JPH0872141A - エンボス版の製造方法 - Google Patents
エンボス版の製造方法Info
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- JPH0872141A JPH0872141A JP23605694A JP23605694A JPH0872141A JP H0872141 A JPH0872141 A JP H0872141A JP 23605694 A JP23605694 A JP 23605694A JP 23605694 A JP23605694 A JP 23605694A JP H0872141 A JPH0872141 A JP H0872141A
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 頂部が平滑である凸部ないしは頂部に万線状
微細凹凸が形成された凸部と、サンドブラストによる砂
目状凹凸が形成された凹部とを備えた構成からなるエン
ボス版の製造方法である。 【構成】 エンボス版の凸部を構成する領域にクロムレ
ジスト層を形成してエツチングすることにより金属基材
に凸部を形成した後に、クロムレジスト層が存在する状
態でエツチングされた表面にサンドブラストを施すこと
により、クロムレジスト層のない部分の凹部の表面にの
みサンドブラストによる砂目状凹凸を形成した構成のエ
ンボス版の製造方法である。
微細凹凸が形成された凸部と、サンドブラストによる砂
目状凹凸が形成された凹部とを備えた構成からなるエン
ボス版の製造方法である。 【構成】 エンボス版の凸部を構成する領域にクロムレ
ジスト層を形成してエツチングすることにより金属基材
に凸部を形成した後に、クロムレジスト層が存在する状
態でエツチングされた表面にサンドブラストを施すこと
により、クロムレジスト層のない部分の凹部の表面にの
みサンドブラストによる砂目状凹凸を形成した構成のエ
ンボス版の製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は木目、石目等を備えた化
粧シートを製造するためのエンボス版の製造方法に関す
る。
粧シートを製造するためのエンボス版の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、木目化粧シート作製用のエンボス
版等においては、木材の表面から道管部分を型取りしこ
の型を用いてエンボス版を製造するいわゆる電鋳法によ
り製造されたものが一般的に使用されており、上記エン
ボス版の構成は、平滑な金属基材の表面に木目の道管に
対応した階調のある凸部が形成された構成からなるもの
である。上記エンボス版を使用してエンボスされた化粧
シートにおいては、木目の道管に対応した凹部は忠実に
再現できるが、道管に対応した凹部以外の部分は平滑で
あり光沢があるため、木材の木肌、表面光沢、テクスチ
ヤー等を忠実に再現できないという欠点があつた。
版等においては、木材の表面から道管部分を型取りしこ
の型を用いてエンボス版を製造するいわゆる電鋳法によ
り製造されたものが一般的に使用されており、上記エン
ボス版の構成は、平滑な金属基材の表面に木目の道管に
対応した階調のある凸部が形成された構成からなるもの
である。上記エンボス版を使用してエンボスされた化粧
シートにおいては、木目の道管に対応した凹部は忠実に
再現できるが、道管に対応した凹部以外の部分は平滑で
あり光沢があるため、木材の木肌、表面光沢、テクスチ
ヤー等を忠実に再現できないという欠点があつた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、頂部が平滑
である凸部ないしは頂部に万線状微細凹凸が形成された
凸部と、サンドブラストによる砂目状凹凸が形成された
凹部を備えた構成からなるエンボス版の製造方法を提供
することである。
である凸部ないしは頂部に万線状微細凹凸が形成された
凸部と、サンドブラストによる砂目状凹凸が形成された
凹部を備えた構成からなるエンボス版の製造方法を提供
することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】金属基材の表面に感光膜
を形成し、凸部に対応する領域が黒色で他の領域が透明
であるマスクフイルムを使用して焼き付け現像を行い感
光膜レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面
の前記感光膜レジスト層が形成さていない領域にクロム
メツキを施しクロムレジスト層を形成する工程と、前記
金属基材の表面の前記感光膜レジスト層を除去する工程
と、前記クロムレジスト層が形成された前記金属基材を
塩化第２鉄によりエツチングして凹部を形成する工程
と、エツチングされた前記金属基材の表面全面にサンド
ブラストを施して凹部の内面に砂目状凹凸を形成する工
程と、前記金属基材の表面に残存する前記クロムレジス
ト層を除去する工程とからなることを特徴とする、頂部
が平滑な凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部とを
備えた構成からなるエンボス版の製造方法である。
を形成し、凸部に対応する領域が黒色で他の領域が透明
であるマスクフイルムを使用して焼き付け現像を行い感
光膜レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面
の前記感光膜レジスト層が形成さていない領域にクロム
メツキを施しクロムレジスト層を形成する工程と、前記
金属基材の表面の前記感光膜レジスト層を除去する工程
と、前記クロムレジスト層が形成された前記金属基材を
塩化第２鉄によりエツチングして凹部を形成する工程
と、エツチングされた前記金属基材の表面全面にサンド
ブラストを施して凹部の内面に砂目状凹凸を形成する工
程と、前記金属基材の表面に残存する前記クロムレジス
ト層を除去する工程とからなることを特徴とする、頂部
が平滑な凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部とを
備えた構成からなるエンボス版の製造方法である。
【０００５】金属基材の表面に万線状微細凹凸を形成す
る万線状微細凹凸形成工程と、前記万線状微細凹凸が形
成された前記金属基材の表面に感光膜を形成し、凸部に
対応する領域が黒色で他の領域が透明であるマスクフイ
ルムを使用して焼き付け現像を行い感光膜レジスト層を
形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レジ
スト層が形成さていない領域にクロムメツキを施しクロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記感光膜レジスト層を除去する工程と、前記クロムレ
ジスト層が形成された前記金属基材を塩化第２鉄により
エツチングして凹部を形成する工程と、エツチングされ
た前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施して凹
部の内面に砂目状凹凸を形成する工程と、前記金属基材
の表面に残存する前記クロムレジスト層を除去する工程
とからなることを特徴とする、頂部に万線状微細凹凸が
形成された凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部と
を備えた構成からなるエンボス版の製造方法である。
る万線状微細凹凸形成工程と、前記万線状微細凹凸が形
成された前記金属基材の表面に感光膜を形成し、凸部に
対応する領域が黒色で他の領域が透明であるマスクフイ
ルムを使用して焼き付け現像を行い感光膜レジスト層を
形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レジ
スト層が形成さていない領域にクロムメツキを施しクロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記感光膜レジスト層を除去する工程と、前記クロムレ
ジスト層が形成された前記金属基材を塩化第２鉄により
エツチングして凹部を形成する工程と、エツチングされ
た前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施して凹
部の内面に砂目状凹凸を形成する工程と、前記金属基材
の表面に残存する前記クロムレジスト層を除去する工程
とからなることを特徴とする、頂部に万線状微細凹凸が
形成された凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部と
を備えた構成からなるエンボス版の製造方法である。
【０００６】金属基材の表面に感光膜を形成し、高い凸
部に対応する領域が黒色で他の領域が透明である第１マ
スクフイルムを使用して焼き付け現像を行い第１感光膜
レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の前
記第１感光膜レジスト層が形成されていない領域にクロ
ムメツキを施し第１クロムレジスト層を形成する工程
と、前記金属基材の表面の前記第１感光膜レジスト層を
除去する工程と、前記第１クロムレジスト層が形成され
た前記金属基材を塩化第２鉄によりエツチングする第１
エツチング工程と、エツチングされた前記金属基材の表
面に再度感光膜を形成し、低い凸部に対応する領域が黒
色で他の領域が透明である第２マスクフイルムを使用し
て焼き付け現像を行い第２感光膜レジスト層を形成する
工程と、前記金属基材の表面の前記第２感光膜レジスト
層が形成さていない領域にクロムメツキを施し第２クロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記第２感光膜レジスト層を除去する工程と、前記第１
クロムレジスト層および前記第２クロムレジスト層が形
成されていない領域の前記金属基材を再度塩化第２鉄に
よりエツチングする第２エツチング工程と、エツチング
された前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施す
工程と、前記金属基材の表面に残存する前記第１クロム
レジスト層および前記第２クロムレジスト層を除去する
工程とからなることを特徴とする、頂部が平坦な高さの
異なる２種の凸部と、内面に砂目状凹凸が形成された凹
部とを備えた構成からなるエンボス版の製造方法であ
る。
部に対応する領域が黒色で他の領域が透明である第１マ
スクフイルムを使用して焼き付け現像を行い第１感光膜
レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の前
記第１感光膜レジスト層が形成されていない領域にクロ
ムメツキを施し第１クロムレジスト層を形成する工程
と、前記金属基材の表面の前記第１感光膜レジスト層を
除去する工程と、前記第１クロムレジスト層が形成され
た前記金属基材を塩化第２鉄によりエツチングする第１
エツチング工程と、エツチングされた前記金属基材の表
面に再度感光膜を形成し、低い凸部に対応する領域が黒
色で他の領域が透明である第２マスクフイルムを使用し
て焼き付け現像を行い第２感光膜レジスト層を形成する
工程と、前記金属基材の表面の前記第２感光膜レジスト
層が形成さていない領域にクロムメツキを施し第２クロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記第２感光膜レジスト層を除去する工程と、前記第１
クロムレジスト層および前記第２クロムレジスト層が形
成されていない領域の前記金属基材を再度塩化第２鉄に
よりエツチングする第２エツチング工程と、エツチング
された前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施す
工程と、前記金属基材の表面に残存する前記第１クロム
レジスト層および前記第２クロムレジスト層を除去する
工程とからなることを特徴とする、頂部が平坦な高さの
異なる２種の凸部と、内面に砂目状凹凸が形成された凹
部とを備えた構成からなるエンボス版の製造方法であ
る。
【０００７】
【作用】エンボス版の凸部を構成する領域にクロムメツ
キによりクロムレジスト層を形成して金属基材をエツチ
ングすることにより凸部を形成した後に、クロムレジス
ト層が形成されエツチングされた表面全面にサンドブラ
ストを施すことにより、クロムレジスト層を備えた凸部
はクロムレジスト層がサンドブラストに対する保護層の
働きをするので凸部の金属基材表面には砂目状凹凸が形
成されず、凹部の金属基材表面にのみサンドブラストに
よる砂目状凹凸を容易に形成することができる。したが
つて、頂部が平滑である凸部ないしは頂部に万線状微細
凹凸が形成された凸部と、サンドブラストにより砂目状
凹凸が形成された凹部とを備えた構成のエンボス版を製
造することができる。
キによりクロムレジスト層を形成して金属基材をエツチ
ングすることにより凸部を形成した後に、クロムレジス
ト層が形成されエツチングされた表面全面にサンドブラ
ストを施すことにより、クロムレジスト層を備えた凸部
はクロムレジスト層がサンドブラストに対する保護層の
働きをするので凸部の金属基材表面には砂目状凹凸が形
成されず、凹部の金属基材表面にのみサンドブラストに
よる砂目状凹凸を容易に形成することができる。したが
つて、頂部が平滑である凸部ないしは頂部に万線状微細
凹凸が形成された凸部と、サンドブラストにより砂目状
凹凸が形成された凹部とを備えた構成のエンボス版を製
造することができる。
【０００８】
【実施例】以下、図面を引用して本発明を説明する。図
１は本発明のエンボス版の第１の製造方法を説明する
図、図２は本発明のエンボス版の第２の製造方法を説明
する図、図３は本発明のエンボス版の第３の製造方法を
説明する図であり、１は金属基材、２は感光膜、３はマ
スクフイルム、４，４a ，４b は感光膜レジスト層、
５，５a ，５b はクロムレジスト層、６，６a ，６b は
凸部、７は凹部、８は砂目状凹凸、９は万線状微細凹
凸、11, 12,13はエンボス版をそれぞれ表す。
１は本発明のエンボス版の第１の製造方法を説明する
図、図２は本発明のエンボス版の第２の製造方法を説明
する図、図３は本発明のエンボス版の第３の製造方法を
説明する図であり、１は金属基材、２は感光膜、３はマ
スクフイルム、４，４a ，４b は感光膜レジスト層、
５，５a ，５b はクロムレジスト層、６，６a ，６b は
凸部、７は凹部、８は砂目状凹凸、９は万線状微細凹
凸、11, 12,13はエンボス版をそれぞれ表す。
【０００９】本発明のエンボス版の第１の製造方法は図
１に示す通りであつて、頂部が平滑な凸部６と砂目状凹
凸８が形成された凹部とを備えた（ト）に示す構成のエ
ンボス版11が得られる。本発明のエンボス版の第１の製
造方法を図１に基づいて説明する。（イ）は平滑な金属
基材１の表面に感光膜２を形成し、凸部６に対応する領
域が黒色でその他の領域が透明であるマスクフイルム３
を使用して、感光膜２に焼き付ける状態を示す。金属基
材１としては塩化第２鉄によりエツチング可能な金属で
あれば使用可能であり一般的には銅が用いられる。
（イ）の状態で感光膜２にマスクフイルム３を使用して
焼き付け現像することにより、マスクフイルム３の透明
部３b に対向した感光膜２が硬化し、マスクフイルム３
の黒色部３aに対向した感光膜２は硬化せず現像により
除去されて、（ロ）に示すように凸部６を形成する領域
以外の部分に感光膜レジスト層４が形成される。（ロ）
に示す状態で２００℃、２０分間程度の熱処理を行うこ
とにより、次工程のクロムメツキ工程において感光膜レ
ジスト層４が剥離する等の問題がなくなる。
１に示す通りであつて、頂部が平滑な凸部６と砂目状凹
凸８が形成された凹部とを備えた（ト）に示す構成のエ
ンボス版11が得られる。本発明のエンボス版の第１の製
造方法を図１に基づいて説明する。（イ）は平滑な金属
基材１の表面に感光膜２を形成し、凸部６に対応する領
域が黒色でその他の領域が透明であるマスクフイルム３
を使用して、感光膜２に焼き付ける状態を示す。金属基
材１としては塩化第２鉄によりエツチング可能な金属で
あれば使用可能であり一般的には銅が用いられる。
（イ）の状態で感光膜２にマスクフイルム３を使用して
焼き付け現像することにより、マスクフイルム３の透明
部３b に対向した感光膜２が硬化し、マスクフイルム３
の黒色部３aに対向した感光膜２は硬化せず現像により
除去されて、（ロ）に示すように凸部６を形成する領域
以外の部分に感光膜レジスト層４が形成される。（ロ）
に示す状態で２００℃、２０分間程度の熱処理を行うこ
とにより、次工程のクロムメツキ工程において感光膜レ
ジスト層４が剥離する等の問題がなくなる。
【００１０】次いで、（ロ）の状態の金属基材１の表面
にクロムメツキを行う。クロムメツキ工程では感光膜レ
ジスト層４がマスキングの作用をして、感光膜レジスト
層４のない領域にのみクロムメツキが施されクロムレジ
スト層５が形成されるので、（ハ）に示すように感光膜
レジスト層４がない領域にのみクロムレジスト層５が形
成された状態となる。クロムレジスト層５は金属基材１
のエツチング工程におけるレジストとなると共に、サン
ドブラスト工程において金属基材１の表面を保護する保
護層となるものであるので、それに耐えるだけの厚さが
必要であり、５〜５０ミクロンの厚さに形成される。所
定厚さのクロムレジスト層５を形成した後に、感光膜レ
ジスト層４を除去して、（ニ）の状態にする。
にクロムメツキを行う。クロムメツキ工程では感光膜レ
ジスト層４がマスキングの作用をして、感光膜レジスト
層４のない領域にのみクロムメツキが施されクロムレジ
スト層５が形成されるので、（ハ）に示すように感光膜
レジスト層４がない領域にのみクロムレジスト層５が形
成された状態となる。クロムレジスト層５は金属基材１
のエツチング工程におけるレジストとなると共に、サン
ドブラスト工程において金属基材１の表面を保護する保
護層となるものであるので、それに耐えるだけの厚さが
必要であり、５〜５０ミクロンの厚さに形成される。所
定厚さのクロムレジスト層５を形成した後に、感光膜レ
ジスト層４を除去して、（ニ）の状態にする。
【００１１】（ニ）に示すように金属基材１の表面にク
ロムレジスト層５が形成された状態で、塩化第２鉄を使
用して金属基材１をエツチングすることにより、クロム
レジスト層５のない領域がエツチングされて凹部７が形
成されるので、それにより頂部にクロムレジスト層５を
有する凸部６が形成された（ホ）に示す状態となる。ク
ロムレジスト層５をレジストとしてエツチングする場合
には任意の深さにまでエツチングすることが可能である
が、凸部６の高さは、本発明の方法で製造されたエンボ
ス版を使用して製造される化粧シートにおける凹部の深
さに対応して設定されるのであり、木目道管を形成する
凸部の場合には５０〜１００ミクロンに設定するのが好
ましい。
ロムレジスト層５が形成された状態で、塩化第２鉄を使
用して金属基材１をエツチングすることにより、クロム
レジスト層５のない領域がエツチングされて凹部７が形
成されるので、それにより頂部にクロムレジスト層５を
有する凸部６が形成された（ホ）に示す状態となる。ク
ロムレジスト層５をレジストとしてエツチングする場合
には任意の深さにまでエツチングすることが可能である
が、凸部６の高さは、本発明の方法で製造されたエンボ
ス版を使用して製造される化粧シートにおける凹部の深
さに対応して設定されるのであり、木目道管を形成する
凸部の場合には５０〜１００ミクロンに設定するのが好
ましい。
【００１２】（ホ）の状態の頂部にクロムレジスト層５
を有する凸部６が形成された金属基材１の表面全面にサ
ンドブラストを施して、（ヘ）のように凹部７の内面に
砂目状凹凸８を形成する。サンドブラストは粒子径１〜
１００ミクロンの鉄、炭化珪素、アルミナ、酸化クロ
ム、酸化鉄等の無機粒子を用い、圧搾空気等の力でノズ
ルの先端から金属基材１の表面に吹き付けることで行わ
れる。凸部６の頂部のクロムレジスト層５の面にもサン
ドブラストが施されるが、最終的にクロムレジスト層５
が除去されるので凸部６の頂部は平滑な状態に保たれ
る。凸部６の垂直側面にもわずかにサンドブラストが施
された状態となる。サンドブラストを施した後に凸部６
の頂部のクロムレジスト層５を塩酸により溶解除去する
ことにより、（ト）に示すような、頂部が平滑な凸部６
と内面に砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた構
成のエンボス版11が得られる。
を有する凸部６が形成された金属基材１の表面全面にサ
ンドブラストを施して、（ヘ）のように凹部７の内面に
砂目状凹凸８を形成する。サンドブラストは粒子径１〜
１００ミクロンの鉄、炭化珪素、アルミナ、酸化クロ
ム、酸化鉄等の無機粒子を用い、圧搾空気等の力でノズ
ルの先端から金属基材１の表面に吹き付けることで行わ
れる。凸部６の頂部のクロムレジスト層５の面にもサン
ドブラストが施されるが、最終的にクロムレジスト層５
が除去されるので凸部６の頂部は平滑な状態に保たれ
る。凸部６の垂直側面にもわずかにサンドブラストが施
された状態となる。サンドブラストを施した後に凸部６
の頂部のクロムレジスト層５を塩酸により溶解除去する
ことにより、（ト）に示すような、頂部が平滑な凸部６
と内面に砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた構
成のエンボス版11が得られる。
【００１３】本発明のエンボス版の第２の製造方法は基
本的には第１の製造方法と同一の工程からなるものであ
るが、第１の製造方法と相違する点について図２に基づ
いて説明する。第１の製造方法においる感光膜レジスト
層４を形成する工程の前に、（イ）に示すように金属基
材１の表面に万線状微細凹凸９を形成する。万線状微細
凹凸９を形成するには、金属基材１の平滑な表面に感光
膜を形成して、万線状微細凹凸９を形成するための平行
状線群からなるパターンを有するマスクフイルムを使用
して感光膜に焼き付け現像してレジスト層を形成してか
ら、エツチングにより万線状微細凹凸９を形成する、い
わゆるダイレクトエツチングの方法で行われる。（イ）
に示すように、表面に万線状微細凹凸９が形成された金
属基材１を使用して、第１の製造方法と同じ工程を実施
して、（ロ）に示すエンボス版12が製造される。エンボ
ス版12は、頂部に万線状微細凹凸９が形成された凸部６
と砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた構成であ
る。
本的には第１の製造方法と同一の工程からなるものであ
るが、第１の製造方法と相違する点について図２に基づ
いて説明する。第１の製造方法においる感光膜レジスト
層４を形成する工程の前に、（イ）に示すように金属基
材１の表面に万線状微細凹凸９を形成する。万線状微細
凹凸９を形成するには、金属基材１の平滑な表面に感光
膜を形成して、万線状微細凹凸９を形成するための平行
状線群からなるパターンを有するマスクフイルムを使用
して感光膜に焼き付け現像してレジスト層を形成してか
ら、エツチングにより万線状微細凹凸９を形成する、い
わゆるダイレクトエツチングの方法で行われる。（イ）
に示すように、表面に万線状微細凹凸９が形成された金
属基材１を使用して、第１の製造方法と同じ工程を実施
して、（ロ）に示すエンボス版12が製造される。エンボ
ス版12は、頂部に万線状微細凹凸９が形成された凸部６
と砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた構成であ
る。
【００１４】本発明のエンボス版の第３の製造方法は図
３に示す通りであつて、頂部が平滑な高さの異なる２種
の凸部６a,６b と、砂目状凹凸８が形成された凹部とを
備えた（リ）に示す構成のエンボス版13が得られる。本
発明のエンボス版の第３の製造方法を図３に基づいて説
明する。先ず、金属基材１の表面に感光膜を形成し、高
い凸部６a に対応する領域が黒色で他の領域が透明であ
る第１マスクフイルムを使用して、感光膜に焼き付け現
像を行い第１感光膜レジスト層４a を形成した（イ）の
状態とし、金属基材１の表面の第１感光膜レジスト層４
a が形成されていない領域にクロムメツキを施し第１ク
ロムレジスト層５a を形成した後、第１感光膜レジスト
層４a を剥離除去して（ロ）の状態とする。次いで、第
１エツチング工程により第１クロムレジスト層５a のな
い領域の金属基材１を所定の深さにエツチングして、
（ハ）の状態とする。エツチングする深さは、高い凸部
６aと低い凸部６b の高さの差となるので、作製するエ
ンボス版13の用途に応じて適宜の値に設定する。
３に示す通りであつて、頂部が平滑な高さの異なる２種
の凸部６a,６b と、砂目状凹凸８が形成された凹部とを
備えた（リ）に示す構成のエンボス版13が得られる。本
発明のエンボス版の第３の製造方法を図３に基づいて説
明する。先ず、金属基材１の表面に感光膜を形成し、高
い凸部６a に対応する領域が黒色で他の領域が透明であ
る第１マスクフイルムを使用して、感光膜に焼き付け現
像を行い第１感光膜レジスト層４a を形成した（イ）の
状態とし、金属基材１の表面の第１感光膜レジスト層４
a が形成されていない領域にクロムメツキを施し第１ク
ロムレジスト層５a を形成した後、第１感光膜レジスト
層４a を剥離除去して（ロ）の状態とする。次いで、第
１エツチング工程により第１クロムレジスト層５a のな
い領域の金属基材１を所定の深さにエツチングして、
（ハ）の状態とする。エツチングする深さは、高い凸部
６aと低い凸部６b の高さの差となるので、作製するエ
ンボス版13の用途に応じて適宜の値に設定する。
【００１５】第１エツチング工程が完了した（ハ）の状
態の金属基材１の表面に再度感光膜を形成し、低い凸部
６b に対応する領域が黒色で他の領域が透明である第２
マスクフイルムを使用して、感光膜に焼き付け現像を行
い第２感光膜レジスト層４bを形成して（ニ）の状態と
して、金属基材１の表面の第２感光膜レジスト層４bが
形成さていない領域にクロムメツキを施し第２クロムレ
ジスト層５b を形成した後、金属基材１の表面の第２感
光膜レジスト層４b を除去して（ヘ）の状態とする。次
いで、第２エツチング工程により、第１クロムレジスト
層５a および第２クロムレジスト層５b が形成されてい
ない領域の金属基材１を塩化第２鉄により所定の深さに
エツチングして、（ト）に示すように、頂部に第１クロ
ムレジスト層５a を有する高い凸部６a と頂部に第２ク
ロムレジスト層５b を有する低い凸部６b とを形成す
る。
態の金属基材１の表面に再度感光膜を形成し、低い凸部
６b に対応する領域が黒色で他の領域が透明である第２
マスクフイルムを使用して、感光膜に焼き付け現像を行
い第２感光膜レジスト層４bを形成して（ニ）の状態と
して、金属基材１の表面の第２感光膜レジスト層４bが
形成さていない領域にクロムメツキを施し第２クロムレ
ジスト層５b を形成した後、金属基材１の表面の第２感
光膜レジスト層４b を除去して（ヘ）の状態とする。次
いで、第２エツチング工程により、第１クロムレジスト
層５a および第２クロムレジスト層５b が形成されてい
ない領域の金属基材１を塩化第２鉄により所定の深さに
エツチングして、（ト）に示すように、頂部に第１クロ
ムレジスト層５a を有する高い凸部６a と頂部に第２ク
ロムレジスト層５b を有する低い凸部６b とを形成す
る。
【００１６】金属基材１の表面に高い凸部６a と低い凸
部６b とを形成された（ト）の状態で、金属基材１の表
面全面にサンドブラストを施して凹部７の内面に砂目状
凹凸８を形成する。この場合においても、第１クロムレ
ジスト層５a および前記第２クロムレジスト層５b が形
成されている高い凸部６a および低い凸部６b の頂部は
サンドブラストから保護されて平滑な状態に保たれ、凹
部７の内面にのみ砂目状凹凸８が形成される。最後に、
金属基材１の表面に残存する第１クロムレジスト層５a
および第２クロムレジスト層５b を塩酸により溶解除去
して、頂部が平滑な高い凸部６a および低い凸部６b
と、内面に砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた
構成からなるエンボス版13が得られる。
部６b とを形成された（ト）の状態で、金属基材１の表
面全面にサンドブラストを施して凹部７の内面に砂目状
凹凸８を形成する。この場合においても、第１クロムレ
ジスト層５a および前記第２クロムレジスト層５b が形
成されている高い凸部６a および低い凸部６b の頂部は
サンドブラストから保護されて平滑な状態に保たれ、凹
部７の内面にのみ砂目状凹凸８が形成される。最後に、
金属基材１の表面に残存する第１クロムレジスト層５a
および第２クロムレジスト層５b を塩酸により溶解除去
して、頂部が平滑な高い凸部６a および低い凸部６b
と、内面に砂目状凹凸８が形成された凹部７とを備えた
構成からなるエンボス版13が得られる。
【００１７】本発明のエンボス版の第１ないし第３の製
造方法について説明したように、本発明のエンボス版の
製造方法においては、クロムメツキ工程により凸部６，
６a，６b に対応したクロムレジスト層５，５a ，５b
を形成し、クロムレジスト層５，５a ，５b をレジスト
として、金属基材１を所定の深さになるまでエツチング
して凸部６，６a ，６b を形成する。その後、凸部６，
６a ，６b の頂部にクロムレジスト層５が形成されたま
までサンドブラストを実施することにより、凸部６，６
a ，６b の頂部は保護されるので、凹部７の内面にのみ
サンドブラストにより砂目状凹凸８を形成することがで
きるエンボス版の製造方法である。
造方法について説明したように、本発明のエンボス版の
製造方法においては、クロムメツキ工程により凸部６，
６a，６b に対応したクロムレジスト層５，５a ，５b
を形成し、クロムレジスト層５，５a ，５b をレジスト
として、金属基材１を所定の深さになるまでエツチング
して凸部６，６a ，６b を形成する。その後、凸部６，
６a ，６b の頂部にクロムレジスト層５が形成されたま
までサンドブラストを実施することにより、凸部６，６
a ，６b の頂部は保護されるので、凹部７の内面にのみ
サンドブラストにより砂目状凹凸８を形成することがで
きるエンボス版の製造方法である。
【００１８】本発明の方法にて製造されるエンボス版1
1, 12, 13を使用してプラスチツクフイルムにエンボス
され製造される化粧シートは、エンボス版の凸部６，６
a ，６b により、化粧シートに凹部が形成されると共
に、砂目状凹凸８が形成されたエンボス版11, 12, 13の
凹部７によりエンボスされた部分は平滑な艶消し状態に
形成することができる。したがつて、木目、石目、皮革
目等を有する化粧シートの製造に使用することにより、
凹部と平滑な艶消し部からなる化粧シートを製造するこ
とができる。
1, 12, 13を使用してプラスチツクフイルムにエンボス
され製造される化粧シートは、エンボス版の凸部６，６
a ，６b により、化粧シートに凹部が形成されると共
に、砂目状凹凸８が形成されたエンボス版11, 12, 13の
凹部７によりエンボスされた部分は平滑な艶消し状態に
形成することができる。したがつて、木目、石目、皮革
目等を有する化粧シートの製造に使用することにより、
凹部と平滑な艶消し部からなる化粧シートを製造するこ
とができる。
【００１９】実施例１ 鉄芯のまわりに厚さ２００ミクロンの銅メツキを施した
ロールの表面に感光膜を形成し、木目道管に対応する部
分が黒色でその他の部分が透明であるマスクフイルムを
使用して、感光膜に焼き付け現像を行い、道管に対応し
た凸部を形成するための感光膜レジスト層を形成して、
感光膜レジスト層を２００℃、２０分間熱処理して完全
に硬化させた。次いで、銅基材の表面にクロムメツキを
施し銅基材の表面の感光膜レジスト層が形成されていな
い領域に厚さ２０ミクロンのクロムレジスト層を形成し
てから、感光膜レジスト層を除去して銅基材の表面にエ
ツチングのためのクロムレジスト層を形成した。この状
態で塩化第２鉄を使用したエツチング工程を実施して、
銅基材を８０ミクロンの深さにエツチングすることによ
り高さ８０ミクロンの凸部を形成した。次いで、頂部に
クロムレジスト層を有する凸部が形成された銅基材の表
面全面にサンドブラストを施すことにより、凹部の内面
に砂目状凹凸を形成し、凸部の頂部に残存するクロムレ
ジスト層を塩酸により溶解除去して、木目道管に対応し
た頂部が平滑な凸部と平坦な木肌に対応した内面に砂目
状凹凸が形成された凹部とを備えた構成の木目化粧シー
トを作製するためのエンボス版を得た。
ロールの表面に感光膜を形成し、木目道管に対応する部
分が黒色でその他の部分が透明であるマスクフイルムを
使用して、感光膜に焼き付け現像を行い、道管に対応し
た凸部を形成するための感光膜レジスト層を形成して、
感光膜レジスト層を２００℃、２０分間熱処理して完全
に硬化させた。次いで、銅基材の表面にクロムメツキを
施し銅基材の表面の感光膜レジスト層が形成されていな
い領域に厚さ２０ミクロンのクロムレジスト層を形成し
てから、感光膜レジスト層を除去して銅基材の表面にエ
ツチングのためのクロムレジスト層を形成した。この状
態で塩化第２鉄を使用したエツチング工程を実施して、
銅基材を８０ミクロンの深さにエツチングすることによ
り高さ８０ミクロンの凸部を形成した。次いで、頂部に
クロムレジスト層を有する凸部が形成された銅基材の表
面全面にサンドブラストを施すことにより、凹部の内面
に砂目状凹凸を形成し、凸部の頂部に残存するクロムレ
ジスト層を塩酸により溶解除去して、木目道管に対応し
た頂部が平滑な凸部と平坦な木肌に対応した内面に砂目
状凹凸が形成された凹部とを備えた構成の木目化粧シー
トを作製するためのエンボス版を得た。
【００２０】
【発明の効果】エンボス版の製造において、金属基材の
表面にクロムメツキにより凸部を形成するためのクロム
レジスト層を形成して塩化第２鉄によりエツチングする
ことにより凸部を形成すると共に、凸部の頂部にクロム
レジスト層が存在する状態で、金属基材の表面全面にサ
ンドブラストを施すことにより、クロムレジスト層を備
えた凸部はクロムレジスト層がサンドブラストに対する
保護層の働きをするため凸部の表面には砂目状凹凸が形
成されず、凹部の内面にのみサンドブラストによる砂目
状凹凸を形成することができるので、頂部が平滑である
凸部ないしは頂部に万線状微細凹凸が形成された凸部
と、内面にサンドブラストにより砂目状凹凸が形成され
た凹部とを備えた構成のエンボス版を製造することがで
きる。本方法により製造されたエンボス版を使用して木
目、石目、皮革目等の化粧シートを製造することによ
り、実物に近い意匠性の優れた化粧シートが得られる。
表面にクロムメツキにより凸部を形成するためのクロム
レジスト層を形成して塩化第２鉄によりエツチングする
ことにより凸部を形成すると共に、凸部の頂部にクロム
レジスト層が存在する状態で、金属基材の表面全面にサ
ンドブラストを施すことにより、クロムレジスト層を備
えた凸部はクロムレジスト層がサンドブラストに対する
保護層の働きをするため凸部の表面には砂目状凹凸が形
成されず、凹部の内面にのみサンドブラストによる砂目
状凹凸を形成することができるので、頂部が平滑である
凸部ないしは頂部に万線状微細凹凸が形成された凸部
と、内面にサンドブラストにより砂目状凹凸が形成され
た凹部とを備えた構成のエンボス版を製造することがで
きる。本方法により製造されたエンボス版を使用して木
目、石目、皮革目等の化粧シートを製造することによ
り、実物に近い意匠性の優れた化粧シートが得られる。
【図１】本発明のエンボス版の第１の製造方法を説明す
る図。
る図。
【図２】本発明のエンボス版の第２の製造方法を説明す
る図。
る図。
【図３】本発明のエンボス版の第３の製造方法を説明す
る図。
る図。
１ 金属基材 ２ 感光膜 ３ マスクフイルム ４，４a ，４b 感光膜レジスト層 ５，５a ，５b クロムレジスト層 ６，６a ，６b 凸部 ７ 凹部 ８ 砂目状凹凸 ９ 万線状微細凹凸 11, 12, 13 エンボス版
Claims (3)
- 【請求項１】 金属基材の表面に感光膜を形成し、凸部
に対応する領域が黒色で他の領域が透明であるマスクフ
イルムを使用して焼き付け現像を行い感光膜レジスト層
を形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レ
ジスト層が形成さていない領域にクロムメツキを施しク
ロムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面
の前記感光膜レジスト層を除去する工程と、前記クロム
レジスト層が形成された前記金属基材を塩化第２鉄によ
りエツチングして凹部を形成する工程と、エツチングさ
れた前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施して
凹部の内面に砂目状凹凸を形成する工程と、前記金属基
材の表面に残存する前記クロムレジスト層を除去する工
程とからなることを特徴とする、頂部が平滑な凸部と内
面に砂目状凹凸が形成された凹部とを備えた構成からな
るエンボス版の製造方法。 - 【請求項２】 金属基材の表面にエツチングにより万線
状微細凹凸を形成する工程と、前記万線状微細凹凸が形
成された前記金属基材の表面に感光膜を形成し、凸部に
対応する領域が黒色で他の領域が透明であるマスクフイ
ルムを使用して焼き付け現像を行い感光膜レジスト層を
形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レジ
スト層が形成さていない領域にクロムメツキを施しクロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記感光膜レジスト層を除去する工程と、前記クロムレ
ジスト層が形成された前記金属基材を塩化第２鉄により
エツチングして凹部を形成する工程と、エツチングされ
た前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施して凹
部の内面に砂目状凹凸を形成する工程と、前記金属基材
の表面に残存する前記クロムレジスト層を除去する工程
とからなることを特徴とする、頂部に万線状微細凹凸が
形成された凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部と
を備えた構成からなるエンボス版の製造方法。 - 【請求項３】 金属基材の表面に感光膜を形成し、高い
凸部に対応する領域が黒色で他の領域が透明である第１
マスクフイルムを使用して焼き付け現像を行い第１感光
膜レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記第１感光膜レジスト層が形成されていない領域にク
ロムメツキを施し第１クロムレジスト層を形成する工程
と、前記金属基材の表面の前記第１感光膜レジスト層を
除去する工程と、前記第１クロムレジスト層が形成され
た前記金属基材を塩化第２鉄によりエツチングする第１
エツチング工程と、エツチングされた前記金属基材の表
面に再度感光膜を形成し、低い凸部に対応する領域が黒
色で他の領域が透明である第２マスクフイルムを使用し
て焼き付け現像を行い第２感光膜レジスト層を形成する
工程と、前記金属基材の表面の前記第２感光膜レジスト
層が形成さていない領域にクロムメツキを施し第２クロ
ムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の
前記第２感光膜レジスト層を除去する工程と、前記第１
クロムレジスト層および前記第２クロムレジスト層が形
成されていない領域の前記金属基材を再度塩化第２鉄に
よりエツチングする第２エツチング工程と、エツチング
された前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施す
工程と、前記金属基材の表面に残存する前記第１クロム
レジスト層および前記第２クロムレジスト層を除去する
工程とからなることを特徴とする、頂部が平滑な高さの
異なる２種の凸部と、内面に砂目状凹凸が形成された凹
部とを備えた構成からなるエンボス版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23605694A JPH0872141A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | エンボス版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23605694A JPH0872141A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | エンボス版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0872141A true JPH0872141A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=16995091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23605694A Pending JPH0872141A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | エンボス版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0872141A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002347112A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 水溶性エンボスフィルムの製造方法 |
| EP2045363A1 (en) | 2007-10-05 | 2009-04-08 | Spanolux N.V. Div. Balterio | A method of manufacturing a press plate, a press plate, a method of embossing a floor panel, and a floor panel |
| US8153234B2 (en) | 2004-12-16 | 2012-04-10 | Flooring Industries Limited | Floor panel and method for manufacturing a floor panel |
| JP2012213901A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Fujikura Ltd | インプリントモールドおよびその製造方法 |
| JP2014043047A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Mazda Motor Corp | シボ付き樹脂成形品 |
| AT519302A1 (de) * | 2016-12-01 | 2018-05-15 | Ing Michael Muellner | Verfahren zur Herstellung einer Pressmatrize |
| CN111819061A (zh) * | 2018-03-05 | 2020-10-23 | 佳能株式会社 | 产品和制造产品的方法 |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP23605694A patent/JPH0872141A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002347112A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 水溶性エンボスフィルムの製造方法 |
| US8153234B2 (en) | 2004-12-16 | 2012-04-10 | Flooring Industries Limited | Floor panel and method for manufacturing a floor panel |
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| WO2009043910A1 (en) * | 2007-10-05 | 2009-04-09 | Spanolux N.V.- Div. Balterio | A method of manufacturing a press plate, a press plate, a method of embossing a floor panel, and a floor planel |
| DE202007019084U1 (de) | 2007-10-05 | 2010-08-19 | Spanolux N.V. Div. Balterio | Druckplatte zum Aufprägen einer Oberflächenstruktur auf eine Bodenplatte |
| US8784671B2 (en) | 2007-10-05 | 2014-07-22 | Spanolux N.V.-Div. Balterio | Method of manufacturing a press plate, a press plate, a method of embossing a floor panel, and a floor panel |
| JP2012213901A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Fujikura Ltd | インプリントモールドおよびその製造方法 |
| JP2014043047A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Mazda Motor Corp | シボ付き樹脂成形品 |
| AT519302A1 (de) * | 2016-12-01 | 2018-05-15 | Ing Michael Muellner | Verfahren zur Herstellung einer Pressmatrize |
| AT519302B1 (de) * | 2016-12-01 | 2019-01-15 | Ing Michael Muellner | Verfahren zur Herstellung einer Pressmatrize |
| CN111819061A (zh) * | 2018-03-05 | 2020-10-23 | 佳能株式会社 | 产品和制造产品的方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040604 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040608 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20041019 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |