JPS59113180A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59113180A JPS59113180A JP22306882A JP22306882A JPS59113180A JP S59113180 A JPS59113180 A JP S59113180A JP 22306882 A JP22306882 A JP 22306882A JP 22306882 A JP22306882 A JP 22306882A JP S59113180 A JPS59113180 A JP S59113180A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- alloy
- boats
- vapor
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着装置に係り、特に蒸発温度を異にした２種
類の金属の薄膜を被蒸着物の表面に重ねて形成できるよ
うにした蒸着装置に関する。
類の金属の薄膜を被蒸着物の表面に重ねて形成できるよ
うにした蒸着装置に関する。
一般に真空蒸着は物体の表面に金属の薄膜を形成する手
段として広く知られておシ、金属またはその化合物を真
空中で加熱蒸発させることにより行なわれる。この真空
蒸着方法は各方面で多用されてお９、例えば電子写真用
感光体の感光層としてセレンやセレンヒ素合金を導電性
基板の上に形成する際にも使用されている。
段として広く知られておシ、金属またはその化合物を真
空中で加熱蒸発させることにより行なわれる。この真空
蒸着方法は各方面で多用されてお９、例えば電子写真用
感光体の感光層としてセレンやセレンヒ素合金を導電性
基板の上に形成する際にも使用されている。
セレンヒ素系感光体を使った電子写真用感光体において
は、導伝性基板に近い側をセレン含有量の高い組成とし
、その上に三セレン化二ヒ素（ＡＳ２５ｅ３）の化学量
的組成を重ねて形成し、表面にピンホールやスジ不良な
どが生じないようにしている。このような２層構造を有
する光電導層を真空蒸着法によって形成する場合、従来
は第１図に示されるように、内部を真空とした蒸着容器
１内に被蒸着物としてのドラム状の基体２を配置し、こ
の基体２の下方に一層目蒸発源３および二層目蒸発源４
を配置している０そして、２つの蒸発源３，４の加熱温
度を個別的に制御できるようにしてそれぞれ異なる組成
のセレンヒ素合金を時間をずらして蒸発させ一層目と二
層目を蒸着により形成していた。
は、導伝性基板に近い側をセレン含有量の高い組成とし
、その上に三セレン化二ヒ素（ＡＳ２５ｅ３）の化学量
的組成を重ねて形成し、表面にピンホールやスジ不良な
どが生じないようにしている。このような２層構造を有
する光電導層を真空蒸着法によって形成する場合、従来
は第１図に示されるように、内部を真空とした蒸着容器
１内に被蒸着物としてのドラム状の基体２を配置し、こ
の基体２の下方に一層目蒸発源３および二層目蒸発源４
を配置している０そして、２つの蒸発源３，４の加熱温
度を個別的に制御できるようにしてそれぞれ異なる組成
のセレンヒ素合金を時間をずらして蒸発させ一層目と二
層目を蒸着により形成していた。
しかしながら、このような従来の方法による時には、加
熱温度を異にした蒸発源が２つになるため基体２に与え
る熱影響が大きく基体２の表面温度にバラツキを生じ、
これが原因で膜厚にもバラツキを生じる傾向があった。
熱温度を異にした蒸発源が２つになるため基体２に与え
る熱影響が大きく基体２の表面温度にバラツキを生じ、
これが原因で膜厚にもバラツキを生じる傾向があった。
また、大きな熱量は基体２のみならず蒸着容器１にも熱
的影響を及ぼし内壁にあらかじめ付着したセレンが剥離
して塵となって基体２の表面に付着し、これがポンホー
ルの原因ともなっていた。さらには熱エネルギーの損失
も大きいという問題があった。
的影響を及ぼし内壁にあらかじめ付着したセレンが剥離
して塵となって基体２の表面に付着し、これがポンホー
ルの原因ともなっていた。さらには熱エネルギーの損失
も大きいという問題があった。
そこで、本発明の目的は上述した従来技術が有する欠点
を解消し、蒸着膜の膜厚のバラツキが少なくかつ表面に
ピンホールを生じない、特に電子写真用感光層の形成に
好適な蒸着装置を提供することにある。
を解消し、蒸着膜の膜厚のバラツキが少なくかつ表面に
ピンホールを生じない、特に電子写真用感光層の形成に
好適な蒸着装置を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明は、内部を真空下に保
持される蒸着容器内に被蒸着物を配置し、この被蒸着物
の下方に蒸着源を配置した蒸着装置において；上記蒸着
源は天壁の一部を開口した保温カバーと、この保温カバ
ー内に収容され、蒸気圧の異なる二種の合金をそれぞれ
収容するための第１および第２のボートと、これらのボ
ートのまわりに配置された加熱ヒータとによって構成さ
れたことを特徴とするものである。
持される蒸着容器内に被蒸着物を配置し、この被蒸着物
の下方に蒸着源を配置した蒸着装置において；上記蒸着
源は天壁の一部を開口した保温カバーと、この保温カバ
ー内に収容され、蒸気圧の異なる二種の合金をそれぞれ
収容するための第１および第２のボートと、これらのボ
ートのまわりに配置された加熱ヒータとによって構成さ
れたことを特徴とするものである。
以下本発明による蒸着装置の実施例を第２図および第３
図を参照して説明する。
図を参照して説明する。
第２図において符号１１は内部を真空雰囲気とした蒸着
容器を示し、この蒸着容器１１の内側には被蒸着物とし
ての基体１２が配置さｎている。この基体１２は本実施
例においては電子写真用のドラムであってその表面に光
電導層を形成しようとするものである。この基体１２の
直下には単一の蒸発源１３が配置されている。この蒸発
源１３は、第３図に拡大して示したように、保温カバー
１４を有し、保温カバー１４を有し、保温カバー１４の
天壁の一部にはスリット１５が開口している。本実施例
においては保温カバー１４はステンレス板を二重構成す
ることによって構成されている０また保温カバー１４の
内側には第１のボー）１６と第２のボート１７とが上下
に積み重ねられるように配置されている。これらのボー
） １６ 、１７は不透明な石英で構成するのが好まし
く横断面がはソ円筒の上方の一部を切欠いた形態をなし
ている０そして第１のボート１６内には一層目の蒸発源
として例えばＳｅ濃度の高い７５原子％Ｓｅ合金（以下
Ｎ合金という）が所定量だけ装填されており、−力筒２
のボート１７内には二層目の蒸発源として王セレン化二
ヒ素（ＡＳ２ Ｓｅａ ）の化学量論的組成からなる合
金（以下Ｂ合金という）が所定量だけ装填されている。
容器を示し、この蒸着容器１１の内側には被蒸着物とし
ての基体１２が配置さｎている。この基体１２は本実施
例においては電子写真用のドラムであってその表面に光
電導層を形成しようとするものである。この基体１２の
直下には単一の蒸発源１３が配置されている。この蒸発
源１３は、第３図に拡大して示したように、保温カバー
１４を有し、保温カバー１４を有し、保温カバー１４の
天壁の一部にはスリット１５が開口している。本実施例
においては保温カバー１４はステンレス板を二重構成す
ることによって構成されている０また保温カバー１４の
内側には第１のボー）１６と第２のボート１７とが上下
に積み重ねられるように配置されている。これらのボー
） １６ 、１７は不透明な石英で構成するのが好まし
く横断面がはソ円筒の上方の一部を切欠いた形態をなし
ている０そして第１のボート１６内には一層目の蒸発源
として例えばＳｅ濃度の高い７５原子％Ｓｅ合金（以下
Ｎ合金という）が所定量だけ装填されており、−力筒２
のボート１７内には二層目の蒸発源として王セレン化二
ヒ素（ＡＳ２ Ｓｅａ ）の化学量論的組成からなる合
金（以下Ｂ合金という）が所定量だけ装填されている。
これらの合金はそれぞれ蒸気圧が異なっており、同一真
空条件下においては、Ｎ合金の方が早く蒸着が始まる。
空条件下においては、Ｎ合金の方が早く蒸着が始まる。
さらに保温カバー１４内には上記第１のボート１６と第
２のボート１７とを包囲するように５個のヒータ装置１
８ 、１８・・・１８が配置されている。これらのヒー
タ装置１８は赤外線ヒータを使用することが好ましくこ
れらのヒータによ−って保温カバー１４内の温度を調節
することができる。また上記第２のボート１７内には外
部よシ温度を検出するためのセンサとして熱電対１９が
差し込まれている。このように構成された蒸着装置にお
いて、高真空下でヒータ１８を加熱すると、蒸発源の温
度カーブは第４図に示したようになる。この場合第１の
ボート１６内のＮ合金は蒸気圧の関係からＢ合金よシも
早く蒸発を開始し、装填した量が少ないためにＢ合金の
温度が蒸気圧に達するまでに蒸着が終了してしまう。し
たがって第５図に示すとおり、基体１２の表面にはまず
Ｎ合金による蒸着膜が一様に形成される。次いでＢ合金
の蒸発が開始されＮ合金による薄膜の上にＢ合金による
薄膜が重ねて形成されるわけである。
２のボート１７とを包囲するように５個のヒータ装置１
８ 、１８・・・１８が配置されている。これらのヒー
タ装置１８は赤外線ヒータを使用することが好ましくこ
れらのヒータによ−って保温カバー１４内の温度を調節
することができる。また上記第２のボート１７内には外
部よシ温度を検出するためのセンサとして熱電対１９が
差し込まれている。このように構成された蒸着装置にお
いて、高真空下でヒータ１８を加熱すると、蒸発源の温
度カーブは第４図に示したようになる。この場合第１の
ボート１６内のＮ合金は蒸気圧の関係からＢ合金よシも
早く蒸発を開始し、装填した量が少ないためにＢ合金の
温度が蒸気圧に達するまでに蒸着が終了してしまう。し
たがって第５図に示すとおり、基体１２の表面にはまず
Ｎ合金による蒸着膜が一様に形成される。次いでＢ合金
の蒸発が開始されＮ合金による薄膜の上にＢ合金による
薄膜が重ねて形成されるわけである。
なお、上述した実施例においては第１のボート１６と第
２のボート１７とを不透明な石英ボートで構成したが第
１のボート１６を透明の石英で構成するとともに第２の
ボート１７を不透明な石英で構成するようにすると、さ
らにそれぞれの温度上昇に差をもたせ、異なる金属の二
層蒸着を完全なものとすることができる。
２のボート１７とを不透明な石英ボートで構成したが第
１のボート１６を透明の石英で構成するとともに第２の
ボート１７を不透明な石英で構成するようにすると、さ
らにそれぞれの温度上昇に差をもたせ、異なる金属の二
層蒸着を完全なものとすることができる。
また、上記実施例においてＡｓ２Ｓｅ３合金を使用した
が、これ以外に例えば５ｅ−Ｔｅ合金等についても応用
可能であることはもちろんである。
が、これ以外に例えば５ｅ−Ｔｅ合金等についても応用
可能であることはもちろんである。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば蒸発源
からの輻射熱を大きくして基体に付着した合金の再蒸発
をひきおこすようにしたために基体の表面に形成される
膜厚のバラツキをおさえることができる。また蒸着容器
の壁に付着したセレン等の加熱時の熱影響が少なくなる
からセレン合金が壁から剥離して被蒸着物の表面に付着
することもなくしたがってピンホール等を大幅に減少す
ることができる。
からの輻射熱を大きくして基体に付着した合金の再蒸発
をひきおこすようにしたために基体の表面に形成される
膜厚のバラツキをおさえることができる。また蒸着容器
の壁に付着したセレン等の加熱時の熱影響が少なくなる
からセレン合金が壁から剥離して被蒸着物の表面に付着
することもなくしたがってピンホール等を大幅に減少す
ることができる。
第１図は従来の蒸着装置を示した横断面図、第２図は本
発明による蒸着装置の一実施例を示した横断面図、第３
図は第２図の蒸着源を拡大して示した横断面図、第４図
は蒸着時間と蒸発源温度との関係を示した線図、第５図
は蒸着膜内におけるセレンの濃度分布を示した線図であ
る。 １１・・・蒸着容器、１２川基体、１３・・・蒸発源、
１４・・・保温カバー、１５・・・スリット、１６・・
・第１のボート、１７・・・第２のボート、１８川ヒ一
タ装置特許出願人 富士電機製造株式会社 筈ｉ目 分２圏 滲３図 ）ｇ目 −畜蔦吟問
発明による蒸着装置の一実施例を示した横断面図、第３
図は第２図の蒸着源を拡大して示した横断面図、第４図
は蒸着時間と蒸発源温度との関係を示した線図、第５図
は蒸着膜内におけるセレンの濃度分布を示した線図であ
る。 １１・・・蒸着容器、１２川基体、１３・・・蒸発源、
１４・・・保温カバー、１５・・・スリット、１６・・
・第１のボート、１７・・・第２のボート、１８川ヒ一
タ装置特許出願人 富士電機製造株式会社 筈ｉ目 分２圏 滲３図 ）ｇ目 −畜蔦吟問
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、 内部を真空下に保持される蒸着容器内に被蒸着物
を配置し、この被蒸着物の下方に蒸着源を配置した蒸着
装置において；上記蒸着源は天壁の一部を開口した保温
カバーと、この保温カバー内に収容され、蒸気圧の異な
る二種の合金をそれぞれ収容するだめの第１および第２
のボートと、これらのボートのまわりに配置された加熱
ヒータとによって構成されたことを特徴とする蒸着装置
。 ２、特許請求の範囲第１項記載の蒸着装置において、第
１および第２のボートのそｎぞれは石英によって構成さ
れ、円筒の上部を部分的に切欠いた形態であることを特
徴とする装置。 ３ 特許請求の範囲第１項記載の蒸着装置において、上
記第１のボートと第２のボートとは上下方向に重ね合せ
るように配置されていることを特徴とする装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22306882A JPS59113180A (ja) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22306882A JPS59113180A (ja) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | 蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59113180A true JPS59113180A (ja) | 1984-06-29 |
| JPH029107B2 JPH029107B2 (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=16792323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22306882A Granted JPS59113180A (ja) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59113180A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3480857A1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-05-08 | Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. | Device for preparing multi-element alloy compound |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3008091U (ja) * | 1994-06-13 | 1995-03-07 | オクス工業株式会社 | ハイヒールの踵の補修用張り付け部材 |
-
1982
- 1982-12-21 JP JP22306882A patent/JPS59113180A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3480857A1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-05-08 | Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. | Device for preparing multi-element alloy compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH029107B2 (ja) | 1990-02-28 |
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