JPS602311B2 - ペニシリンエステルの製造法 - Google Patents
ペニシリンエステルの製造法Info
- Publication number
- JPS602311B2 JPS602311B2 JP9958074A JP9958074A JPS602311B2 JP S602311 B2 JPS602311 B2 JP S602311B2 JP 9958074 A JP9958074 A JP 9958074A JP 9958074 A JP9958074 A JP 9958074A JP S602311 B2 JPS602311 B2 JP S602311B2
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- JP
- Japan
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- reaction
- ester
- acid
- penicillin
- methyl
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、6ーアシルアミドベニシラン酸又はその塩
類から新規な6−アシルアミドベニシラン酸ジアセチル
メチルェステルを製造する方法を提供するものである。
類から新規な6−アシルアミドベニシラン酸ジアセチル
メチルェステルを製造する方法を提供するものである。
従来、ペニシリンのェステルは数多く知られているが、
そのェステルを製造する目的は、a 天然ペニシリンを
ェステル体とし、6位のアシル基を変換し、脱ェステル
化を行なって新規なべニシリンを製造するのに利用する
、b ペニシリンのェステル体をSーオキシド体に導い
た後環変換反応を行い、7−ァシルアミド−3一デアセ
トキシーセフアoスポラン酸ヱステルに誘導し、これを
脱ェステル化するか7位のアシル基を変換した後に脱ェ
ステル化をする、c 天然ペニシリンをェステル体とし
、6位のアシル基を変換し、得られるペニシリンのヱス
テルを経口投与により吸収性が増大したものとして利用
する、等があげられる。
そのェステルを製造する目的は、a 天然ペニシリンを
ェステル体とし、6位のアシル基を変換し、脱ェステル
化を行なって新規なべニシリンを製造するのに利用する
、b ペニシリンのェステル体をSーオキシド体に導い
た後環変換反応を行い、7−ァシルアミド−3一デアセ
トキシーセフアoスポラン酸ヱステルに誘導し、これを
脱ェステル化するか7位のアシル基を変換した後に脱ェ
ステル化をする、c 天然ペニシリンをェステル体とし
、6位のアシル基を変換し、得られるペニシリンのヱス
テルを経口投与により吸収性が増大したものとして利用
する、等があげられる。
従って、ェステル体自体を医薬として使用する場合を除
き、ェステル体は必要な化学反応を行った後、ペニシリ
ン系又はセフアロスポリン系誘導体の段階で必ず脱ェス
テル化が必要である。
き、ェステル体は必要な化学反応を行った後、ペニシリ
ン系又はセフアロスポリン系誘導体の段階で必ず脱ェス
テル化が必要である。
かくして、その脱ェステル化は8−ラクタム環の開裂を
餅わない条件下で温和に行う必要があるため、ェステル
基の種類が極めて限られていた。特にペニシリンェステ
ルから環変換後のセフアロスポリン系のェステルの場合
は、脱ェステル化の条件により二重結合の移動が併うた
め、抗生物質として有用な△3を得るには、脱ェステル
化反応も極めて制限をうけてきた。この発明の発明者は
、かかる脱ェステル化反応を考慮し、所望の反応及び脱
ェステル化反応を行うに適しかつ工業的に価値ある新規
なェステル基を見し、出し、この発明をなすに至った。
この発明は一般式(式中Aはアシルアミド基を意味する
) で示される6−アシルアミドベニシラン酸又はその塩類
に3ーハロー2,4ーベンタンジオンを反応させて対応
するジアセチルメチルェステルを得ることよりなる。
餅わない条件下で温和に行う必要があるため、ェステル
基の種類が極めて限られていた。特にペニシリンェステ
ルから環変換後のセフアロスポリン系のェステルの場合
は、脱ェステル化の条件により二重結合の移動が併うた
め、抗生物質として有用な△3を得るには、脱ェステル
化反応も極めて制限をうけてきた。この発明の発明者は
、かかる脱ェステル化反応を考慮し、所望の反応及び脱
ェステル化反応を行うに適しかつ工業的に価値ある新規
なェステル基を見し、出し、この発明をなすに至った。
この発明は一般式(式中Aはアシルアミド基を意味する
) で示される6−アシルアミドベニシラン酸又はその塩類
に3ーハロー2,4ーベンタンジオンを反応させて対応
するジアセチルメチルェステルを得ることよりなる。
上記一股式(1)のペニシリンの6位のアシルアミド基
としては、任意のものを用いることができる。
としては、任意のものを用いることができる。
例えば、フェニルアセタミド基、フェノキシアセタミド
基、アセタミド基、プロピオナミド基、ベンゾィルアミ
ノ基、フタルィミド基、2ートリクロルェトキシカルボ
ニルアミノ基、ベンジロキシカルボニルアミノ基があげ
られるが、工業的見地からは、フェニルアセタミド基や
フェノキシアセタミド基が好ましい。一般式(1)のペ
ニシリンの塩類としては、カリウム塩、ナトリウム塩、
トリェチルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Nーメチルーモルホリン塩、モル
ホリン塩、ピベリジン塩、N−エチルピベリジン塩、N
ーメチルピベリジン塩等があげられるが、通常はカリウ
ム塩、ナトリウム塩が好ましい。
基、アセタミド基、プロピオナミド基、ベンゾィルアミ
ノ基、フタルィミド基、2ートリクロルェトキシカルボ
ニルアミノ基、ベンジロキシカルボニルアミノ基があげ
られるが、工業的見地からは、フェニルアセタミド基や
フェノキシアセタミド基が好ましい。一般式(1)のペ
ニシリンの塩類としては、カリウム塩、ナトリウム塩、
トリェチルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Nーメチルーモルホリン塩、モル
ホリン塩、ピベリジン塩、N−エチルピベリジン塩、N
ーメチルピベリジン塩等があげられるが、通常はカリウ
ム塩、ナトリウム塩が好ましい。
この発明に用いる3ーハロー2,4ーベンタンジオンは
、安価に入手可能なアセチルアセトンを常法によりハロ
ゲン化することにより容易に作り得るものである。
、安価に入手可能なアセチルアセトンを常法によりハロ
ゲン化することにより容易に作り得るものである。
この3位のハロゲン原子として、ブロム原子又はクロル
原子のものが通常この発明に用いられる。この発明の反
応は、通常不活性溶媒を使用し、一般式(1)のペニシ
リン又はその塩類に3−フロム−2,4ーベンタンジオ
ンまたは3−クロルー2,4ーベンタンジオンを反応さ
せることにより行われる。
原子のものが通常この発明に用いられる。この発明の反
応は、通常不活性溶媒を使用し、一般式(1)のペニシ
リン又はその塩類に3−フロム−2,4ーベンタンジオ
ンまたは3−クロルー2,4ーベンタンジオンを反応さ
せることにより行われる。
一般式(1)のべニシン自体を使用する場合は、予めト
リェチルアミンやN−メチルモルホリンなどの塩基を反
応系に加えペニシリンを塩の形にして反応させるのがよ
い。使用する不活性溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロ/ぐノール、アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソプロピルケトン、メチルプロピルケトン、
メチルイソプチルケトン、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシ
ド等があげられるが、特に好ましいのは、ジメチルホル
マミド、ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシド、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピ
ルケトン、メチルエチルケトンである。
リェチルアミンやN−メチルモルホリンなどの塩基を反
応系に加えペニシリンを塩の形にして反応させるのがよ
い。使用する不活性溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロ/ぐノール、アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソプロピルケトン、メチルプロピルケトン、
メチルイソプチルケトン、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシ
ド等があげられるが、特に好ましいのは、ジメチルホル
マミド、ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシド、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピ
ルケトン、メチルエチルケトンである。
反応は通常室温で行なわれるが、これより高くても低く
ても差支えない。
ても差支えない。
反応時間は、反応温度、ハロゲンの種類、溶媒の種類、
化合物(1)の塩又は添加する塩基の種類により異なる
。クロル化合物を用いた場合は反応がかなり遅いが、触
媒量のョゥ化ナトリウム、ョゥ化カリウムを加えること
により反応を促進できる。例えば、ペニシリンカリウム
塩と3−ブロムー2,4ーベンタンジオンを用い、溶媒
にジメチルホルムアミドを使用して、室温で約2〜3時
間で反応は終了するであろう。ここに得られるェステル
は、一般に結晶化が困難なため、そのまま使用するか又
は酸化剤で酸化して結晶化しやすいスルホキシド‘こし
て次の工程に用いられる。ここで使用しうる酸化剤とし
ては、特に限定されないが、過酸化水素、過酢酸、メタ
クロル過安息香酸などが挙げられる。なおこの発明の目
的物は、例えばスルホキシドにして環拡大反応を行い7
ーアシルアミノ−3ーメチルーセフェム−4−カルボン
酸のジアセチルメチルェステルに導くことができ、この
ヱステルは例えば加水分解で極めて容易に且つ収率よく
脱エステル化しうるものである。次にこの発明を実施例
によって説明するが、これによってこの発明は限定され
るものではない。
化合物(1)の塩又は添加する塩基の種類により異なる
。クロル化合物を用いた場合は反応がかなり遅いが、触
媒量のョゥ化ナトリウム、ョゥ化カリウムを加えること
により反応を促進できる。例えば、ペニシリンカリウム
塩と3−ブロムー2,4ーベンタンジオンを用い、溶媒
にジメチルホルムアミドを使用して、室温で約2〜3時
間で反応は終了するであろう。ここに得られるェステル
は、一般に結晶化が困難なため、そのまま使用するか又
は酸化剤で酸化して結晶化しやすいスルホキシド‘こし
て次の工程に用いられる。ここで使用しうる酸化剤とし
ては、特に限定されないが、過酸化水素、過酢酸、メタ
クロル過安息香酸などが挙げられる。なおこの発明の目
的物は、例えばスルホキシドにして環拡大反応を行い7
ーアシルアミノ−3ーメチルーセフェム−4−カルボン
酸のジアセチルメチルェステルに導くことができ、この
ヱステルは例えば加水分解で極めて容易に且つ収率よく
脱エステル化しうるものである。次にこの発明を実施例
によって説明するが、これによってこの発明は限定され
るものではない。
実施例 16−フェニルアセタミドベニシラン酸のカリ
ウム塩37.2夕(0.1モル)と、酸性炭酸カリウム
1.0夕(0.01モル)を、N,Nージメチルホルム
アミド50叫に加え、3ーフロムー2,4−ペンタンジ
オン18.8夕(0.105モル)を徐々に滴下しなが
ら氷冷下に鯛拝する。
ウム塩37.2夕(0.1モル)と、酸性炭酸カリウム
1.0夕(0.01モル)を、N,Nージメチルホルム
アミド50叫に加え、3ーフロムー2,4−ペンタンジ
オン18.8夕(0.105モル)を徐々に滴下しなが
ら氷冷下に鯛拝する。
滴下終了後反応温度を除々に室温に上げ反応させる。薄
層クロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチル=2:1
、ョー化アジド加熱発色)で反応を追跡する。2〜3時
間を要する。
層クロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチル=2:1
、ョー化アジド加熱発色)で反応を追跡する。2〜3時
間を要する。
反応液は塩化メチレン100の‘を加え櫨梓下に氷水2
00の‘中に注入する。pH.0〜7.5に調整し、有
機層を分取し、水層は塩化メチレンで数回抽出し、有機
層を合せ水洗し乾燥する。溶媒を減圧で留去する。残澄
はシラップ状で結晶化は困難であった。残澄は塩化メチ
レンに溶かし、氷冷下、薄層クロマトグラフィーで追跡
しながら40%過酢酸で酸化する。酸化終了後氷水50
の‘を加え、櫨洋下アンモニア水で風7.5に調整する
。有機層を分け、水層は塩化メチレンで抽出し、有機層
を合せ、水洗、乾燥する。溶媒を減圧で蟹去する。ィソ
プロパノール+n−へキサンで処理すれば固化する。融
点55〜60℃の6−フェニルアセタミドベニシラン酸
一1ーオキシドのジアセチルメチルェステルを39夕(
収率87%)を得た。IR(KBr):1800〜17
30伽‐1実施例 26−フェニルアセタミドベニシラ
ン酸のカリウム塩37.2夕(0.1モル)、ョウ化ナ
トリウム20凧9、酸性炭酸カリウム1.0夕(0.0
1モル)をジメチルスルホキシド40の‘に加え、蝿梓
下3−クロロ−2,4−ペンタンジオン14.1夕(0
.105モル)を徐々に滴下する。
00の‘中に注入する。pH.0〜7.5に調整し、有
機層を分取し、水層は塩化メチレンで数回抽出し、有機
層を合せ水洗し乾燥する。溶媒を減圧で留去する。残澄
はシラップ状で結晶化は困難であった。残澄は塩化メチ
レンに溶かし、氷冷下、薄層クロマトグラフィーで追跡
しながら40%過酢酸で酸化する。酸化終了後氷水50
の‘を加え、櫨洋下アンモニア水で風7.5に調整する
。有機層を分け、水層は塩化メチレンで抽出し、有機層
を合せ、水洗、乾燥する。溶媒を減圧で蟹去する。ィソ
プロパノール+n−へキサンで処理すれば固化する。融
点55〜60℃の6−フェニルアセタミドベニシラン酸
一1ーオキシドのジアセチルメチルェステルを39夕(
収率87%)を得た。IR(KBr):1800〜17
30伽‐1実施例 26−フェニルアセタミドベニシラ
ン酸のカリウム塩37.2夕(0.1モル)、ョウ化ナ
トリウム20凧9、酸性炭酸カリウム1.0夕(0.0
1モル)をジメチルスルホキシド40の‘に加え、蝿梓
下3−クロロ−2,4−ペンタンジオン14.1夕(0
.105モル)を徐々に滴下する。
滴下を始めて間もなく、氷冷し、滴下終了後30分して
、室温に昇温する。薄層クロマトグラフィーで追跡し反
応をほぼ終了するまで擬伴する。約2〜4時間を要す。
塩化メチレン70の‘を加え、氷水100泌中に注入す
る。PHを7.5に調整し、有機層を分け、水層を塩化
メチレンで抽出し、有機層を合し、水洗する。この溶液
を40%週酢酸で酸化する。後は実施例1に従い処理し
て、6ーフェニルアセタミドベニシラン酸ジアセチルメ
チルェステルのスルホオキシドを収率85%で得た。融
点55〜6000。実施例 3 実施例1における6−フェニルアセタミドベニシラン酸
のカリウム塩の代りに6−フヱノキシアセタミドベニシ
ラン酸のカリウム塩を用い実施例1と同様に反応させ処
理して、6ーフェノキシアセタミドベニシラン酸ジアセ
チルメチルェステルのスルホオキシドを収率87%で得
た。
、室温に昇温する。薄層クロマトグラフィーで追跡し反
応をほぼ終了するまで擬伴する。約2〜4時間を要す。
塩化メチレン70の‘を加え、氷水100泌中に注入す
る。PHを7.5に調整し、有機層を分け、水層を塩化
メチレンで抽出し、有機層を合し、水洗する。この溶液
を40%週酢酸で酸化する。後は実施例1に従い処理し
て、6ーフェニルアセタミドベニシラン酸ジアセチルメ
チルェステルのスルホオキシドを収率85%で得た。融
点55〜6000。実施例 3 実施例1における6−フェニルアセタミドベニシラン酸
のカリウム塩の代りに6−フヱノキシアセタミドベニシ
ラン酸のカリウム塩を用い実施例1と同様に反応させ処
理して、6ーフェノキシアセタミドベニシラン酸ジアセ
チルメチルェステルのスルホオキシドを収率87%で得
た。
融点145〜148q○。
IR(KBて):1790伽‐1
参考例 1
実施例1で得られた6ーフェニルアセタミドベニシラン
酸ーオキシドのジアセチルメチルェステルー1ーオキシ
ド4.5夕と2,2,2−トリクロロェチルーリン酸の
ピリジン塩槌雌を無水ジオキサン30必中で98〜10
100に加熱しながら縄拝する。
酸ーオキシドのジアセチルメチルェステルー1ーオキシ
ド4.5夕と2,2,2−トリクロロェチルーリン酸の
ピリジン塩槌雌を無水ジオキサン30必中で98〜10
100に加熱しながら縄拝する。
薄層クロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチル=2:
1、ョゥ化アジド液を贋霧後加熱発色)で反応を追跡す
る。4〜8時間で反応を終るので室温に冷し、減圧で溶
媒を留去する。
1、ョゥ化アジド液を贋霧後加熱発色)で反応を追跡す
る。4〜8時間で反応を終るので室温に冷し、減圧で溶
媒を留去する。
残澄に塩化メチレンと水を加え、pH7.0〜7.5に
調整し、有機層を分ける。水層は塩化メチレンで数回抽
出する。有機層は合わせて食塩水で洗い、乾燥後、溶媒
を減圧で蟹去する。
調整し、有機層を分ける。水層は塩化メチレンで数回抽
出する。有機層は合わせて食塩水で洗い、乾燥後、溶媒
を減圧で蟹去する。
残澄はシリカゲルクロマトグラフィー(ベンゼン十酢酸
エチル)で精製する。7−フエニルアセタミド−3ーメ
チルー3−セフェムー4ーカルボン酸ジアセチルメチル
ヱステル3.5夕(82%)を得た。
エチル)で精製する。7−フエニルアセタミド−3ーメ
チルー3−セフェムー4ーカルボン酸ジアセチルメチル
ヱステル3.5夕(82%)を得た。
酢酸エチルとエーテルから再結晶。融点:186〜18
8℃(分解)。赤外部吸収スペクトル:1765弧‐1
(8−ラクタム)。紫外部吸収スペクトル入ma×:2
6仇m。ここに得られたセフェムーェステルを塩化メチ
レンに溶かし、40%過酢酸で酸化する。
8℃(分解)。赤外部吸収スペクトル:1765弧‐1
(8−ラクタム)。紫外部吸収スペクトル入ma×:2
6仇m。ここに得られたセフェムーェステルを塩化メチ
レンに溶かし、40%過酢酸で酸化する。
薄層クロマトグラフィーで追跡する。反応終了後氷水を
加え、アンモニア水でpH7.3に調整し、有機層を分
け、食塩水で洗い乾燥後減圧で溶媒を蟹去する。残澄は
イソプロパノール十石油エーテルで処理すれば固化する
。7−フヱニルアセタミド−3−メチル一3−セフェム
ー4−カルボン酸ジアセチルェステルー1ーオキシドを
収率95%で得た。
加え、アンモニア水でpH7.3に調整し、有機層を分
け、食塩水で洗い乾燥後減圧で溶媒を蟹去する。残澄は
イソプロパノール十石油エーテルで処理すれば固化する
。7−フヱニルアセタミド−3−メチル一3−セフェム
ー4−カルボン酸ジアセチルェステルー1ーオキシドを
収率95%で得た。
融点:11.5〜14yo(分解)。赤外部吸収スペク
トル:177&ネ‐1。紫外部吸収スペクトル入max
:254nmo7ーフエニルアセタミド一3ーメチルー
3ーセフェムー4−カルボン酸ジアセチルメチルェステ
ル4.3夕をアセトン20泌に懸濁し、水冷しながら蝿
梓下亜硝酸ナトリウム1.0夕を含む水溶液10の上を
滴下する。
トル:177&ネ‐1。紫外部吸収スペクトル入max
:254nmo7ーフエニルアセタミド一3ーメチルー
3ーセフェムー4−カルボン酸ジアセチルメチルェステ
ル4.3夕をアセトン20泌に懸濁し、水冷しながら蝿
梓下亜硝酸ナトリウム1.0夕を含む水溶液10の上を
滴下する。
間もなく微に発熱しながら反応が起る。反応が起りにく
い際は、酢酸0.6の‘を数回に分・けて加える。反応
の進行は簿層クロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチ
ル=2:1、沃化アジド液を噂霧後加熱する。生成した
カルボン酸はナトリウム塩として原点に止る)で追跡す
る。反応を完結させるため、更に亜硝酸ナトリウム1夕
と酢酸1泌を数回に分けて加え短時間50〜55午0に
加溢する。反応の完了を確かめ苗7.5に調整し、減圧
でアセトンを蟹去する。水溶液は、不純物を除くため、
塩化メチレンで2回洗浄後塩酸で餌1.5に調整し、氷
冷する。析出した結晶を集め、少量の冷水で洗い乾燥す
る。水層は食塩を飽和し酢酸エチルで抽出し、酢酸エチ
ル溶液は合せて少量の食塩水で2回洗い乾燥後溶媒を減
圧で留去する。合計収量3.1夕(95%)の7ーフェ
ニルアセタミド−3ーメチルー3ーセフェム−4ーカル
ボン酸を得た。融点180〜84℃(分解)。メタノー
ル十nーヘキサンから再結晶 融点191〜192℃(
分解)。赤外部吸収スペクトル1770肌‐1(8−ラ
クタム)、紫外部吸収スペクトル入max26仇m。核
磁気共鳴、赤外部吸収、紫外部吸収の各スペクトルとも
標品と一致した。上記の実験で7−フェニルアセタミド
ー3−メチル−3−セフェム−4ーカルポン酸ジアセチ
ルメチルェステルの1ーオキシドを用い同様に反応させ
処理する。
い際は、酢酸0.6の‘を数回に分・けて加える。反応
の進行は簿層クロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチ
ル=2:1、沃化アジド液を噂霧後加熱する。生成した
カルボン酸はナトリウム塩として原点に止る)で追跡す
る。反応を完結させるため、更に亜硝酸ナトリウム1夕
と酢酸1泌を数回に分けて加え短時間50〜55午0に
加溢する。反応の完了を確かめ苗7.5に調整し、減圧
でアセトンを蟹去する。水溶液は、不純物を除くため、
塩化メチレンで2回洗浄後塩酸で餌1.5に調整し、氷
冷する。析出した結晶を集め、少量の冷水で洗い乾燥す
る。水層は食塩を飽和し酢酸エチルで抽出し、酢酸エチ
ル溶液は合せて少量の食塩水で2回洗い乾燥後溶媒を減
圧で留去する。合計収量3.1夕(95%)の7ーフェ
ニルアセタミド−3ーメチルー3ーセフェム−4ーカル
ボン酸を得た。融点180〜84℃(分解)。メタノー
ル十nーヘキサンから再結晶 融点191〜192℃(
分解)。赤外部吸収スペクトル1770肌‐1(8−ラ
クタム)、紫外部吸収スペクトル入max26仇m。核
磁気共鳴、赤外部吸収、紫外部吸収の各スペクトルとも
標品と一致した。上記の実験で7−フェニルアセタミド
ー3−メチル−3−セフェム−4ーカルポン酸ジアセチ
ルメチルェステルの1ーオキシドを用い同様に反応させ
処理する。
7−フェニルアセタミド−3−メチル−3−セフェム−
4ーカルボン酸−1−オキシド 3.27夕(94%)
を得た。
4ーカルボン酸−1−オキシド 3.27夕(94%)
を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Aはアシルアミド基を意味する) で示される6−アシルアミドペニシラン酸又はその塩類
に3−ハロ−2,4−ペンタンジオンを反応させて対応
するジアセチルメチルエステルを得ることを特徴とする
ペニシリンエステルの製造法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9958074A JPS602311B2 (ja) | 1974-08-29 | 1974-08-29 | ペニシリンエステルの製造法 |
US05/607,362 US4046759A (en) | 1974-08-29 | 1975-08-25 | Penicillin esters |
CA234,042A CA1069887A (en) | 1974-08-29 | 1975-08-25 | Penicillin esters |
FR7526392A FR2283139A1 (fr) | 1974-08-29 | 1975-08-27 | Nouveaux esters de penicilline |
CH1115975A CH611902A5 (ja) | 1974-08-29 | 1975-08-28 | |
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NL7510241A NL7510241A (en) | 1974-08-29 | 1975-08-29 | 6-Acylamino-penicillanic acid alpha-substd. alkyl esters - prepd. by reacting free acids with alpha-substd. alkyl halides (NL-2.3.76) |
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Family Applications (1)
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JP9958074A Expired JPS602311B2 (ja) | 1974-08-29 | 1974-08-29 | ペニシリンエステルの製造法 |
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-
1974
- 1974-08-29 JP JP9958074A patent/JPS602311B2/ja not_active Expired
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