JPS6024016A - フオトエツチング用マスクの製造方法 - Google Patents
フオトエツチング用マスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS6024016A JPS6024016A JP59035392A JP3539284A JPS6024016A JP S6024016 A JPS6024016 A JP S6024016A JP 59035392 A JP59035392 A JP 59035392A JP 3539284 A JP3539284 A JP 3539284A JP S6024016 A JPS6024016 A JP S6024016A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- model
- glass
- manufacturing
- mold
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、所定の溝、模様、形状等を加工する一加工
法であるフォトエツチングに使用するマスクの製造方法
に関するものである。
法であるフォトエツチングに使用するマスクの製造方法
に関するものである。
このフォトエツチングにおいて、通常の工程では、使用
するマスクは、フィルム製であるが、このフィルムは傷
つき易いので、このフィルムの画像をガラス、金属等に
複写して、傷がつき難く、かつ変形し難い量産用マスク
を作ってこれを使用している。ところがこの量産用マス
クを作るとき、平なマスクを作る場合は上記のような方
法も適用できるが、被加工物が曲面で、これに使用する
マスクが曲面を呈する場合には、このようなマスクを作
ることは困難である。
するマスクは、フィルム製であるが、このフィルムは傷
つき易いので、このフィルムの画像をガラス、金属等に
複写して、傷がつき難く、かつ変形し難い量産用マスク
を作ってこれを使用している。ところがこの量産用マス
クを作るとき、平なマスクを作る場合は上記のような方
法も適用できるが、被加工物が曲面で、これに使用する
マスクが曲面を呈する場合には、このようなマスクを作
ることは困難である。
この発明は、比較的容易に、精度のよい量産用のマスク
の製造方法の提供を目的とするもので、所定の清、模様
、形状等の凹部を形成した金属製のモデルを製作、また
は前記の凹部が形成された除去して、樹脂製またはガラ
ス製の型を作り、この型に形成された凹部に、不透明な
樹脂層または不透明なガラス層、あるいは金属層を形成
するフォトエツチング団タスク・の製造方法で、特に曲
面のマスクに適した製造方法である。
の製造方法の提供を目的とするもので、所定の清、模様
、形状等の凹部を形成した金属製のモデルを製作、また
は前記の凹部が形成された除去して、樹脂製またはガラ
ス製の型を作り、この型に形成された凹部に、不透明な
樹脂層または不透明なガラス層、あるいは金属層を形成
するフォトエツチング団タスク・の製造方法で、特に曲
面のマスクに適した製造方法である。
次にこの発明の第１の実施例を第１図ないし第４図を参
照しながら説、明する。先ず第１工程では所定の溝、模
様、形状等の凹部をもった完成品と同じような金属製の
モデルｌを適宜の方法で作る。場合によっては完成品自
体をモデルとしてもよい。次に凹部としての溝１１を有
するモデルｌにかぶせる金型２を作る。この金型２はモ
デルｌに対して適度の間隔があくように形成し、この金
型２を第１図のようにモデル１にかぶせる。次工程では
モデル１と金型２とで形成された空間２１に透明な樹脂
３またはガラスを流し込み、硬化させる。
照しながら説、明する。先ず第１工程では所定の溝、模
様、形状等の凹部をもった完成品と同じような金属製の
モデルｌを適宜の方法で作る。場合によっては完成品自
体をモデルとしてもよい。次に凹部としての溝１１を有
するモデルｌにかぶせる金型２を作る。この金型２はモ
デルｌに対して適度の間隔があくように形成し、この金
型２を第１図のようにモデル１にかぶせる。次工程では
モデル１と金型２とで形成された空間２１に透明な樹脂
３またはガラスを流し込み、硬化させる。
次に金型２を除去し、更にモデル１を除去すれば、第３
図に示さねたよりな樹脂製またはガラス製の型４１が得
られる。このモデル１の除去は、機械。この型４１が出
来たら、次に不透明な樹脂５または不透明なガラスをこ
の型４１の溝４２に流し込み硬化させる。もし流し込ん
だ側の表面に凹凸が生じたら適宜の機械加工により、被
加工物の表面との密着がよくなるようにこの凹凸を除去
し、第４図に示したようなマスク４を得る。
図に示さねたよりな樹脂製またはガラス製の型４１が得
られる。このモデル１の除去は、機械。この型４１が出
来たら、次に不透明な樹脂５または不透明なガラスをこ
の型４１の溝４２に流し込み硬化させる。もし流し込ん
だ側の表面に凹凸が生じたら適宜の機械加工により、被
加工物の表面との密着がよくなるようにこの凹凸を除去
し、第４図に示したようなマスク４を得る。
次に示す第２の実施例（第５図ないし第８図参照）は樹
脂に金属メッキを施して、マスクを作る場合である。先
ずモデルｌを用意する点は前記第１の実施例と同様で、
この溝１１をもったモデルｌの表面に透明な樹脂３を流
し込んで、これを硬化７図に示されたように、真空蒸着
等を用いて金属メツキロ３を行う。次にこのメツキロ３
側を少しずつ切削して行くと、凸部上のメツキロ３が先
きに除去さねて、やがて樹脂の部分６４が表われ、四部
のメッキ層６５はそのま〜残り、第８図に示されたよう
１ｆマスク６が得られる。
脂に金属メッキを施して、マスクを作る場合である。先
ずモデルｌを用意する点は前記第１の実施例と同様で、
この溝１１をもったモデルｌの表面に透明な樹脂３を流
し込んで、これを硬化７図に示されたように、真空蒸着
等を用いて金属メツキロ３を行う。次にこのメツキロ３
側を少しずつ切削して行くと、凸部上のメツキロ３が先
きに除去さねて、やがて樹脂の部分６４が表われ、四部
のメッキ層６５はそのま〜残り、第８図に示されたよう
１ｆマスク６が得られる。
以上の２実施例は説明の便宜上、被加工物に平板なもの
を選んだが、この発明は被加工物の表面が立体形状即ち
、球面、円すい面、円筒面等に対するフォトエツチング
用マスクの製造に好適である。
を選んだが、この発明は被加工物の表面が立体形状即ち
、球面、円すい面、円筒面等に対するフォトエツチング
用マスクの製造に好適である。
次に示す第３の実施例は円すい面に用いるフォトエツチ
ング用マスクの製造工程を示すものである。先ず第９図
に示された完成品と同じような溝７１をもった金属製モ
デル７を機械加工その他の方法で作り、この表面に第１
Ｏ図に示したように透明な樹脂の層３１を形成する。次
に樹脂層３１の中のモデル７を第１１図に示したように
切削加工し、最終的には精度の高い曲面によるラップ仕
上により、第１２図のように樹脂の透明部分を現出させ
る。こ得られる。上記のモデルとしての金属材料は、精
度の高いラップ仕上が行える金属であることがのぞまし
い。またこの実施例では透明な樹脂を用いたが、透明な
ガラスを使用できるのは前記の実施例同様である。
ング用マスクの製造工程を示すものである。先ず第９図
に示された完成品と同じような溝７１をもった金属製モ
デル７を機械加工その他の方法で作り、この表面に第１
Ｏ図に示したように透明な樹脂の層３１を形成する。次
に樹脂層３１の中のモデル７を第１１図に示したように
切削加工し、最終的には精度の高い曲面によるラップ仕
上により、第１２図のように樹脂の透明部分を現出させ
る。こ得られる。上記のモデルとしての金属材料は、精
度の高いラップ仕上が行える金属であることがのぞまし
い。またこの実施例では透明な樹脂を用いたが、透明な
ガラスを使用できるのは前記の実施例同様である。
この発明の製造方法によれば、被加工物の加工表面が平
面の場合は勿論、円すい面や球面の場合のフォトエツチ
ング用のマスクも比較的容易°二作ることができ、特に
モデルとしての金属体を、金属を溶解し易い強酸により
腐蝕除去したものは、製造過程で加工力を受けないので
、変形が殆どない正確な形状をもったマスクが得られる
。
面の場合は勿論、円すい面や球面の場合のフォトエツチ
ング用のマスクも比較的容易°二作ることができ、特に
モデルとしての金属体を、金属を溶解し易い強酸により
腐蝕除去したものは、製造過程で加工力を受けないので
、変形が殆どない正確な形状をもったマスクが得られる
。
またマスクの耐久性は、従来のフィルム製のマスクに比
較し、格段に優ワ、シかもフィルム製のマスクで問題に
なることのある粒子のムラと云うようなことは全熱ない
ので、被加工物には極めて第１図ないし第４図はこの発
明の第１の実施例を示すフォトエツチング用マスクの製
造過程を示すもので、ａｔ図はモデルに金型をかぶせた
状態の断面図、第２図はモデルと金型とで形成した空間
に透明な樹脂またはガラスを流し込み、硬化させたとき
の断面図、第３図はモデルおよび金型を除去して得られ
た透明な樹脂製またはガラス製の型の断面図、第４図は
完成したマスクの断面図、第５図ないし第８図は第２の
実施例を示し、第５図はモデルの上面に透明な樹脂層を
形成した断面図、第６図はモデルを除去して得られた透
明な樹脂製の型の断面図、第７図はこの凰の一面に金属
メッキをした断面図、第８図は完成したマスクの断面図
、第９図ないし第１２図は同じく第３の実施例を示すも
ので、第９図はモデルの正面図、第１０図はモデルの外
周面に透明な樹脂層を形成した状態の断面図、第１１図
はモデルを除去する過程の断面図、第１２図は完成した
マスクの断面図を示すものである。
較し、格段に優ワ、シかもフィルム製のマスクで問題に
なることのある粒子のムラと云うようなことは全熱ない
ので、被加工物には極めて第１図ないし第４図はこの発
明の第１の実施例を示すフォトエツチング用マスクの製
造過程を示すもので、ａｔ図はモデルに金型をかぶせた
状態の断面図、第２図はモデルと金型とで形成した空間
に透明な樹脂またはガラスを流し込み、硬化させたとき
の断面図、第３図はモデルおよび金型を除去して得られ
た透明な樹脂製またはガラス製の型の断面図、第４図は
完成したマスクの断面図、第５図ないし第８図は第２の
実施例を示し、第５図はモデルの上面に透明な樹脂層を
形成した断面図、第６図はモデルを除去して得られた透
明な樹脂製の型の断面図、第７図はこの凰の一面に金属
メッキをした断面図、第８図は完成したマスクの断面図
、第９図ないし第１２図は同じく第３の実施例を示すも
ので、第９図はモデルの正面図、第１０図はモデルの外
周面に透明な樹脂層を形成した状態の断面図、第１１図
はモデルを除去する過程の断面図、第１２図は完成した
マスクの断面図を示すものである。
符号の説明
１はモデル、２は金型、３は透明な樹脂またはガラス、
４はマスク、５は不透明な樹脂またはガラス、６はマス
ク、７はモデル、８はマスク、６３ハ金属メツキ 特許出願人 日本精工株式会社 多１図 房ｆ図 Ｚ／ 一走 芽ｇｊ 芽９図 斗１０口 ＝３ 芽１１１図 ８で１ 芥１２癖
４はマスク、５は不透明な樹脂またはガラス、６はマス
ク、７はモデル、８はマスク、６３ハ金属メツキ 特許出願人 日本精工株式会社 多１図 房ｆ図 Ｚ／ 一走 芽ｇｊ 芽９図 斗１０口 ＝３ 芽１１１図 ８で１ 芥１２癖
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 所定の溝、模様、形状等の凹部を形成した金属
製のモデルを作り、この凹部が形成されたモデルの表面
に透明な樹脂層または透明なガラス層を形成し、次に適
宜の方法でモデルを除去して樹脂製またはガラス製の型
を作り、この型に形成された四部に不透明な樹脂層また
は不透明なガラス層あるいは金属層を形成するフォトエ
ツチング用マスクの製造方法。 （２、特許請求の範囲第１項に記載されたフォトエツチ
ング用マスクの製造方法において、モデルの除去は、樹
脂またはガラスと、モデルとを金属を溶解する強酸液中
に投入し、モデルのみを溶解除去するフォトエツチング
用マスクの製造方法。 （３）特許請求の範囲第１項に記載されたフォトエツチ
ング用マスクの製造方法において、樹脂製またはガラス
製の型を製作後、この型に形成された凹部にのみ金属膜
を形成するため、四部側表面に金属を真空蒸着等を用い
て耐着させ、凹部以外に耐着した金属を除去するフォト
エツチング用マスクの製造方法。 （４）特許請求の範囲第１項に記載されたフォトエツチ
ング用マスクの製造方法において、樹脂製まるまでモデ
ルを除去するフォトエツチング用マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035392A JPS6024016A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035392A JPS6024016A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52001218A Division JPS5947455B2 (ja) | 1977-01-11 | 1977-01-11 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6024016A true JPS6024016A (ja) | 1985-02-06 |
Family
ID=12440638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59035392A Pending JPS6024016A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6024016A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100413334B1 (ko) * | 2000-03-28 | 2003-12-31 | 주식회사 미뉴타텍 | 모세관 효과를 이용한 미세 패턴 형성 방법 |
| WO2004103671A1 (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-02 | Sony Corporation | 金型表面装飾方法及び金型 |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP59035392A patent/JPS6024016A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100413334B1 (ko) * | 2000-03-28 | 2003-12-31 | 주식회사 미뉴타텍 | 모세관 효과를 이용한 미세 패턴 형성 방법 |
| WO2004103671A1 (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-02 | Sony Corporation | 金型表面装飾方法及び金型 |
| US7468141B2 (en) | 2003-05-23 | 2008-12-23 | Sony Corporation | Method for decorating die surface as well as die |
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