JPH0811207A - エンボス版の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 木材組織に対応した表面凹凸を備え、見る方
向により強弱が変化する表面光沢を有し、表面の磨耗に
より木材の質感が損なわれにくい化粧材を製造するため
のエンボス版の製造方法を提供する。 【構成】 銅からなる金属基材の表面にエツチングによ
り万線状微細凹凸を形成する工程と、その面にニツケル
からなる保護金属層を形成する工程と、保護金属層面に
原形の表面状態に対応したマスクフイルムを使用して凸
部及び凹部を形成するためのレジスト膜を形成する工程
と、塩化第２鉄を使用して保護金属層と金属基材をエツ
チングして凹部を形成する工程と、サンドブラストを施
す工程と、アミン系の剥離剤により残存する保護金属層
を除去する工程とからなる、万線状微細凹凸が形成され
た木材組織の道管、仮道管等に対応した凸部と、砂目状
凹凸が形成された凹部とを備えたエンボス版の製造方法
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は意匠性の優れた木目、石
目、皮革目等を有する化粧材を製造するのに使用するエ
ンボス版の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、表面に微細万線状の凹凸形状が形
成されてなる化粧材に関しては、例えば、特開平４−５
２１８１号公報に記載されているように、基材の表面に
原形の表面形状を再現する凹凸形状と、原形の表面光沢
およびその異方性を再現する平行線群および／または平
行曲線群からなる微細万線溝の凹凸形状とが形成された
化粧材ないしはその化粧材を製造するためのエンボス版
が知られている。

【０００３】上記の化粧材を作製するためのエンボス版
については、その製造が技術的に難しい上に、該エンボ
ス版を使用して製造された化粧材は、微細万線溝の凹凸
形状が化粧材の表面全面、即ち、表面の凸部にも凹部に
も均一に形成されることになるので、凸部及び凹部の表
面光沢に差が出ず、原形の表面光沢、テクスチヤーを正
確に再現できないという欠点がある。また、表面の凸部
に形成された微細万線溝の凹凸は摩耗により艶ムラが出
やすく、原形の表面光沢、テクスチヤーが損なわれると
いう欠点があつた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、原形
の表面凹凸を備えたテクスチヤー及び光沢を有し、表面
の質感をできるだけ良く再現できると共に、磨耗により
表面の質感が損なわれにくい化粧材を製造するための、
頂部に平行状線群からなる万線状微細凹凸が形成された
凸部と内面にサンドブラストによる砂目状凹凸が形成さ
れた凹部を備えた構造からなるエンボス版を安定した品
質で効率的に製造できる方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】銅からなる金属基材の表
面に平行状線群からなる万線状微細凹凸をエツチングに
より形成する工程と、該万線状微細凹凸が形成された前
記金属基材の表面にニツケルからなる保護金属層を形成
する工程と、該保護金属層を設けた表面に原形の表面形
状に対応した濃淡を有するマスクフイルムを使用して凸
部及び凹部を形成するためのレジスト膜を形成する工程
と、塩化第２鉄によるエツチングにより前記レジスト膜
が形成されていない部分の前記保護金属層を溶解除去す
ると共に前記保護金属層が溶解除去された部分の前記金
属基材に凹部を形成する工程と、前記金属基材の表面に
サンドブラストを施す工程と、アミン系の剥離剤により
残存する前記保護金属層を除去する工程とからなること
を特徴とする、原形の表面形状に対応した凸部と凹部を
有し、該凸部の頂部には平行状線群からなる万線状微細
凹凸が形成され、該凹部の内面には砂目状凹凸が形成さ
れた構成からなるエンボス版の製造方法である。

【０００６】

【作用】原形の表面形状に対応した凸部と凹部を有し、
凸部の頂部には平行状線群（平行状線群とは複数の平行
線からなる線群ないしは隣接する２線間の間隔が一定で
はないが交差することのない複数の線からなる線群をい
う）からなる万線状微細凹凸が形成され、凹部の内面に
は砂目状凹凸が形成された構造のエンボス版を製造する
方法において、金属基材を銅とし、サンドブラストに対
する保護金属層をニツケルとし、エツチング液を塩化第
２鉄とし、保護金属層の剥離剤をアミン系剥離剤とする
ことにより、塩化第２鉄により保護金属層と金属基材を
連続してエツチングすることが可能であると共に、アミ
ン系剥離剤により金属基材素地を侵すことなく保護金属
層を剥離できるので、安定した品質で効率的にエンボス
版を製造することが可能になる。

【０００７】

【実施例】以下、図面を引用して本発明を説明する。図
１は本発明のエンボス版の断面図、図２は本発明のエン
ボス版の製造工程を示す図で、（イ）は金属基材表面に
万線状微細凹凸が形成された状態、（ロ）は万線状微細
凹凸が形成された金属基材表面に保護金属層が形成され
た状態、（ハ）は保護金属層表面にエツチングにより原
形の表面形状に対応した凸部を形成するためのレジスト
膜が形成された状態、（ニ）はエツチングによりレジス
ト膜のない部分の保護金属層を除去し更に金属基材に凹
部を形成した状態、（ホ）は表面全面にサンドブラスト
により砂目状凹凸を形成した状態、（ヘ）は表面に残存
する保護金属層を除去して完成したエンボス版、（ト）
は完成したエンボス版にクロムメツキを施した状態、図
３は本発明のエンボス版を使用して製造された化粧材の
断面図、図４は本発明で使用する万線状微細凹凸のパタ
ーンの具体例を示す図であつて、１はエンボス版、２は
金属基材、３は凸部、４は凹部、５は万線状微細凹凸、
６は砂目状凹凸、７は保護金属層、８はレジスト膜、９
はクロムメツキ層、10は表面基材層、11は印刷インキ
層、12は裏面基材層、13は保護層、14は化粧材をそれぞ
れ表す。

【０００８】本発明のエンボス版１の断面形状は図１に
示すように、金属基材２の表面に、原形の表面形状に対
応した凸部３と凹部４とを備え、凸部３の頂部には平行
状線群からなる万線状微細凹凸５が形成され、凹部４の
内面にはサンドブラストによる砂目状凹凸６が形成され
た構成となつている。

【０００９】本発明のエンボス版１は図２に示す工程に
より製造される。先ず、エンボス版１を構成する銅から
なる金属基材２の表面に感光液を塗布し、万線状微細凹
凸５のパターンを備えたマスクフイルムを使用して露光
し、現像した後、塩化第２鉄溶液を使用してエツチング
することにより、（イ）に示すように銅からなる金属基
材２の表面に万線状微細凹凸５を形成する。

【００１０】万線状微細凹凸５が形成された銅からなる
金属基材２の表面全面を均一に覆うように、ニツケルか
らなる保護金属層７をメツキにより形成して（ロ）に示
す状態にする。ニツケルからなる保護金属層７の厚さは
特に限定されないが、万線状微細凹凸５の表面を完全に
覆つて、後工程のサンドブラスト処理により剥離したり
摩耗したりしない程度の厚さが必要であるので、５〜２
０ミクロンの厚さの範囲で設定するのが好ましい。

【００１１】ニツケルからなる保護金属層７が形成され
た表面に感光液を塗布して感光膜を形成し、原形の表面
形状に対応したエンボス版１の凸部３及び凹部４を形成
するためのマスクフイルムを使用して露光、現像して、
（ハ）に示すようにニツケルからなる保護金属層７の表
面に凸部３及び凹部４を形成するためのレジスト膜８を
形成する。この状態でエンボス版１の凸部３を形成する
部分にのみにレジスト膜８が形成される。

【００１２】次いで、塩化第２鉄溶液を使用したエツチ
ングにより、レジスト膜８が形成されていない部分のニ
ツケルからなる保護金属層７を溶解除去すると共に、保
護金属層７が除去された部分の銅からなる金属基材２を
エツチングして（ニ）に示すように凹部４を形成する。
原形の表面形状によつて異なるが、凹部の深さは３０〜
８０ミクロンに形成される。

【００１３】残存するニツケルからなる保護金属層７及
びレジスト膜８のない部分に形成された凹部４を有する
銅からなる金属基材２の表面全面にサンドブラストを施
すことにより、（ホ）に示すように表面全面に砂目状凹
凸６を形成する。サンドブラストは粒子径１〜１００ミ
クロン程度の鉄、炭化珪素、アルミナ、酸化クロム、酸
化鉄等の無機粒子を用い、圧搾空気等の力でノズルの先
端から上記無機粒子を、残存するニツケルからなる保護
金属層７面及びレジスト膜８のない部分の銅からなる金
属基材２に形成された凹部４の表面に吹き付けることに
より行われる。サンドブラスト処理はレジスト膜８を残
したままでもよいし、レジスト膜８を除去してから行つ
てもよい。サンドブラスト処理により表面の凹部４の内
面および残存している保護金属層７の表面の全面に砂目
状凹凸６が形成される。

【００１４】次いで、表面に残存するニツケルからなる
保護金属層７をアミン系の剥離剤を使用して完全に溶解
除去して、（ヘ）に示すように凹部４の内面に砂目状凹
凸６が形成され、凸部３の頂部に万線状微細凹凸５が形
成されたエンボス版が完成する。アミン系の剥離剤を使
用することにより、銅からなる金属基材２の素地を侵す
ことなくニツケルからなる保護金属層７のみを溶解除去
することができる。（ヘ）に示す状態でもエンボス版と
して使用可能であるが、耐久性を向上させるために
（ト）に示すように表面にクロムメツキ層９を設けて使
用することが好ましい。

【００１５】本発明のエンボス版１の製造に使用する、
平行状線群からなる万線状微細凹凸５のパターンの具体
例としては図４に示す、（イ）の波型平行曲線群、
（ロ）の複合された正弦曲線からなる波型平行状曲線
群、（ハ）の区画により方向の異なる平行直線群の組み
合わせ、（ニ）の区画により形の異なる平行状曲線群の
組み合わせ、（ホ）の閉ループの平行状曲線群の組み合
わせ等である。作製する木目、石目、布目、皮革目等の
化粧材の種類により、その原形の表面状態を再現するの
に最も適したパターンの平行状線群からなる万線状微細
凹凸５を使用することにより、表面光沢、表面形状、テ
クスチヤー等を忠実に再現することができる。

【００１６】万線状微細凹凸５は化粧材の表面光沢、表
面形状、テクスチヤー等を忠実に再現するためのもので
あるので、平行状線群からなる万線状微細凹凸５の隣接
する万線間の間隔及び深さは、原形の種類、表面状態に
より異なるが、５〜１００ミクロンの範囲で設定するの
がよく、深さが５〜３０ミクロン、間隔は２０〜１００
ミクロンの平行状線群からなる万線状微細凹凸５が最も
好ましい。

【００１７】本発明のエンボス版１を構成する金属基材
２は銅であつて、円筒状のエンボス版を作製する場合の
構成としては、円筒状の鉄からなる芯材の表面に０．２
〜１．０ｍｍの厚さの銅の層をメツキにより形成したも
のを使用する。エンボス版１の形状は平板状、円筒状等
任意であるが、一般的には円筒状のエンボス版が使用さ
れる。

【００１８】本発明のエンボス版１を使用して製造され
る化粧材14の構成は図３に示すように、表面基材層10と
印刷インキ層11と裏面基材層12が積層されてなり、表面
基材層10の表面にエンボス版１の凸部３と凹部４に対応
した凹部と凸部が形成されており、凹部の内面には万線
状微細凹凸５が形成され、凸部にはサンドブラストによ
る砂目状凹凸６が形成され、内面に万線状微細凹凸５が
形成された凹部とサンドブラストによる砂目状凹凸６が
形成された凸部の全面を覆つて保護層13が設けられた構
成からなる。

【００１９】化粧材14の積層構成は図３に示す、表面基
材層10と印刷インキ層11と裏面基材層12からなるもの以
外に、裏面基材層12を使用せずに表面基材層10と印刷イ
ンキ層11とで構成することもできる。

【００２０】図３に示す化粧材14の構成では、印刷イン
キ層11が表面基材層10と裏面基材層12の間に設けられて
いるが、上記の構成のように印刷インキ層11を表面基材
層10と裏面基材層12の間に設けるのではなく、表面基材
層10の表面即ちエンボスを施す面に印刷インキ層11を設
けた構成としてもよい。

【００２１】化粧材14の表面基材層10を構成する材料と
しては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル系樹脂、ア
クリル系樹脂、ポリオレフイン系樹脂等の熱可塑性樹脂
が使用できるがポリ塩化ビニル樹脂が最も適している。
裏面基材層13を構成する材料についても上記の表面基材
層10を構成する材料と同一のものが使用可能であり、着
色した熱可塑性樹脂が主として使用される。表面基材層
10、裏面基材層12の厚さはそれぞれ７０〜１５０ミクロ
ンが適当であり、裏面基材層12を使用せず表面基材層10
のみで化粧材を構成する場合には表面基材層10の厚さは
１２０〜２５０ミクロンが適当である。

【００２２】化粧材14を構成する印刷インキ層11はグラ
ビア印刷等により設けられた絵柄層とベタ着色層からな
る。光沢をより有効に再現するためにベタ着色層を光輝
性顔料を含有するインキにて印刷することができる。必
要に応じて絵柄層についても光輝性顔料を含有するイン
キにて印刷してもよい。光輝性顔料としてはアルミニウ
ム、銅等の金属粉ないしは金属箔片からなる金属光沢顔
料、雲母、魚鱗箔等の真珠光沢顔料等が使用できる。裏
面基材層12を使用せず表面基材層10のみで化粧材を構成
する場合にはベタ着色層を印刷によつて設ける代わりに
表面基材層10を光輝性顔料により着色した材料を使用し
て実施することもできる。

【００２３】保護層13は化粧材14の表面物性を改良し、
表面光沢を調整するものであり、保護層13として使用さ
れる樹脂としてはウレタン系の熱硬化性樹脂、紫外線硬
化性樹脂等が適している。表面光沢を調整するために上
記の熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂に炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、シリカ、アルミナ等の無機微粉末を
添加することもできるし、必要により透明顔料により着
色することもできる。

【００２４】化粧材14の製造方法は、着色した裏面基材
層12を使用してその表面にベタインキ層と絵柄インキ層
からなる印刷インキ層11を印刷により設ける。上記の印
刷インキ層11を設けた裏面基材層12の印刷インキ層11面
に透明な表面基材層10を重ね合わせて、図１に示す形状
のエンボス版１を取り付けた通常のエンボス機を使用し
て、透明な表面基材層10の表面にエンボスを行うと同時
に、印刷インキ層11を設けた裏面基材層12と透明な表面
基材層10を接着積層した後に、エンボスされた表面の全
面に透明な保護層13を設けて化粧材が完成する。

【００２５】実施例１ 鉄からなる芯材の周囲に厚さ２００ミクロンの銅メツキ
を施した表面が銅からなるロール状金属基材の表面全面
に、複合正弦曲線からなるマスクフイルムを使用して、
線巾が３０ミクロン、間隔が３０ミクロン、深さが１０
ミクロンの万線状微細凹凸をダイレクトエツチングによ
り形成する。上記万線状微細凹凸面に１０ミクロンの厚
さのニツケルメツキを施してニツケルからなる金属保護
層を形成し、該金属保護層面に感光性樹脂を５ミクロン
の厚さに塗布し、完成したエンボス版において木目の仮
導管、組織等に対応した凸部を形成する部分が透明で、
凹部を形成する部分が黒色のマスクフイルムを上記感光
性樹脂面に重ねて露光、現像してレジスト膜を形成す
る。次いで、塩化第２鉄溶液を使用してエツチングする
ことにより、レジスト膜のない部分の金属保護層を溶解
除去すると共に金属保護層を溶解除去した部分の銅基材
面をエツチングして５０ミクロンの深さの凹部を形成す
る。銅基材面に凹部を形成した表面全面に＃１５０の粒
子を用いてサンドブラスト処理を行い表面に砂目状凹凸
を形成する。残存しているニツケルからなる金属保護層
をアミン系の剥離剤（エンストリツプＮＰ，メルテツク
ス（株））を用いて溶解除去し、表面全面にクロムメツ
キを施して木目化粧材を製造するためのエンボス版を作
製した。上記エンボス版を使用して木目絵柄インキ層を
設けたポリ塩化ビニルシートにエンボスを行うことによ
り、木材の表面光沢、照りの移動効果、テクスチヤー等
の質感が忠実に再現できると共に、表面の摩耗により木
材の質感が損なわれにくく物性的にも意匠的にも優れた
化粧材が得られた。

【００２６】

【発明の効果】銅からなる金属基材の表面にエツチング
により万線状微細凹凸を形成する工程と、その表面にニ
ツケルからなる保護金属層を形成する工程と、保護金属
層面に原形の表面形状に対応した濃淡を有するマスクフ
イルムを使用して凸部及び凹部を形成するためのレジス
ト膜を形成する工程と、塩化第２鉄によるエツチングに
よりレジスト膜が形成されていない部分の保護金属層を
溶解除去すると共に保護金属層が除去された部分の金属
基材に凹部を形成する工程と、金属基材の表面にサンド
ブラストを施す工程と、アミン系の剥離剤により残存す
る保護金属層を除去する工程とからなる方法により、原
形の表面形状に対応した凸部と凹部を有し、凸部の表面
に平行状線群からなる万線状微細凹凸が形成され、凹部
の内面に砂目状凹凸が形成された構造のエンボス版を安
定した品質で効率的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエンボス版の断面図。

【図２】図２は本発明のエンボス版の製造工程を示す図
で、（イ）は金属基材表面に万線状微細凹凸が形成され
た状態、（ロ）は万線状微細凹凸が形成された金属基材
表面に保護金属層が形成された状態、（ハ）は保護金属
層表面にエツチングにより原形の表面形状に対応した凸
部を形成するためのレジスト膜が形成された状態、
（ニ）はエツチングによりレジスト膜のない部分の保護
金属層を除去し更に金属基材に凹部を形成した状態、
（ホ）は表面全面にサンドブラストにより砂目状凹凸を
形成した状態、（ヘ）は表面に残存する保護金属層を除
去して完成したエンボス版、（ト）は完成したエンボス
版にクロムメツキを施した状態。

【図３】本発明のエンボス版を使用して製造された化粧
材の断面図。

【図４】本発明で使用する万線状微細凹凸のパターンの
具体例を示す図。

【符号の説明】

１ エンボス版 ２ 金属基材 ３ 凸部 ４ 凹部 ５ 万線状微細凹凸 ６ 砂目状凹凸 ７ 保護金属層 ８ レジスト膜 ９ クロムメツキ層 10 表面基材層 11 印刷インキ層 12 裏面基材層 13 保護層 14 化粧材

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 銅からなる金属基材の表面に平行状線群
   からなる万線状微細凹凸をエツチングにより形成する工
   程と、該万線状微細凹凸が形成された前記金属基材の表
   面にニツケルからなる保護金属層を形成する工程と、該
   保護金属層を設けた表面に原形の表面形状に対応した濃
   淡を有するマスクフイルムを使用して凸部及び凹部を形
   成するためのレジスト膜を形成する工程と、塩化第２鉄
   によるエツチングにより前記レジスト膜が形成されてい
   ない部分の前記保護金属層を溶解除去すると共に前記保
   護金属層が溶解除去された部分の前記金属基材に凹部を
   形成する工程と、前記金属基材の表面にサンドブラスト
   を施す工程と、アミン系の剥離剤により残存する前記保
   護金属層を除去する工程とからなることを特徴とする、
   原形の表面形状に対応した凸部と凹部を有し、該凸部の
   頂部には平行状線群からなる万線状微細凹凸が形成さ
   れ、該凹部の内面には砂目状凹凸が形成された構成から
   なるエンボス版の製造方法。