JPS61110759A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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Publication number
JPS61110759A
JPS61110759A JP23065184A JP23065184A JPS61110759A JP S61110759 A JPS61110759 A JP S61110759A JP 23065184 A JP23065184 A JP 23065184A JP 23065184 A JP23065184 A JP 23065184A JP S61110759 A JPS61110759 A JP S61110759A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
evaporation source
shutter
sub
main
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23065184A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Yoshioka
吉岡 仁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP23065184A priority Critical patent/JPS61110759A/ja
Publication of JPS61110759A publication Critical patent/JPS61110759A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、たとえば2つの一回転体に対してセレンと
セレンとテルルの合金とを蒸着することにより、感光体
ドラムを製造する蒸着装置に関する。
[発明の技術的背景] 従来、2つのに回転体としてのドラム素管(被蒸着体)
に対してセレン、およびセレンとテルルの合金を蒸着す
ることにより、感光体ドラムを製造する蒸着装置にあっ
ては、セレンの蒸発が行われている際、セレンとテルル
の合金からの蒸発をIII ’IJするとともに、セレ
ンとテルルの合金の蒸発が行われている際、セレン  
       の蒸発を制御するシャッタが設けられて
いる。
このような装置としては、第4図に示すように、セレン
を蒸発させる主蒸発源1とセレンとテルルの合金を蒸発
させる副蒸発源2が設けられている。
これらの上部にはシャッタ3が設けられている。
このシャッタ3はそれが左右に動くことにより、主蒸発
源1あるいは副蒸発源2を覆い、各蒸発源からの蒸気を
制御するものである。これにより、主蒸発源1からの蒸
気、副蒸発源2からの蒸気により2つのドラム素管4.
4の表面に順次セレン、セレンとテルルの合金が蒸着さ
れることにより、感光体ドラムが製造されるようになっ
ている。
[背景技術の問題点] しかしながら、上記のような装置では、シャッタ自身に
蒸着物が付着してしまうため、シャッタの移動時に、振
動でその付着されている蒸発物が剥離、飛散してしまう
。このため、その飛散により、その蒸発物がドラム素管
の表面に付着し、その蒸着面に凹凸を形成してしまい、
良好な蒸着ができないという欠点を・有していた。
[発明の目的1 この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、シャッタの表面に蒸発物が付着するこ
とを防止でき、被蒸着体の表面に凹凸ができるのを防止
することができる蒸着装置を提供することにある。
[発明の概要] この発明は上記目的を達成するために、主蒸発源による
蒸発が行われている際に、副蒸発源からの蒸発を抑制し
、上記副蒸発源による蒸発が行われている際に、上記主
蒸発源からの蒸発を抑制するシャッタの表面を、上記主
あるいは副蒸発源により蒸発が行われている際に加熱す
るようにしたものである。
し発明の実施例] 以下、この発明の一実施例について図面を参照しつつ説
明する。
第1図において、11は基板であり、この基板11上に
はセレンを蒸発させるための主蒸発源12とセレンとテ
ルルの合金を蒸発させる副蒸発源13.13が設けられ
ている。これらの上部にはシャッタ14.14が矢印a
、b方向へ移動可能に設けられている。このシャッタ1
4.14はそれが左右に動くことにより、主蒸発源12
あるいは副蒸発源13.13を覆い、各蒸発源12.1
3.13からの蒸気を制御するものである。上記シャッ
タ14.14の表面14a、14aには、それぞれ電熱
線等のヒータ15.15が設けられている。これにより
、シャッタ14の表面14aがたとえば220度から3
00度の間の温度(蒸着物の蒸発が起こる温度)で加熱
されることにより、その表面14aにセレンあるいはセ
レンとテルルの合金の蒸発物が付着しないようになって
いる。上記シャッタ14.14の上部には回転可能に2
つのドラム素I!(被蒸着体)16.16が設けられて
いる。これにより、主蒸発源12からの蒸気、廟蒸発源
13からの蒸気により2つのドラム素管16.16の表
面に順次セレン、セレンとテルルの合金が蒸着されるこ
とにより、感光体ドラムが製造されるようになっている
。また、上記主蒸発源12と副蒸発源13.13の下部
には、それぞれ温度検知用の温度検知器17.18.1
日が設けられている。なお、上記各部は金属で形成され
るケース19内に設けられ、図示しない真空引き装置に
よってケース19内が真空状態となるようになっている
次に、第2図を用いて電気回路の要部について説明する
。すなわち、21は全体を制御する制御部であり、22
は主蒸発[12に対して電源電圧を印加するときに投入
するスイッチであり、23は副蒸発源13.13に対し
て電源電圧を印加するときに投入するスイッチである。
上記制御部21はスイッチ22が投入された時、前記ヒ
ータ15.15を加熱し、その後前記温度検知器17.
18.18からの検知信号に応じて、前記主蒸発源12
および副蒸発源13.13が一定温度以下(蒸気を発生
しない温度)を判断した場合、ヒータ15.15の加熱
を終了するものである。なお、主蒸発源12、副蒸発源
13による蒸発による蒸着の厚みは、図示しない水晶撮
動子躾厚計等によって検知されるようになっている。
次に、このような構成において動作を説明する。
たとえば今、2うのドラム素管16.16を設定し、主
蒸発源12にセレンを設定し、側蓋発11i13.13
にセレンとテルルの合金を設定し、ケース19を密閉す
る。そして、図示しない真空引き装置によって真空引き
する。この後、ケース19内が所定の真空状態になった
とき、スイッチ21を投入する。すると、電源電圧が主
蒸発源12に印加され加熱される。このとき、シャッタ
15.15はそれぞれ副蒸発源13.13の上部に位置
し、側蓋発′a13.13からの蒸発を制御している。
またこのとき、スイッチ22のオン信号により、制御部
21はヒータ15.15を加熱する。
上記主蒸発源12の加熱により、セレンが蒸発され、ド
ラム素管16.16に蒸着される。その後、セレンが所
定膜厚弁、上記ドラム素1!16.16に蒸着された時
、スイッチ22をオフし、スイッチ23をオンするとと
もに、シャッタ15.15を移動し、主蒸発源12の上
部に位置し、主蒸発源12からの蒸発を制御する。これ
により、電源電圧が副蒸発源13.13に印加され加熱
される。
上記副蒸発源13.13の加熱により、セレンとテルル
の合金が蒸発され、ドラム素管16.16に蒸着される
。その後、セレンとテルルの合金が所定膜厚弁、上記ド
ラム素管16.16に蒸着された時、スイッチ23をオ
フする。そして、副蒸発源13.13の温度(I3よび
主蒸発源12の濃度)が自然冷却により、蒸発可能温度
以下となったことを、検知器17.18.18からの検
知信号により判断し、ヒータ15.15の加熱を停止す
る。これにより、セレンとセレンとテルルの合金とが蒸
着された感光体ドラムが形成される。
なお、上記主、副蒸発源の温度変化およびヒータの温度
変化は第3図に示すようになっている。
上記したように、主蒸発+1112あるいは副蒸発源1
3.13が自然冷却し、蒸発物の蒸気が発生しなくなる
まで、シャッタ14.14の表面14a、14aが加熱
されているため、蒸発物がシャッタ14.14の表面1
4a114aに付着するのを防止できる。この結果、シ
ャッタの移動時に、蒸発物が剥離、飛散してしまうこと
がなく、その飛散により、蒸発物がドラム素管の表面に
付着し、その蒸着面に凹凸を形成することも防止するこ
とができる。
なお、前記実施例では、ヒータとして電熱線を用いたが
、これに限らず、加熱した流体を用いるようにしても良
い。この場合、ヒータの電源の替わりに、温媒槽、制御
部の替わりに温媒循環ポンプを用いてシャッタの温度を
制御している。
[発明の効果] 以上詳述したようにこの発明によれば、シャッタの表面
に蒸発物が付着することを防止でき、被蒸着体の表面に
凹凸ができるのを防止することができる蒸着装置を提供
できる。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の一実施例を示すもので、第1図は全体
の構成を概略的に示す図、第2図は電気回路の要部を示
す図、第3図は蒸発源の温度変化およびヒータの温度変
化を説明するための図であり、第4図は従来のMll装
置を説明するための概略図である。 11・・・基板、12・・・主蒸発源、13.13・・
・副蒸発源、14.14・・・シャッタ、15.15・
・・ヒータ、16.16・・・ドラム素管、17.18
.18・・・温度検知器、19・・・ケース。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)主蒸発源と副蒸発源とが順次蒸発されることによ
    り被蒸着体に対して蒸着が行われる蒸着装置において、
    前記主蒸発源による蒸発が行われている際に、前記副蒸
    発源からの蒸発を抑制し、前記副蒸発源による蒸発が行
    われている際に、前記主蒸発源からの蒸発を抑制するシ
    ャッタと、このシャッタの表面を前記主あるいは副蒸発
    源により蒸発が行われている際に加熱する加熱手段とを
    具備したことを特徴とする蒸着装置。
  2. (2)前記被蒸着体が感光体であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の蒸着装置。
  3. (3)前記加熱手段が電熱線であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の蒸着装置。
  4. (4)前記加熱手段が加熱流体であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の蒸着装置。
JP23065184A 1984-11-01 1984-11-01 蒸着装置 Pending JPS61110759A (ja)

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JP23065184A JPS61110759A (ja) 1984-11-01 1984-11-01 蒸着装置

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JPS61110759A true JPS61110759A (ja) 1986-05-29

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ID=16911133

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100685798B1 (ko) 2005-11-30 2007-02-22 주식회사 아이피에스 박막증착용 기화유니트
CN110438454A (zh) * 2019-08-05 2019-11-12 福建华佳彩有限公司 一种具有加热装置的蒸镀坩埚

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KR100685798B1 (ko) 2005-11-30 2007-02-22 주식회사 아이피에스 박막증착용 기화유니트
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