JPS5967368A - 蒸発源構造 - Google Patents

蒸発源構造

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Publication number
JPS5967368A
JPS5967368A JP17803782A JP17803782A JPS5967368A JP S5967368 A JPS5967368 A JP S5967368A JP 17803782 A JP17803782 A JP 17803782A JP 17803782 A JP17803782 A JP 17803782A JP S5967368 A JPS5967368 A JP S5967368A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alloy
housing
heat
vapor deposition
evaporation source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17803782A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidenao Maeda
前田 英直
Kenichi Mitsui
健一 三井
Teruo Yamamoto
輝男 山本
Masanobu Sekizawa
関澤 正信
Yoshinari Yoshimi
義見 善成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Fuji Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd, Fuji Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP17803782A priority Critical patent/JPS5967368A/ja
Publication of JPS5967368A publication Critical patent/JPS5967368A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は蒸発源構造に係り、特に被蒸着物の表面にセレ
ン合金材料を真空蒸着させるだめの蒸発源構造に関する
一般に真空蒸着は物体の表面に金属の薄膜を形成する手
段として広く知られてお見金域またはその化合物を真空
中で加熱蒸発させることにより行われる。この真空蒸着
方法は各方面で多用されており、例えば電子写真用感光
体の感光層としてセレンやセレンヒ素合金を導電性基板
の上に形成する際にも使用される。このような真空蒸着
方法を実施するためには、セレン合金等を加熱蒸発させ
ることが必要であって、この種の蒸発源の従来の構造を
第1図および第2図を参照して説明する。
第1図において、蒸発源となるセレン合金1は、充填ボ
ート2内に収容され、この充填ボート2の外側は断熱壁
3によって包囲されており、さらに充填ボート20周り
には加熱ヒータ4が配設され、このヒータの電熱によっ
てセレン合@1を加熱するようになっている。
また、第2図に示した従来のものは、セレン合金1が加
熱ヒータを内蔵した充填ボート2の内に収容され、この
充填ボート2の上方はカバー5で被われている。このカ
バー5の天壁には蒸気出口6が形成され、さらに蒸気出
口6の直前には突沸防止板7が設けられている。
しかしながら、このように構成された従来の蒸発源構造
は、蒸発源の経時変化により黒色化による放熱が大きく
なって保温が悪くなるという問題がある。また、蒸発源
の経時変化はセレン感光体に熱を多く放熱し、基板の温
度□制御が難しくなる結果として結晶化を惹起する。さ
らに蒸発源の長手方向の温度バラツキが大きくなって蒸
発物質であるセレンの加熱温度が不均一となってセレン
JI’A厚のバラツキが大きくなるという欠点を有して
いた。
そこで、本発明の目的は、上述した従来の技術が有する
欠点を解消し、保温効果および結晶防止効果に優れ、蒸
発源長手方向の温度バラツキを小さくして膜厚の分布を
均一化することができるようにした蒸発源構造を提供す
ることにある。
上記目的を達成するため、本発明は、充填ボート内の蒸
着すべき材料を加熱して蒸着蒸気を発生させる蒸発源構
造において、上記充填ボートをハウジング内に収容し、
このハウジングの天井壁には蒸気出口を形成しておき、
さらにハウジングの外側面の全域に保温カバーを被着し
たことを特徴とづるものである。
以下本発明による蒸発源構造の一実施例を第3図を参照
して説明する。
第3図において、セレン合金11は充填ボート12内に
収容されておシ、充填ボート12は例えば石英によって
構成されている。まだ、充填ボート12は、ハウジング
13によって囲われると共にこのハウジング13の仕切
板15によって底部を支持されている。
この仕切板15は、中央部を切欠れて開口16とされ、
仕切板15の下方には加熱ヒータ14.14が装備され
ている。しだがって、この加熱ヒータ14からの熱は開
口16e通して充填ボート12の底部を直接加熱できる
ようになっている。
まだ、上記ハウジング13の天井の一部は切欠れて蒸気
出口17となっており、この蒸気出口17の直前にはセ
レン蒸気の加熱加速ヒータ18が設けられている。この
ヒータ18はセレン蒸気を突沸なく被蒸着物に蒸着させ
るように機能する。
しかして、本発明によれば、上記ハウジング13の周り
の全域には保温カバー19が被着されておシ、コノ保温
カバー19 H1厚さI)、3tnm のステンレス板
(5US304)で構成され、ハウジング13に対して
スホノト溶接で固着されている。
本発明者らは、本発明による効果を確認するだめに、充
jJXボーX2(長さ2000+mn×ll’1184
0mm×高さ40 mm X肉厚2)nm )内に8重
量パーセントのTeを含有するSe−’f’e合金20
00gを充填し、被蒸着物としてのアルミ管を蒸発源か
ら300+nmの位置に設置し、充填ボート】2内の”
9e−Te合金を:300’C−350”Cに加熱し全
蒸発させてセレン感光体を製造した。その際の放熱状態
、蒸発源長手方向の温度バラツキ、セレン膜厚分布の結
果を不したものが第4図である。
本発明による効果を従来技術と比較するために、第1図
に示しだ蒸発源を使って同一条件下で実験しだ結果を第
5図に示しだ。この結果から明らかなように、本発明に
よれば、放熱が少なく蒸発源の長手方向の温度バラツキ
が小さく、そのうえセレン膜厚分布が従来のものに比べ
優れていることがわかる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれは、充填
ボートをハウジング内に収容すると共にハウジングの外
表面の全域に保温カバーを被着したから、蒸着室内の保
温効果を高め、放熱を防いで結晶化を防止できる。また
、蒸発源長手方向の温度のバラツキを小さくしてセレン
の膜厚のバラツキを小さくすることができる。。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来の蒸発源構造を示した縦断面
図、紀3図は本発明による蒸発源構造を示しだ縦断面図
、第4図(a)(b)(c)は本発明による温度および
膜厚特性を示した線図、第5図(a)(b)(c)は従
来技術による温度および膜厚特性を示した線図である。 Jl・・・セレン合金、12・・・充填ボート、13・
・・ハウジング、17・・蒸気出口’119・・保温カ
バー。 箋2曹 筈3区 l 浮g図 ((Z=) 泣9Aat3z(、HN、41h*−s挟
か+t=w、)本為帖間□

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、充填ボート内の蒸着すべき材料を加熱して蒸着蒸気
    を発生させる蒸発源構造において、上記充填ボートをノ
    ・ウジング内に収容し、このノ・つ・ンングの天井壁に
    は蒸気出口を形成しておき、さらにハウジングの外側面
    の全域に保温カッく−を被着したことを特徴とする蒸発
    源構造。 2、特許請求の範囲第1項に記載の蒸発源構造において
    、上記保温カバーはステンレス板によって構成されたこ
    とを特徴とする蒸発源構造。
JP17803782A 1982-10-09 1982-10-09 蒸発源構造 Pending JPS5967368A (ja)

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JP17803782A JPS5967368A (ja) 1982-10-09 1982-10-09 蒸発源構造

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JP17803782A JPS5967368A (ja) 1982-10-09 1982-10-09 蒸発源構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5967368A true JPS5967368A (ja) 1984-04-17

Family

ID=16041478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17803782A Pending JPS5967368A (ja) 1982-10-09 1982-10-09 蒸発源構造

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JP (1) JPS5967368A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1130129A1 (en) * 2000-03-03 2001-09-05 Eastman Kodak Company Source for thermal physical vapor deposition of organic electroluminescent layers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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