JPS60243266A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS60243266A JPS60243266A JP9782484A JP9782484A JPS60243266A JP S60243266 A JPS60243266 A JP S60243266A JP 9782484 A JP9782484 A JP 9782484A JP 9782484 A JP9782484 A JP 9782484A JP S60243266 A JPS60243266 A JP S60243266A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- deposited
- vapor deposition
- bodies
- nozzles
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えば電子複写機等の画像形成装置における
像担持体（−感光体ドラム）などの表面を蒸着処理する
蒸着装置に関する。
像担持体（−感光体ドラム）などの表面を蒸着処理する
蒸着装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕 、従来、この種の
像担持体といった被蒸着体の表面にセレン等の薄膜を蒸
着するにおいては、第３図に示すように、真空雰囲気中
に左右２個の被蒸着体１，１を互いに離間させて設置し
、かつその被蒸着体１．１下部に主蒸発源２及び副蒸発
源３がそれぞれ収容された収容器４，５を配置して加熱
し、両蒸発源２，３から蒸発する蒸気分子を真空雰囲気
中に拡散させることにより２個の被蒸着体１．１の表面
にセレン蒸着を同時に行ない得るようにした装置がある
。
像担持体といった被蒸着体の表面にセレン等の薄膜を蒸
着するにおいては、第３図に示すように、真空雰囲気中
に左右２個の被蒸着体１，１を互いに離間させて設置し
、かつその被蒸着体１．１下部に主蒸発源２及び副蒸発
源３がそれぞれ収容された収容器４，５を配置して加熱
し、両蒸発源２，３から蒸発する蒸気分子を真空雰囲気
中に拡散させることにより２個の被蒸着体１．１の表面
にセレン蒸着を同時に行ない得るようにした装置がある
。
しかしながら、このような従来の蒸着装置では、主蒸発
源３から蒸発するセレン蒸気の流れが上方に拡散してし
まうことから、セレン蒸気の流れの一部しか被蒸着体の
表面への蒸着に利用できず、歩留シが悪いなどの不都合
が生じていた。
源３から蒸発するセレン蒸気の流れが上方に拡散してし
まうことから、セレン蒸気の流れの一部しか被蒸着体の
表面への蒸着に利用できず、歩留シが悪いなどの不都合
が生じていた。
本発明は、上記事情にもとづきなされたもので、その目
的とするところは、蒸発源から蒸発する蒸気の流れを被
蒸着体の表面に向は一方向に導くことにより、蒸気を有
効に利用することのできる蒸着装置を提供することにあ
る。
的とするところは、蒸発源から蒸発する蒸気の流れを被
蒸着体の表面に向は一方向に導くことにより、蒸気を有
効に利用することのできる蒸着装置を提供することにあ
る。
上記した目的を達成させるために、本発明は、被蒸着体
の下部に蒸発源を配置して真空加熱蒸着する蒸着装置に
おいて、前記蒸発源の上に被蒸着体の表面に向は蒸気を
案内するノズルを設置し、かつこのノズ尤の周囲に加熱
ヒータを取付けたことを特徴とする亀のである。
の下部に蒸発源を配置して真空加熱蒸着する蒸着装置に
おいて、前記蒸発源の上に被蒸着体の表面に向は蒸気を
案内するノズルを設置し、かつこのノズ尤の周囲に加熱
ヒータを取付けたことを特徴とする亀のである。
以下、本発明を第１同友、び第２図に示す一実施例を参
照ｌ、なから説明する。なお、本発明に係る図示の実施
例において、第３図に示す従来装置と構成が重複する部
分は同一符号を用い説明を省略する。
照ｌ、なから説明する。なお、本発明に係る図示の実施
例において、第３図に示す従来装置と構成が重複する部
分は同一符号を用い説明を省略する。
すなわち、本発明は、第１図及び第２図に示すように、
被蒸着体ノー、１の下部に配置される主蒸発源２及び側
蓋発源３をそれぞれ収容する収容器４，５の各々の上面
開口部にノズル４１及び５１を設け、これら各々のノズ
ル４１゜５１の口部４１ｈ、５１ｈを前記被蒸着体１゜
１の下部表面に向けることによシ、主蒸発源２及び側蓋
発源３から蒸発する蒸気を各々の被蒸着体１，１の表面
に向は一方に導くようにするとともに、前記各々のノズ
ル４１，５１の外周囲に加熱ヒータ４２．５２を取付け
ることによシ、蒸発源から蒸発する蒸気がノズル４１゜
５１の内周面に付着するのを防止し得るように構成して
なるものである。
被蒸着体ノー、１の下部に配置される主蒸発源２及び側
蓋発源３をそれぞれ収容する収容器４，５の各々の上面
開口部にノズル４１及び５１を設け、これら各々のノズ
ル４１゜５１の口部４１ｈ、５１ｈを前記被蒸着体１゜
１の下部表面に向けることによシ、主蒸発源２及び側蓋
発源３から蒸発する蒸気を各々の被蒸着体１，１の表面
に向は一方に導くようにするとともに、前記各々のノズ
ル４１，５１の外周囲に加熱ヒータ４２．５２を取付け
ることによシ、蒸発源から蒸発する蒸気がノズル４１゜
５１の内周面に付着するのを防止し得るように構成して
なるものである。
以上説明したように、本発明によれば、蒸発源から蒸発
し拡散する蒸気をノズルを介して被蒸着体の表面に向は
導いてなることから、蒸気の流れは被蒸着体の表面に集
中し、従来装置と比較して蒸気を有効に利用できるとと
もに、ノズルの周囲は加熱ヒータで加熱されているため
、ノズル内部に蒸気が付着せず、これによって蒸発源の
歩留シな向上させることができるなどのすぐれた効果を
奏するものである。
し拡散する蒸気をノズルを介して被蒸着体の表面に向は
導いてなることから、蒸気の流れは被蒸着体の表面に集
中し、従来装置と比較して蒸気を有効に利用できるとと
もに、ノズルの周囲は加熱ヒータで加熱されているため
、ノズル内部に蒸気が付着せず、これによって蒸発源の
歩留シな向上させることができるなどのすぐれた効果を
奏するものである。
第１図は本発明に係る蒸着装置の一実施例を示す°概略
的説明図、第２図は同じく蒸発源の収容部を示す拡大斜
視図、第３図は従来の蒸着装置の概略的説明図である０ １・・・被蒸着体、２，３・・・蒸発源、４，５・・・
収容器、４１．５１・・・ノズル、４２．５２・・・加
熱ヒータ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
的説明図、第２図は同じく蒸発源の収容部を示す拡大斜
視図、第３図は従来の蒸着装置の概略的説明図である０ １・・・被蒸着体、２，３・・・蒸発源、４，５・・・
収容器、４１．５１・・・ノズル、４２．５２・・・加
熱ヒータ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図
Claims (1)
- 被蒸着体の下部に蒸発源を配置して真空加熱蒸着する蒸
着装置において、前記蒸発源の上に被蒸着体の表面に向
は蒸気を案内するノズルを設置し、かつこのノズルの周
囲に加熱ヒータを取付けたことを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9782484A JPS60243266A (ja) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9782484A JPS60243266A (ja) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60243266A true JPS60243266A (ja) | 1985-12-03 |
Family
ID=14202474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9782484A Pending JPS60243266A (ja) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60243266A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100685798B1 (ko) | 2005-11-30 | 2007-02-22 | 주식회사 아이피에스 | 박막증착용 기화유니트 |
-
1984
- 1984-05-16 JP JP9782484A patent/JPS60243266A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100685798B1 (ko) | 2005-11-30 | 2007-02-22 | 주식회사 아이피에스 | 박막증착용 기화유니트 |
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