても全く外装樹脂に障害が発生
せず、極めて堅牢に樹脂封止されていることがわかった
。その他の試料No. 2あるいは試料No. 3にお
いても従来例に比較すれば格段に改善されていることが
わかる。
上記実施例における基板欠除部3の一部または全部を層
間配線導通用の,いわゆる、スルーホールで共用しても
よい。
間配線導通用の,いわゆる、スルーホールで共用しても
よい。
また、上記した実施例は、混成集積型の回路装置につい
て説明したが、半導体集積回路だけで構成した基板,す
なわち、シリコン基板からなる集積回路装置にも本発明
を適用できる。
て説明したが、半導体集積回路だけで構成した基板,す
なわち、シリコン基板からなる集積回路装置にも本発明
を適用できる。
なお、以上述べた実施例は一例を示したもので、本発明
の趣旨に添うものである限り、使用する素材や構成,製
造プロセスなど適宜好ましいもの、あるいはその組み合
わせを用いることができることは言うまでもない。
の趣旨に添うものである限り、使用する素材や構成,製
造プロセスなど適宜好ましいもの、あるいはその組み合
わせを用いることができることは言うまでもない。
以上述べたように、本発明によれば、基板lに形成され
た基板欠除部3と外装樹脂が嵌合して、両者はきわめて
強固に密着されているので,たとへ、外装樹脂に水分が
吸収されていて半田付け時に加熱されてガス化し応力が
加わったとしても、基板1と外装樹脂の剥離やクラック
が発生し難くなる。したがって、樹脂封止型電子部品の
品質および信頼性の向上に寄与するところが極めて大き
い。
た基板欠除部3と外装樹脂が嵌合して、両者はきわめて
強固に密着されているので,たとへ、外装樹脂に水分が
吸収されていて半田付け時に加熱されてガス化し応力が
加わったとしても、基板1と外装樹脂の剥離やクラック
が発生し難くなる。したがって、樹脂封止型電子部品の
品質および信頼性の向上に寄与するところが極めて大き
い。
第1図は本発明の実施例の構造を示す図、第2図は本発
明の他の基板実施例を示す図、第3図は従来製品におけ
る外装樹脂の障害発生状況を示す図、 第4図は従来の樹脂封止型電子部品の構造を示す図であ
る。 図において、 1は基板、 2はリードフレーム、 3 (3a,3b)は基板欠除部、 6は外装樹脂、 7は剥離部、 8はクラックである。 (イ)リートフし 乙と&板 ([T)樹脂封正後の断面灰 本発明O寅美櫂・II7)構童1ポTm第 1 配 (イ) (ロノ (ハ) 本発明のイ世の甚板夷U瞥ナ1を示す図酊 2 図 ?イ)超皆シ皮棟f易法1二Lり観濁゛1■kf−’I
’l已11まだ}1クラック(千面図)へ (O)9F校樹脂のワラ、77(1・1断面図)従来製
品にあ1アうタト裟樹脂の1M!!書餘生状記Σ示す図
第 3 ■ 24 (イ) 〕 ト゛゜フしームと朱仮 ([J)樹脂封止後の断面図
明の他の基板実施例を示す図、第3図は従来製品におけ
る外装樹脂の障害発生状況を示す図、 第4図は従来の樹脂封止型電子部品の構造を示す図であ
る。 図において、 1は基板、 2はリードフレーム、 3 (3a,3b)は基板欠除部、 6は外装樹脂、 7は剥離部、 8はクラックである。 (イ)リートフし 乙と&板 ([T)樹脂封正後の断面灰 本発明O寅美櫂・II7)構童1ポTm第 1 配 (イ) (ロノ (ハ) 本発明のイ世の甚板夷U瞥ナ1を示す図酊 2 図 ?イ)超皆シ皮棟f易法1二Lり観濁゛1■kf−’I
’l已11まだ}1クラック(千面図)へ (O)9F校樹脂のワラ、77(1・1断面図)従来製
品にあ1アうタト裟樹脂の1M!!書餘生状記Σ示す図
第 3 ■ 24 (イ) 〕 ト゛゜フしームと朱仮 ([J)樹脂封止後の断面図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体集積回路または混成集積回路などが形成された基
板(1)をリードフレーム(2)に搭載し、プラスチッ
クモールドにより一体外装されてなる樹脂封止型電子部
品において、 前記基板(1)に複数の基板欠除部(3)を設け、基板
(1)と外装樹脂との結合固着をよくすることを特徴と
した樹脂封止型電子部品。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000801A JPH03205857A (ja) | 1990-01-06 | 1990-01-06 | 樹脂封止型電子部品 |
EP90125080A EP0436907B1 (en) | 1990-01-06 | 1990-12-21 | Resin mold packaged electronic parts |
DE69020878T DE69020878T2 (de) | 1990-01-06 | 1990-12-21 | In Harz eingekapselte elektronische Gegenstände. |
US07/944,033 US5264730A (en) | 1990-01-06 | 1992-09-11 | Resin mold package structure of integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000801A JPH03205857A (ja) | 1990-01-06 | 1990-01-06 | 樹脂封止型電子部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03205857A true JPH03205857A (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=11483789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000801A Pending JPH03205857A (ja) | 1990-01-06 | 1990-01-06 | 樹脂封止型電子部品 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0436907B1 (ja) |
JP (1) | JPH03205857A (ja) |
DE (1) | DE69020878T2 (ja) |
Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
US7231712B2 (en) | 2003-09-29 | 2007-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a module |
JP2011077286A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
US20130112461A1 (en) * | 2011-11-08 | 2013-05-09 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Ceramic substrate and method of manufacturing the same |
JP6301031B1 (ja) * | 2017-04-21 | 2018-03-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3323958B2 (ja) * | 1993-06-14 | 2002-09-09 | ポリプラスチックス株式会社 | モールド形電気部品の製造方法 |
DE19716012A1 (de) * | 1997-04-17 | 1998-10-22 | Ulrich Dipl Ing Grauvogel | Elektronisches Bauelement für die Oberflächenaufbautechnik |
EP2790213A3 (en) | 2013-04-11 | 2015-04-01 | Chun Ho Fan | Cavity package |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61123162A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-11 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置用リ−ドフレ−ム |
JPS63114150A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-19 | Nec Corp | 混成集積回路 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57133655A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-18 | Pioneer Electronic Corp | Lead frame |
US4646435A (en) * | 1985-10-04 | 1987-03-03 | Raychem Corporation | Chip carrier alignment device and alignment method |
-
1990
- 1990-01-06 JP JP2000801A patent/JPH03205857A/ja active Pending
- 1990-12-21 DE DE69020878T patent/DE69020878T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-21 EP EP90125080A patent/EP0436907B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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US9107334B2 (en) * | 2011-11-08 | 2015-08-11 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Ceramic substrate and method of manufacturing the same |
JP6301031B1 (ja) * | 2017-04-21 | 2018-03-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2018193614A1 (ja) * | 2017-04-21 | 2018-10-25 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
US10615093B2 (en) | 2017-04-21 | 2020-04-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
DE112017000347B4 (de) | 2017-04-21 | 2021-08-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0436907A2 (en) | 1991-07-17 |
EP0436907B1 (en) | 1995-07-12 |
DE69020878T2 (de) | 1995-12-14 |
DE69020878D1 (de) | 1995-08-17 |
EP0436907A3 (en) | 1991-09-11 |
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