JPS60239752A - フオトマスク若しくはレチクル - Google Patents
フオトマスク若しくはレチクルInfo
- Publication number
- JPS60239752A JPS60239752A JP59095587A JP9558784A JPS60239752A JP S60239752 A JPS60239752 A JP S60239752A JP 59095587 A JP59095587 A JP 59095587A JP 9558784 A JP9558784 A JP 9558784A JP S60239752 A JPS60239752 A JP S60239752A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- data
- reticle
- read
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は半導体製造用のフォトマスク若しくはレチクル
に関するものである。
に関するものである。
第１図及び第２図に示すように、従来のフォトマスク（
若しくはレチクル）ｌにマスク届等のデータ３を記入す
る場合黙読しやすい様に転写領域２の外側に直線状に記
入されていた。そのため、マスクＡ等のデータ３の自動
読み取りを行なおうとすると、第３図或いは第４図に示
すように、読み取り用センサ４或いはフォトマスク（若
しくはレチクル）１をモータ５及び直進１機構６等用い
て直進移動させるか、又は第５図に示すようにデータ３
全部を一度に読み取る事が出来るセンサ７を備えること
が必要となる。従って、自動読み取りのための機構が複
雑で、高価になってしまう欠点があった。
若しくはレチクル）ｌにマスク届等のデータ３を記入す
る場合黙読しやすい様に転写領域２の外側に直線状に記
入されていた。そのため、マスクＡ等のデータ３の自動
読み取りを行なおうとすると、第３図或いは第４図に示
すように、読み取り用センサ４或いはフォトマスク（若
しくはレチクル）１をモータ５及び直進１機構６等用い
て直進移動させるか、又は第５図に示すようにデータ３
全部を一度に読み取る事が出来るセンサ７を備えること
が必要となる。従って、自動読み取りのための機構が複
雑で、高価になってしまう欠点があった。
本発明の目的は、マスク若しくはレチクル届等のデータ
の自動読み取り装置の構造を簡単にでき、かつ安価にす
ることが可能なフォトマスク若しくはレチクルを提供す
ることにある。
の自動読み取り装置の構造を簡単にでき、かつ安価にす
ることが可能なフォトマスク若しくはレチクルを提供す
ることにある。
本発明に係るフォトマスク若しくはレチクルは、上記目
的を達成するために、ウェハーに転写されるべき領域外
の周辺部にマスク届等の諸データを円弧状に配置したも
のであり、該フォトマスク若しくはレチクルを回転させ
るだけで上記諸データの自動読み取りを可能とするもの
である。
的を達成するために、ウェハーに転写されるべき領域外
の周辺部にマスク届等の諸データを円弧状に配置したも
のであり、該フォトマスク若しくはレチクルを回転させ
るだけで上記諸データの自動読み取りを可能とするもの
である。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第６図は本発明の一実施例の平面図である。同図に示す
フォトマスク（若しくはレチクル） １１は円形であり
、その中央部に略円形のウェハー転写領域１２（実素子
パターンの在る領域）を有している。ウェハー転写領域
１２外の周辺部には、フォトマスク１１の中心Ｃを中心
とした円Ｓに沿って、マスクＮ６等のデータ１３が円弧
状に配置しである。
フォトマスク（若しくはレチクル） １１は円形であり
、その中央部に略円形のウェハー転写領域１２（実素子
パターンの在る領域）を有している。ウェハー転写領域
１２外の周辺部には、フォトマスク１１の中心Ｃを中心
とした円Ｓに沿って、マスクＮ６等のデータ１３が円弧
状に配置しである。
第７図及び第８図に本発明の他の実施例を示す。第７図
はフォトマスク２１が四角形でウェハー転写領域１２が
略円形の場合、第８図はフォトマスク２１及びウェハー
転写領域２２の双方が四角形の場合である。いずれの場
合にも第６図と同様に、中心Ｃを中心とした円Ｓに沿っ
て、マスク届等のデータ１３が円弧状に配置しである。
はフォトマスク２１が四角形でウェハー転写領域１２が
略円形の場合、第８図はフォトマスク２１及びウェハー
転写領域２２の双方が四角形の場合である。いずれの場
合にも第６図と同様に、中心Ｃを中心とした円Ｓに沿っ
て、マスク届等のデータ１３が円弧状に配置しである。
次に、上述したデータ１３を読み取るための手段の一例
を第９図に示す。同図では、第６図に示したフォトマス
ク１１に円弧状に配設されたＡ、Ｂ。
を第９図に示す。同図では、第６図に示したフォトマス
ク１１に円弧状に配設されたＡ、Ｂ。
Ｄ等のデータ１３を、読み取りセンサ３０で読み取るよ
うにしである。ここで、フォトマスク１１は既知のマス
ク吸着ホルダ３１によって支持されている。
うにしである。ここで、フォトマスク１１は既知のマス
ク吸着ホルダ３１によって支持されている。
マスク吸着ホルダ３１は回転モータ３２の回転により、
矢印Ｍ方向に回転する。この場合の回転中心とフォトマ
スク１１の中心Ｃとが一致する。これらの回転手段は、
露光装置の本体に対してフォトマスク１１を位置合わせ
する際に使用されるものであり、これを利用してデータ
１３を読み取るものである。この場合には、読み取りセ
ンサ３０を所定位置に固定して設けるだけで済む。回転
モータ３１を回転させるだけで、読み取りセンサ３０が
円弧状に配置されたデータ１３を読み取ることができる
。
矢印Ｍ方向に回転する。この場合の回転中心とフォトマ
スク１１の中心Ｃとが一致する。これらの回転手段は、
露光装置の本体に対してフォトマスク１１を位置合わせ
する際に使用されるものであり、これを利用してデータ
１３を読み取るものである。この場合には、読み取りセ
ンサ３０を所定位置に固定して設けるだけで済む。回転
モータ３１を回転させるだけで、読み取りセンサ３０が
円弧状に配置されたデータ１３を読み取ることができる
。
なお、上述したようなフォトマスク若しくはレチクル号
等のデータとしては、数字、記号等の他にバーコードで
あってもよい。
等のデータとしては、数字、記号等の他にバーコードで
あってもよい。
本発明は、以上説明したように、フォトマスク若しくは
レチクルのウェハー転写領域外の周辺部に諸データを円
弧状に配設したものである。そのため、上記データを読
み取るための複雑な手段を必要とせず、また回転できる
だけの最小限の空間しか必要としない、更に、マスクチ
ェンジャー等と組合せることにより、マスク交換時に使
用マスク遂の再チェックや装置へのマスク＃１１Ｌ等の
データインプットを非常に容易に行うことができるよう
になる。このように本発明は非常に優れた効果を奏する
ものである。
レチクルのウェハー転写領域外の周辺部に諸データを円
弧状に配設したものである。そのため、上記データを読
み取るための複雑な手段を必要とせず、また回転できる
だけの最小限の空間しか必要としない、更に、マスクチ
ェンジャー等と組合せることにより、マスク交換時に使
用マスク遂の再チェックや装置へのマスク＃１１Ｌ等の
データインプットを非常に容易に行うことができるよう
になる。このように本発明は非常に優れた効果を奏する
ものである。
第１図及び第２図は従来のフォトマスク（若しくはレチ
クル）の−例を示す平面図、第３〜第５図は従来のデー
タ読み取り手段を示す概略図、第６〜第８図はそれぞれ
本発明の一実施例を示す平面図、第９図は本発明に係る
フ・オドマスク（若しくはレチクル）に゛配設されたデ
ータを読み取るための手段を示す一部断面斜視図である
。 １１ 、２１−−−フォトマスク（若しくはレチクル）
、１２．２２−−−ウェハー転写領域、 １３−−−マスクＡ等のデータ。 ３ 第１図 第３図 第２図 第４図 第５図
クル）の−例を示す平面図、第３〜第５図は従来のデー
タ読み取り手段を示す概略図、第６〜第８図はそれぞれ
本発明の一実施例を示す平面図、第９図は本発明に係る
フ・オドマスク（若しくはレチクル）に゛配設されたデ
ータを読み取るための手段を示す一部断面斜視図である
。 １１ 、２１−−−フォトマスク（若しくはレチクル）
、１２．２２−−−ウェハー転写領域、 １３−−−マスクＡ等のデータ。 ３ 第１図 第３図 第２図 第４図 第５図
Claims (1)
- 半導体製造用のフォトマスク若しくはレチクルにおいて
、ウェハーに転写されるべき領域外の周辺部に諸データ
を円弧状に配置したことを特徴とするフォトマスク若し
くはレチクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59095587A JPS60239752A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | フオトマスク若しくはレチクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59095587A JPS60239752A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | フオトマスク若しくはレチクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60239752A true JPS60239752A (ja) | 1985-11-28 |
Family
ID=14141711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59095587A Pending JPS60239752A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | フオトマスク若しくはレチクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60239752A (ja) |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP59095587A patent/JPS60239752A/ja active Pending
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