JPH036436Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH036436Y2 JPH036436Y2 JP1983151695U JP15169583U JPH036436Y2 JP H036436 Y2 JPH036436 Y2 JP H036436Y2 JP 1983151695 U JP1983151695 U JP 1983151695U JP 15169583 U JP15169583 U JP 15169583U JP H036436 Y2 JPH036436 Y2 JP H036436Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- laser beam
- masks
- path
- pattern
- Prior art date
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- Expired
Links
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 claims description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、レーザ光線に印字すべきパターンを
付与して物体の表面に印字を行なうレーザ印字装
置に関し、より詳しくはそのレーザ光線に所定形
状のパターンを付与するマスクを交換して上記物
体に印字するパターンを変更させるレーザ印字装
置のマスク交換装置に関する。
付与して物体の表面に印字を行なうレーザ印字装
置に関し、より詳しくはそのレーザ光線に所定形
状のパターンを付与するマスクを交換して上記物
体に印字するパターンを変更させるレーザ印字装
置のマスク交換装置に関する。
従来、レーザ印字装置のマスクを交換するに
は、通常は人手による種々のパターンを有する多
数のマスクから次に印字すべきパターンを有する
マスクを選択して交換していたので、マスクの交
換や多種のマスクの管理に手間を要するという欠
点があつた。このため従来、回転板や無端帯状体
からなる搬送体に複数のマスクを設け、その搬送
体を移動させていずれかのマスクをレーザ光線の
通路内に選択的に位置させるようにしたものが提
案されている（特公昭50−458号公報、特公昭51
−15065号公報）。
は、通常は人手による種々のパターンを有する多
数のマスクから次に印字すべきパターンを有する
マスクを選択して交換していたので、マスクの交
換や多種のマスクの管理に手間を要するという欠
点があつた。このため従来、回転板や無端帯状体
からなる搬送体に複数のマスクを設け、その搬送
体を移動させていずれかのマスクをレーザ光線の
通路内に選択的に位置させるようにしたものが提
案されている（特公昭50−458号公報、特公昭51
−15065号公報）。
しかしながら従来のマスク交換装置は、いずれ
もマスクの表面を搬送体によるマスクの移動方向
と平行に配設していたので、多数のマスクを設け
るには搬送体自体を大きくしなくてはならず、マ
スク交換装置が大型化するという欠点があつた。
もマスクの表面を搬送体によるマスクの移動方向
と平行に配設していたので、多数のマスクを設け
るには搬送体自体を大きくしなくてはならず、マ
スク交換装置が大型化するという欠点があつた。
本考案はそのような事情に鑑み、搬送体を大型
化することなく多数枚のマスクを設けることがで
きるレーザ印字装置のマスク交換装置を提供する
ものである。
化することなく多数枚のマスクを設けることがで
きるレーザ印字装置のマスク交換装置を提供する
ものである。
〔課題を解決するための手段〕
すなわち本考案は、レーザ光線の透過を許容す
る所定形状のパターンを形成したマスクをレーザ
光線の通路内に位置させてレーザ光線に印字すべ
きパターンを付与し、そのパターンを付与したレ
ーザ光線で物体の表面に印字を行なうレーザ印字
装置において、 移動自在に設けた搬送体に、複数のマスクの表
面をそれぞれ該搬送体によるマスクの移動方向と
交差する方向に向けて各マスクを移動方向に相互
に重合させて配設するとともに、各マスクを上記
搬送体に収容した収容位置とそこから突出した突
出位置とに渡つて移動可能に設け、さらに、上記
搬送体を移動させて、上記収容位置に保持された
マスクのうち上記レーザ光線の通路内に位置させ
るべきマスクをその通路に近接した表示位置に位
置させて搬送体を停止させる駆動機構を設けると
ともに、上記表示位置に位置したマスクを上記収
容位置から突出位置に突出させて該マスクをレー
ザ光線の通路内に位置させるマスク駆動機構を設
けたものである。
る所定形状のパターンを形成したマスクをレーザ
光線の通路内に位置させてレーザ光線に印字すべ
きパターンを付与し、そのパターンを付与したレ
ーザ光線で物体の表面に印字を行なうレーザ印字
装置において、 移動自在に設けた搬送体に、複数のマスクの表
面をそれぞれ該搬送体によるマスクの移動方向と
交差する方向に向けて各マスクを移動方向に相互
に重合させて配設するとともに、各マスクを上記
搬送体に収容した収容位置とそこから突出した突
出位置とに渡つて移動可能に設け、さらに、上記
搬送体を移動させて、上記収容位置に保持された
マスクのうち上記レーザ光線の通路内に位置させ
るべきマスクをその通路に近接した表示位置に位
置させて搬送体を停止させる駆動機構を設けると
ともに、上記表示位置に位置したマスクを上記収
容位置から突出位置に突出させて該マスクをレー
ザ光線の通路内に位置させるマスク駆動機構を設
けたものである。
上記構成によれば、駆動機構による搬送体を移
動させて、収容位置に保持されたマスクのうち上
記レーザ光線の通路内に位置させるべきマスクを
その通路に近接した表示位置で停止させることが
できる。
動させて、収容位置に保持されたマスクのうち上
記レーザ光線の通路内に位置させるべきマスクを
その通路に近接した表示位置で停止させることが
できる。
次にこの状態から、上記マスク駆動機構により
上記表示位置に搬入されたマスクをその表示位置
（収容位置）から突出位置に突出させて該マスク
をレーザ光線の通路内に位置させれば、レーザ光
線により当該マスクのパターンで物体の表面に印
字を行なうことができる。
上記表示位置に搬入されたマスクをその表示位置
（収容位置）から突出位置に突出させて該マスク
をレーザ光線の通路内に位置させれば、レーザ光
線により当該マスクのパターンで物体の表面に印
字を行なうことができる。
そして上記複数のマスクの表面をそれぞれ該搬
送体によるマスクの移動方向と交差する方向に向
けて各マスクを移動方向に相互に重合させて配設
しているので、従来装置に比較して搬送体に多数
枚のマスクを収容することが可能となる。
送体によるマスクの移動方向と交差する方向に向
けて各マスクを移動方向に相互に重合させて配設
しているので、従来装置に比較して搬送体に多数
枚のマスクを収容することが可能となる。
以下図示実施例について本考案を説明すると、
第１図において、レーザ発振器１から通路として
の導管２内に照射されたレーザ光線３は、この導
管２の途中に配設したマスク４を透過する。レー
ザ光線３は周知のように平行な光線であり、また
マスク４にはレーザ光線の透過率が零の部分と透
過率が１の部分とから成る所定のパターンが設け
られているので、マスク４を透過したレーザ光線
３′には透過率が１の部分に従つたパターンが付
与される。そして上記マスク４によつてパターン
が付与されたレーザ光線３′は、次に集光レンズ
５により集光され、容器６の周面に貼付されたラ
ベル７に照射されて上記パターンの印字を行な
う。
第１図において、レーザ発振器１から通路として
の導管２内に照射されたレーザ光線３は、この導
管２の途中に配設したマスク４を透過する。レー
ザ光線３は周知のように平行な光線であり、また
マスク４にはレーザ光線の透過率が零の部分と透
過率が１の部分とから成る所定のパターンが設け
られているので、マスク４を透過したレーザ光線
３′には透過率が１の部分に従つたパターンが付
与される。そして上記マスク４によつてパターン
が付与されたレーザ光線３′は、次に集光レンズ
５により集光され、容器６の周面に貼付されたラ
ベル７に照射されて上記パターンの印字を行な
う。
第２図は上記レーザ光線３の通路内に位置する
マスク４を変更するマスク交換装置１０を示した
もので、このマスク交換装置１０は機枠１１に回
転自在に軸支した回転軸１２と、この回転軸１２
に固定した回転体１３とを備えており、この回転
体１３の下部に固定したギヤ１４をモータ１５の
回転軸１６に固定したギヤ１７に噛合させて、そ
のモータ１５により回転軸１２を正逆両方向に回
転駆動できるようにしている。
マスク４を変更するマスク交換装置１０を示した
もので、このマスク交換装置１０は機枠１１に回
転自在に軸支した回転軸１２と、この回転軸１２
に固定した回転体１３とを備えており、この回転
体１３の下部に固定したギヤ１４をモータ１５の
回転軸１６に固定したギヤ１７に噛合させて、そ
のモータ１５により回転軸１２を正逆両方向に回
転駆動できるようにしている。
上記回転体１３は主として３枚の円板２０，２
１，２２から構成してあり、上方の２枚の円板２
０，２１のそれぞれの外周部位置にスリツト２３
を同心円上に多数形成し、上下各一対のスリツト
２３内に異なるパターンを形成したマスク４を昇
降自在に嵌合する。本実施例では、通常は、それ
ぞれのマスク４は自重により下方の円板２２の上
面に接触した収容位置に位置しており、この収容
位置から上方の突出位置へ移動できるようになつ
ている。
１，２２から構成してあり、上方の２枚の円板２
０，２１のそれぞれの外周部位置にスリツト２３
を同心円上に多数形成し、上下各一対のスリツト
２３内に異なるパターンを形成したマスク４を昇
降自在に嵌合する。本実施例では、通常は、それ
ぞれのマスク４は自重により下方の円板２２の上
面に接触した収容位置に位置しており、この収容
位置から上方の突出位置へ移動できるようになつ
ている。
上記回転体１３は、その外周部の一側上方に上
記レーザ光線３の通路が位置するように配置して
そのレーザ光線３の通路の直下位置を表示位置Ａ
としてあり、その表示位置Ａに位置したスリツト
２３内からマスク４を上昇させることによつて、
そのマスク４をレーザ光線３の通路内に位置させ
ることができるようにしている。
記レーザ光線３の通路が位置するように配置して
そのレーザ光線３の通路の直下位置を表示位置Ａ
としてあり、その表示位置Ａに位置したスリツト
２３内からマスク４を上昇させることによつて、
そのマスク４をレーザ光線３の通路内に位置させ
ることができるようにしている。
そして上記レーザ光線３の通路の下方位置に上
記スリツト２３内に位置したマスク４を上昇させ
るシリンダ装置２４を設けるとともに、レーザ光
線３の通路の上方位置に上昇したマスク４を確実
に降下させるためのシリンダ装置２５を設けてい
る。下方のシリンダ装置２４はマスク４を上昇さ
せる作動ロツド２６を備えており、この作動ロツ
ド２６は下方の円板２２にマスク４が落下しない
ように設けた貫通穴２７内を貫通して上記マスク
４に係合できるようになつている。
記スリツト２３内に位置したマスク４を上昇させ
るシリンダ装置２４を設けるとともに、レーザ光
線３の通路の上方位置に上昇したマスク４を確実
に降下させるためのシリンダ装置２５を設けてい
る。下方のシリンダ装置２４はマスク４を上昇さ
せる作動ロツド２６を備えており、この作動ロツ
ド２６は下方の円板２２にマスク４が落下しない
ように設けた貫通穴２７内を貫通して上記マスク
４に係合できるようになつている。
然して、中間の円板２１の外径は他の２枚の円
板２０，２２よりも大きくしてあり、その外周部
に各スリツト２３の位置に対応させてそれぞれ異
なるセンシングパターン（図示せず）を設けると
ともに、そのセンシングパターンを検出して上記
回転体１３の回転位置を検出する検出器３０を設
けている。この検出器３０からの検出信号はマイ
クロコンピユータを備えた制御装置３１に入力さ
れ、この制御装置３１は上記モータ１５および各
シリンダ装置２４，２５の作動を制御できるよう
になつている。
板２０，２２よりも大きくしてあり、その外周部
に各スリツト２３の位置に対応させてそれぞれ異
なるセンシングパターン（図示せず）を設けると
ともに、そのセンシングパターンを検出して上記
回転体１３の回転位置を検出する検出器３０を設
けている。この検出器３０からの検出信号はマイ
クロコンピユータを備えた制御装置３１に入力さ
れ、この制御装置３１は上記モータ１５および各
シリンダ装置２４，２５の作動を制御できるよう
になつている。
以上の構成において、上記制御装置３１には予
め使用マスク４の順番が記憶されており、運転開
始指令信号が入力されると、制御装置３１はモー
タ１５を起動するとともに、検出器３０により回
転体１３の回転位置を検出することにより、上記
収容位置に位置しているマスクのうち所定のマス
ク４を上記表示位置Ａに位置させる。このとき制
御装置３１は現在の回転体１３の停止位置と上記
所定のマスク４が位置している位置とを比較し
て、少ない回転角度で上記マスク４を表示位置Ａ
に移動させることができるようにモータ１５の回
転方向を決定する。
め使用マスク４の順番が記憶されており、運転開
始指令信号が入力されると、制御装置３１はモー
タ１５を起動するとともに、検出器３０により回
転体１３の回転位置を検出することにより、上記
収容位置に位置しているマスクのうち所定のマス
ク４を上記表示位置Ａに位置させる。このとき制
御装置３１は現在の回転体１３の停止位置と上記
所定のマスク４が位置している位置とを比較し
て、少ない回転角度で上記マスク４を表示位置Ａ
に移動させることができるようにモータ１５の回
転方向を決定する。
上記所定のマスク４を表示位置Ａに位置させた
ら、制御装置３１はシリンダ装置２４を作動させ
てマスク４を上記収容位置から上方の突出位置へ
上昇させ、そのマスク４を上記レーザ光線３の通
路内に位置させる。そしてこの状態でレーザ光線
３により印字が行なわれたら、制御装置３１はシ
リンダ装置２４を非作動位置に復帰させるととも
に、シリンダ装置２５を作動させてマスク４を強
制的に回転体１３内に収納させ、その後、シリン
ダ装置２５を元の非作動位置に復帰させる。
ら、制御装置３１はシリンダ装置２４を作動させ
てマスク４を上記収容位置から上方の突出位置へ
上昇させ、そのマスク４を上記レーザ光線３の通
路内に位置させる。そしてこの状態でレーザ光線
３により印字が行なわれたら、制御装置３１はシ
リンダ装置２４を非作動位置に復帰させるととも
に、シリンダ装置２５を作動させてマスク４を強
制的に回転体１３内に収納させ、その後、シリン
ダ装置２５を元の非作動位置に復帰させる。
印字の終了したマスク４が回転体１３内に収納
されたら、制御装置３１は上述と同様にして次の
マスク４を上記レーザ光線３の通路内に位置させ
て新たなパターンにより印字を行なわせる。以
後、上記予め定められた順番に従つて、同様な作
動が繰返されることは勿論である。
されたら、制御装置３１は上述と同様にして次の
マスク４を上記レーザ光線３の通路内に位置させ
て新たなパターンにより印字を行なわせる。以
後、上記予め定められた順番に従つて、同様な作
動が繰返されることは勿論である。
なお、上記実施例では制御装置に予め使用マス
ク４の順番を記憶させているが、必要な番号を入
力することにより、その番号のマスク４の印字を
行なえるようにしてもよい。
ク４の順番を記憶させているが、必要な番号を入
力することにより、その番号のマスク４の印字を
行なえるようにしてもよい。
また、上記実施例ではシリンダ装置２４，２５
によつてマスク駆動機構を構成しているが、ソレ
ノイド等で構成してもよい。そして上記シリンダ
装置２５は省略してもよく、その場合には上記マ
スク４をばね等により円板２２に付勢保持させる
ようにすることができ、ばね等を設けた場合に
は、回転体１３は必ずしも水平面内で回転させる
必要はなく、鉛直面内であつてもよい。
によつてマスク駆動機構を構成しているが、ソレ
ノイド等で構成してもよい。そして上記シリンダ
装置２５は省略してもよく、その場合には上記マ
スク４をばね等により円板２２に付勢保持させる
ようにすることができ、ばね等を設けた場合に
は、回転体１３は必ずしも水平面内で回転させる
必要はなく、鉛直面内であつてもよい。
以上のように、本考案によれば、従来装置に比
較して回転体等からなる搬送体に多数枚のマスク
を収容することができるという効果が得られる。
較して回転体等からなる搬送体に多数枚のマスク
を収容することができるという効果が得られる。
第１図は本考案の一実施例を示す概略の構成
図、第２図は第１図の要部の断面図、第３図は第
２図の要部の平面図である。 ３……レーザ光線、４……マスク、１０……マ
スク交換装置、１３……回転体（搬送体）、１５
……モータ、２３……スリツト、２４，２５……
シリンダ装置、３０……検出器、３１……制御装
置。
図、第２図は第１図の要部の断面図、第３図は第
２図の要部の平面図である。 ３……レーザ光線、４……マスク、１０……マ
スク交換装置、１３……回転体（搬送体）、１５
……モータ、２３……スリツト、２４，２５……
シリンダ装置、３０……検出器、３１……制御装
置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 レーザ光線の透過を許容する所定形状のパター
ンを形成したマスクをレーザ光線の通路内に位置
させてレーザ光線に印字すべきパターンを付与
し、そのパターンを付与したレーザ光線で物体の
表面に印字を行なうレーザ印字装置において、 移動自在に設けた搬送体に、複数のマスクの表
面をそれぞれ該搬送体によるマスクの移動方向と
交差する方向に向けて各マスクを移動方向に相互
に重合させて配設するとともに、各マスクを上記
搬送体に収容した収容位置とそこから突出した突
出位置とに渡つて移動可能に設け、さらに、上記
搬送体を移動させて、上記収容位置に保持された
マスクのうち上記レーザ光線の通路内に位置させ
るべきマスクをその通路に近接した表示位置に位
置させて搬送体を停止させる駆動機構を設けると
ともに、上記表示位置に位置したマスクを上記収
容位置から突出位置に突出させて該マスクをレー
ザ光線の通路内に位置させるマスク駆動機構を設
けたことを特徴とするレーザ印字装置のマスク交
換装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169583U JPS6058337U (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | レ−ザ印字装置のマスク交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169583U JPS6058337U (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | レ−ザ印字装置のマスク交換装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6058337U JPS6058337U (ja) | 1985-04-23 |
| JPH036436Y2 true JPH036436Y2 (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=30336086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15169583U Granted JPS6058337U (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | レ−ザ印字装置のマスク交換装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058337U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50458A (ja) * | 1972-11-21 | 1975-01-07 | ||
| JPS5115065A (en) * | 1974-07-19 | 1976-02-06 | Rieter Ag Maschf | Shotsukyoshimetsuke shatsutoru |
| JPS56120238A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-21 | Nec Corp | Time division multiplex processor |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP15169583U patent/JPS6058337U/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50458A (ja) * | 1972-11-21 | 1975-01-07 | ||
| JPS5115065A (en) * | 1974-07-19 | 1976-02-06 | Rieter Ag Maschf | Shotsukyoshimetsuke shatsutoru |
| JPS56120238A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-21 | Nec Corp | Time division multiplex processor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6058337U (ja) | 1985-04-23 |
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