JPS60258483A - Ag被覆Cu材の表面処理法 - Google Patents

Ag被覆Cu材の表面処理法

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JPS60258483A
JPS60258483A JP11413584A JP11413584A JPS60258483A JP S60258483 A JPS60258483 A JP S60258483A JP 11413584 A JP11413584 A JP 11413584A JP 11413584 A JP11413584 A JP 11413584A JP S60258483 A JPS60258483 A JP S60258483A
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bta
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benzotriazole
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晃 松田
Nobuyuki Shibata
宣行 柴田
Shoji Shiga
志賀 章二
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Furukawa Electric Co Ltd
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/244Finish plating of conductors, especially of copper conductors, e.g. for pads or lands
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    • H05K3/282Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気・電子機器とその部品に使用されるAg被
覆Cu材の表面処理法に関し、特に長期間安定した電気
接続性を付与するものである。
(従来の技術) 一般に電気・電子機器とその部品には、Cu又はCu合
金からなる基材の表面にAQ又はAl1合金を被覆した
Ag被覆Cu材が用いられている。これ等は何れもAQ
特有の優れた導電性、耐食性、電気接続性等を経済的に
利用したもので、特に接点用を始め安定した電気接続性
が要求されるものが多い。電気接続性を安定させるため
には、接触抵抗が初期及び経時的に安定しており、表面
の滑り性が良好で摩耗損傷が小さく、耐食性が優れてい
ることが必要であるとされている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
AgAg被覆Cu材気接続性は同一の腐食皮膜が形成さ
れる場合には、腐食皮膜の厚さに比例して劣化すること
が知られているが、最近電気・電子機器の使用範囲の拡
大により複雑な厳しい環境下で使用されるようになり、
使用環境の相違から異なる腐食皮膜を生成し、耐食性と
電気接続性が比例しないようになってきた。
AQ又はAg合金の変色・腐食防止剤としてメルカプト
化合物の被着が有効であるとされているが、メルカプト
の被着ではA(I被覆Cu材の接触抵抗、滑り性、摩耗
特性等は改善されず、メルカプト化合物を被着しないも
のと同等又はこれより劣るもので、Ag被覆Cu材の電
気接続性を安定化させることはできない。またA(]被
覆Cu、tJの耐食性についても、メルカプト化合物の
被着では製造工程中の熱処理等による基材成分の拡散や
、圧延等によるAg被覆層の損傷に基づく基材の露出部
の腐食を防止することはできない。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はこれに鑑み種々研究の結果、Ap被覆Qu材に
長期間安定して電気接続性を付与することができる表面
処理法を開発したもので、Ag又はAg合金を被覆した
Cu又はCu合金材の表面に、メルカプト化合物(以下
Mと略記)とベンゾトリアゾール又はその誘導体(以下
BTAと略記)をM O,01〜5%、BTAo、01
〜10%の範囲内で、溶剤にMとBTAの濃度比M/B
TAを0.02〜50に単独又は混合した溶液として被
着することを特徴とするものである。
即ち本発明はM、!=BTAをM O,01〜5%、B
TA O,01〜10%の範囲内で単独又は混合して溶
剤に溶解して、MとBTAの濃度比M/BTAが0.0
2〜50の溶液とする。この単独又は混合溶液中に、A
g又はAg合金を被覆したCu又はCu合金材を浸漬す
るか、又は該部材の表面に、単独又は混合溶液をスプレ
ー等により塗布することにより、該部材の表面にMとB
TAを被着するものである。
Mとは一般式R−8)−1で示される有機化合物及びこ
れ等の無機塩類で、例えば脂肪族メルカプタンとして効
力及び蒸気圧の点から炭素数C+〜CI8に相当するメ
ルカプタンが適しており、ラウリルメルカプタン(C1
2H2SSH)、オクタデシルメルカプタン(CIBH
37SH)等である。また芳香族メルカプタンとしてフ
ェニルメルカプタン(Cs Hs SH) 、ベンジル
メルカプタン(Ce Hs CHz SH) 、チオ7
>スラノール(CI4H98H)等である。またその他
として2−メルカプトベンゾチアゾール(Cy l−1
5Sz N)’、2,5−ジメルカプトチアジアゾール
(Cz N283 H2) 、ペンズオキザゾールチオ
ール(c7H5Nos)、ベンズイミダゾールチオール
(C7Hs Nz S)等力する。
8TAとはベンゾトリアゾール又はその誘導体で、例え
ばベンゾトリアゾール、メチルベンゾトリアゾール、エ
チルベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール又はこれ
等の無機塩類やこれと有機アミン、有機カルボン酸等と
の反応生成物で、有機アミンとしてはメチルアミン、エ
チルアミン、プロピオン酸、安息香酸、アジピン酸等で
ある。
またMとBTAを単独又は混合して溶解する溶剤にはト
ルエン、アロマチックソルベント等を用いる。
〔作 用〕
MとBTAはその濃度比が適正であれば、AQに対して
Mが吸着し、Cuに対してBTAが吸着し、それぞれ強
固な皮膜を形成してAg被覆Cu材の表面品質を低下さ
せることなく耐食性と潤滑性を向上し、該材料の電気接
続性を長期間安定させる。しかして溶剤に溶解するM量
ヲ0.05〜5%、BTAIヲ0.01〜10%と限定
したのは、何れも下限未満では防蝕力が不十分となり、
上限を越えるとAg被覆Cubの表面に過剰に被着し、
その除去が困難で、外観、接触抵抗、経済性等の面から
好ましくないためである。またMとBT、Aの濃度比M
/BTAを0.02〜50と限定したのは、この範囲を
外れるとBTAがAg表面に吸着してMの吸着を妨げる
か、又はこの逆の現象が起り、電気接続性の安定化を妨
げるためで、のぞましくはこの濃度比M/BTAを0.
1〜10%とするとよい。
尚被着したMとBTAの皮膜厚さは溶液の温度、濃度、
時間に相関し、大略単分子層乃至数百人の範囲であり、
AU被覆Cu材の表面品質を劣化させることなく、特に
潤滑特性を向上する。
〔実施例〕
Agを0.2μの厚さに被覆したCu板(厚さ0.2#
、巾10喘、長ざ50#)を用い、第1表に示す被着処
理を行なった。これ等について温度40’C,湿度90
%のHz 5500111)bSN○2200ppb、
S Oz 1000ppb 、 C1201)pbの混
合ガス中に12時間保持した後、温度60℃、湿度75
%の同一混合ガス中に12時間保持することを20日間
繰返して劣化処理し、これについて荷重209、電流1
00 mAの条件で接触抵抗(RC)を測定すると共に
バウデン型試験器を用いて摩擦係数(μを測定した。こ
れ等の結果を従来材と比較して第2表に示す。
第1表 注) ODMはオクタデシルメルカプタンMBOは2−
メルカプトベンゾチアゾールRM はラウリルメルカプ
タン PM はフェニルメルカプタン BTAはベンゾトリアゾール TTAはトリルトリアゾール EBTAはエチルベンゾトリアゾール 衣−2 ■ 第1表及び第2表から明らかなように無処理の従来品N
o、 14は劣化処理後の接触抵抗と摩擦係数の劣化が
著しいのに対し、本発明処理品Nα1〜8は何れも劣化
処理により接触抵抗と摩擦係数がほとんど劣化せず、長
期にわたり安定した電気接続性を有することが判る。
これに対しM?!11着又はBTA被着を欠く比較処理
品NQ9−10では劣化処理により接触抵抗と摩擦係数
の劣化を防止することができず、またMとB T Aを
被着しても、Mの溶解量が本発明で規定する量より少な
い比較処理品No、11、M及びBTAの溶融量が本発
明で規定づる量より多い比較処理品N012、更にMと
BTAを本発明で規定する量の範囲内であっても、Mと
BTAの濃度比M/BTAが外れる比較処理品No、1
3では何れも劣化処理により接触抵抗と摩擦係数の劣化
を防止できないことが判る。
〔発明の効果〕
このように本発明によれば、11被覆Cu材の電気接続
性を長期間安定に維持することができるもので、工業上
顕著な効果を奏するものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Aa又はAQ合金を被覆したCu又はCu合金材の表面
    に、メルカプト化合物(M)とベンゾトリアゾール又は
    その誘導体(BTA)を、M O,01〜5%、BTA
     0.01〜10%の範囲内で、溶剤にMとBTAの濃
    度比M/BTAを0.02〜50に単独又は混合溶解し
    た溶液として被着することを特徴とするAg被覆Cu4
    rAの表面処理法。
JP11413584A 1984-06-04 1984-06-04 Ag被覆Cu材の表面処理法 Granted JPS60258483A (ja)

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