JPS60224774A - 時計用文字板の製造方法 - Google Patents
時計用文字板の製造方法Info
- Publication number
- JPS60224774A JPS60224774A JP7901284A JP7901284A JPS60224774A JP S60224774 A JPS60224774 A JP S60224774A JP 7901284 A JP7901284 A JP 7901284A JP 7901284 A JP7901284 A JP 7901284A JP S60224774 A JPS60224774 A JP S60224774A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dial
- film
- pattern
- resin layer
- precious stone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一時計用表示板の製造方法に関すイ）ものであ
る。
る。
近年５時計も時刻を知らせる機能面での要求からアクセ
サリ−の一部として使用するファッション面での要求が
高くなり１時計用表示板に於℃・ても特に高級時開に多
く使用されて−・４）貴石風文字板のデザインバリエー
ションの拡大が望まれている。
サリ−の一部として使用するファッション面での要求が
高くなり１時計用表示板に於℃・ても特に高級時開に多
く使用されて−・４）貴石風文字板のデザインバリエー
ションの拡大が望まれている。
本発明は一貴石風文字板の表面にパターニングをするた
め、マスキング技術と反応性スフζツタ技術を組合せた
時計用表示板の製造方法である。
め、マスキング技術と反応性スフζツタ技術を組合せた
時計用表示板の製造方法である。
従来の貴石風文字板は、文字板基板上面に所定の模様を
付けた十にメッキ又は塗装の表面処理を施し、次にメッ
キ又は塗料の変色、剥れ等の防止のため透明樹脂層又は
、不透ＦＪＡ４＋１脂層をスプレーコーティングにて形
成させ、その後樹脂層の上面をポリシングーラッピング
等の研摩方法により平滑度及び膜厚を薄く一定厚にし、
所要の光沢を出す。次に洗浄、乾燥を行な（・その後所
定の印刷、植物等を付は完成する。
付けた十にメッキ又は塗装の表面処理を施し、次にメッ
キ又は塗料の変色、剥れ等の防止のため透明樹脂層又は
、不透ＦＪＡ４＋１脂層をスプレーコーティングにて形
成させ、その後樹脂層の上面をポリシングーラッピング
等の研摩方法により平滑度及び膜厚を薄く一定厚にし、
所要の光沢を出す。次に洗浄、乾燥を行な（・その後所
定の印刷、植物等を付は完成する。
この様にして作られた貴石風文字板は一平滑度が高く１
表面の光沢もあり量石の質感を当え高級感をかもし出し
ている。またデザインバリエーンヨンを拡大するため、
平滑度の高い樹脂層表面にパターンを入れる方法とじて
−プレス機にセットされた凹凸パターンの入いった上型
と平面からなる下型と間に貴石風文字板を入れ、上下方
向に動く上型で樹脂層上面を型押しして、上型にある凹
凸パターンを転写する。
表面の光沢もあり量石の質感を当え高級感をかもし出し
ている。またデザインバリエーンヨンを拡大するため、
平滑度の高い樹脂層表面にパターンを入れる方法とじて
−プレス機にセットされた凹凸パターンの入いった上型
と平面からなる下型と間に貴石風文字板を入れ、上下方
向に動く上型で樹脂層上面を型押しして、上型にある凹
凸パターンを転写する。
この方法で作られたパターンのエツジｇ ＆”Ｌ 丸味
を帯び全体的にボケだ感じのパターンとなる。その上、
微細なパターンになればなるほど転写が悪くなり、パタ
ーンの再現性にも問題が出てくる。
を帯び全体的にボケだ感じのパターンとなる。その上、
微細なパターンになればなるほど転写が悪くなり、パタ
ーンの再現性にも問題が出てくる。
また−樹脂層にクラック及び剥れが時々起こり歩留り等
にも問題がある。
にも問題がある。
本発明は以上の様な欠閂を除き一貴石風文字板の質感を
失なうことなく簡単に高品質ｆ、ｒ文字板を提供するも
のである。
失なうことなく簡単に高品質ｆ、ｒ文字板を提供するも
のである。
以下、本発明の実施例を図面ｆ示寸実施例によって説明
する。
する。
第１図より第４図は、本発明の第１実施例で有り７貴石
風文字板の上面にパターニングを？ｉなう加工工程を示
す文字板断面図である、第１図の様に１足５を浴接され
た黄銅材の基板４の上面にメッキ３．樹脂層２よりなる
賃石ノ虱文字板６ Ｑ）上面に、水浴性フォトレジスト
を回転塗布機により樹脂層２の上面に厚さ２μから４μ
の均一な厚みでレジスト膜１を形成させプレベーキング
をする。
風文字板の上面にパターニングを？ｉなう加工工程を示
す文字板断面図である、第１図の様に１足５を浴接され
た黄銅材の基板４の上面にメッキ３．樹脂層２よりなる
賃石ノ虱文字板６ Ｑ）上面に、水浴性フォトレジスト
を回転塗布機により樹脂層２の上面に厚さ２μから４μ
の均一な厚みでレジスト膜１を形成させプレベーキング
をする。
尚、水溶性フォトレジストを使用する目的は。
樹脂層が有機物であるため有機性フォトレジストを使用
寸ろと樹脂層が溶け、平滑度及び光沢が失なわれてしま
うためである。
寸ろと樹脂層が溶け、平滑度及び光沢が失なわれてしま
うためである。
次に、貴石風文字板の製造方法を簡単に述べると、足溶
接された基板産メッキを施し１次にスプレーコーティン
グによりメッキされた基板上面に透明樹脂層を約１００
μの厚さで形成させる。約１３０℃、３０分の乾燥後、
樹脂層−上面をラッピング又はポリシングの加工で研摩
を行ない樹脂層−上面の平滑度及び光沢を出し−その後
所定の印刷を行ない完成させる。次に第２図の様に−レ
ジスト膜１の面に所定のポジフィルム又はネガフィルム
を使用して、露光−現像一水洗一バーニングの加工工程
順で、レジスト膜１にレジストパターン７を形成させる
。次に第３図の様に、反応性スパッタリングにより樹脂
層２の上面にパターン８を形成させろ。
接された基板産メッキを施し１次にスプレーコーティン
グによりメッキされた基板上面に透明樹脂層を約１００
μの厚さで形成させる。約１３０℃、３０分の乾燥後、
樹脂層−上面をラッピング又はポリシングの加工で研摩
を行ない樹脂層−上面の平滑度及び光沢を出し−その後
所定の印刷を行ない完成させる。次に第２図の様に−レ
ジスト膜１の面に所定のポジフィルム又はネガフィルム
を使用して、露光−現像一水洗一バーニングの加工工程
順で、レジスト膜１にレジストパターン７を形成させる
。次に第３図の様に、反応性スパッタリングにより樹脂
層２の上面にパターン８を形成させろ。
尚−反応性スパッタリングは−フレオン系カス中で放電
により解離した活性なイオンを加速して貴石風文字板の
上面に垂直に衝突させ、樹脂層表面の原子を叩き出すと
共に活性なイオンと樹脂層表面の原子と反応し２気化す
る２つのエッチフッ機構よりなリーバターンマスクを形
成させる。最適加工条件ｒつ（・ては、加工する材質に
よりがわるので予じめ条件出しを行な−ておく。
により解離した活性なイオンを加速して貴石風文字板の
上面に垂直に衝突させ、樹脂層表面の原子を叩き出すと
共に活性なイオンと樹脂層表面の原子と反応し２気化す
る２つのエッチフッ機構よりなリーバターンマスクを形
成させる。最適加工条件ｒつ（・ては、加工する材質に
よりがわるので予じめ条件出しを行な−ておく。
次に、樹脂層２の上面に有るレジスト膜７を水溶性溶剤
又は弱酸系の剥離液により剥離して、第４図の様に文字
板９を完成させる。第５図は、上記実施例により完成し
た文字板９の正面図で−パターンのエツジ部がンヤーグ
に鮮明に表現され。
又は弱酸系の剥離液により剥離して、第４図の様に文字
板９を完成させる。第５図は、上記実施例により完成し
た文字板９の正面図で−パターンのエツジ部がンヤーグ
に鮮明に表現され。
高級な質感を失なうことなくパターニングされた。
次に第６図より第１０図は１本発明σ）第２実施例で有
り一貴石風文字板の上面０７金属薄膜のパターニングを
行なう加工工程を示す文字板断面図である。第６図の様
に１足１５を浴接された黄銅材の基板１４の上面にメッ
キ１６．樹脂層１２よりなる貴石風文字板１６の上面Ｖ
、Ｃｒを蒸漸してＣｒ膜１１を形成し、更にＣｒ膜１１
の上面にフォトレジストを回転塗布機により厚さ約２μ
から４μの均一な厚みでレジスト膜１０を形成させプレ
ヘーキングをする。尚−使用するフォトレジストの種類
は水溶性フォトレジスト又は有機性フォトレジストを使
用する。
り一貴石風文字板の上面０７金属薄膜のパターニングを
行なう加工工程を示す文字板断面図である。第６図の様
に１足１５を浴接された黄銅材の基板１４の上面にメッ
キ１６．樹脂層１２よりなる貴石風文字板１６の上面Ｖ
、Ｃｒを蒸漸してＣｒ膜１１を形成し、更にＣｒ膜１１
の上面にフォトレジストを回転塗布機により厚さ約２μ
から４μの均一な厚みでレジスト膜１０を形成させプレ
ヘーキングをする。尚−使用するフォトレジストの種類
は水溶性フォトレジスト又は有機性フォトレジストを使
用する。
次に第７図の様に、レジスト膜１ｏの面に所定のポジフ
ィルム又はネガフィルムを使用して、露光、現像、水洗
、バーニングの加工工程順でレジスト膜１０にレジスト
パターン１７を形成させろ。
ィルム又はネガフィルムを使用して、露光、現像、水洗
、バーニングの加工工程順でレジスト膜１０にレジスト
パターン１７を形成させろ。
次に第８図の様に−レジストパターン１７の下面部のＣ
「膜１１を化学的腐食により樹脂層１２０面が出る迄腐
食を行なし・−Ｃｒパターン１８を形成させる。尚、腐
食液は４ＱＢＳの塩化第２鉄溶液と３０％の塩酸の混合
液よりなっている。またその他のエツチング方法として
、反応性スパッタリングでも可能である、 次に第９図の様に一反応性スバッタリングにより樹脂層
１２の上面にパターン１９を形成させる。
「膜１１を化学的腐食により樹脂層１２０面が出る迄腐
食を行なし・−Ｃｒパターン１８を形成させる。尚、腐
食液は４ＱＢＳの塩化第２鉄溶液と３０％の塩酸の混合
液よりなっている。またその他のエツチング方法として
、反応性スパッタリングでも可能である、 次に第９図の様に一反応性スバッタリングにより樹脂層
１２の上面にパターン１９を形成させる。
尚１反応性スパッタリングは１本発明の第１実施例で述
べた通りである。次に、Ｃ「膜１１の上面に有ろレジス
ト膜１０を水溶性溶剤又は弱酸系の剥離液により剥離し
て一第１０図の様に文字板２０を完成させる。第】１図
は、前記実施例により完成した文字板２０の正面図で一
貴石風文字板の上面にＣｒの金属嘆が有り、そのＣｒ＠
而及び樹脂層面にパターンが形成されており、非常ＫＱ
体的で高級な質感を失なうことなく新１−７（・感覚の
デザイン表現が出来た、 〔発明の効果〕 この様にして本発明による時計用表示板の製造方法は、
従来の貴石風文字板θ）デザイン表現を拡大出来ると共
に１反応性スパッタリングの技術を利用１″ろため従来
不可能であった微細なパターン迄均−な深さでエツチン
グか口丁能となり、高級な質感を失なうことなく各棹パ
ター７の入った詩画１用表ｚｒ＜板を４是供することが
出来、多大な効果を有する。
べた通りである。次に、Ｃ「膜１１の上面に有ろレジス
ト膜１０を水溶性溶剤又は弱酸系の剥離液により剥離し
て一第１０図の様に文字板２０を完成させる。第】１図
は、前記実施例により完成した文字板２０の正面図で一
貴石風文字板の上面にＣｒの金属嘆が有り、そのＣｒ＠
而及び樹脂層面にパターンが形成されており、非常ＫＱ
体的で高級な質感を失なうことなく新１−７（・感覚の
デザイン表現が出来た、 〔発明の効果〕 この様にして本発明による時計用表示板の製造方法は、
従来の貴石風文字板θ）デザイン表現を拡大出来ると共
に１反応性スパッタリングの技術を利用１″ろため従来
不可能であった微細なパターン迄均−な深さでエツチン
グか口丁能となり、高級な質感を失なうことなく各棹パ
ター７の入った詩画１用表ｚｒ＜板を４是供することが
出来、多大な効果を有する。
第１図から第４図は本発明の第１実施例で５文字板のパ
ターニング処理工程を示し、第１図は。 文字板の樹脂層上面にレジスト膜を形成した文字板の断
面図−第２図は、レジスト膜にレジストパターンを形成
した文字板の断面図、第３図は、樹脂層上面にパターン
を形成した文字板の断面図。 第４図は−レジスト膜を剥離した文字板の断面図。 第５図は１本発明の第１実施例で完成した文字板の正面
図−第６図から第１０図は本発明の第２実施例で１文字
板のパターニング処理工程を示し１、Ｊ１６図は１文字
板のＣｒ膜十面にレジスト膜を形ｂ’２ また文字板の
断面図、第７図は、レジスト膜にレジストパターンを形
成した文字板の断面図、第８図は−Ｃｒ膜十面にＣｒパ
ターンを形成した文字板の断面図−第９図は、樹脂層上
面にパターンを形成した文字板の断面図、第１０図は、
レジスト膜を剥離した文字板の断面図、第１１図は、本
発明の第２実施例で完成した文字板の正面図である。 １−１０・・・レジスト膜−２，１２・・・・樹脂ＦＩ
Ｊ−６−１６・・・・メッキ、４．１ｄ・・・・基板。 ５−１５・・・・足−６−１６・・目・賞石風文字板、
７．１７・・・・Ｌ／ シストハタ−ンー８．１９・・
・・ハタ７−９．２ｏ・・・・文字板−１１−Ｃｒ Ｂ
（＋、１８ Ｃｒパターン。 第１図 第５図 第４図 第６図 第８図
ターニング処理工程を示し、第１図は。 文字板の樹脂層上面にレジスト膜を形成した文字板の断
面図−第２図は、レジスト膜にレジストパターンを形成
した文字板の断面図、第３図は、樹脂層上面にパターン
を形成した文字板の断面図。 第４図は−レジスト膜を剥離した文字板の断面図。 第５図は１本発明の第１実施例で完成した文字板の正面
図−第６図から第１０図は本発明の第２実施例で１文字
板のパターニング処理工程を示し１、Ｊ１６図は１文字
板のＣｒ膜十面にレジスト膜を形ｂ’２ また文字板の
断面図、第７図は、レジスト膜にレジストパターンを形
成した文字板の断面図、第８図は−Ｃｒ膜十面にＣｒパ
ターンを形成した文字板の断面図−第９図は、樹脂層上
面にパターンを形成した文字板の断面図、第１０図は、
レジスト膜を剥離した文字板の断面図、第１１図は、本
発明の第２実施例で完成した文字板の正面図である。 １−１０・・・レジスト膜−２，１２・・・・樹脂ＦＩ
Ｊ−６−１６・・・・メッキ、４．１ｄ・・・・基板。 ５−１５・・・・足−６−１６・・目・賞石風文字板、
７．１７・・・・Ｌ／ シストハタ−ンー８．１９・・
・・ハタ７−９．２ｏ・・・・文字板−１１−Ｃｒ Ｂ
（＋、１８ Ｃｒパターン。 第１図 第５図 第４図 第６図 第８図
Claims (2)
- （１）貴石風文字板の土面に水溶性フォトレジストをコ
ーティングしてプレベーキングをし、レジスト膜を形成
して、前記レジスト膜妊所定のポジフィルム又はネガフ
ィルムを使用し露光して、現像し、バーニングをするこ
とによりレジストパターンを形成し１反応性スパッタリ
ングを行なうことにより、前記貴石風文字板の樹脂層に
パターンを形成し、前記パターンマスクを剥離液で剥離
したことを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - （２） 貴石風文字板の上面に、Ｃｒを蒸着してＣｒｔ
ｌｔｉを形成し一前記Ｃｒ膜の上面にフォトレジストを
コーティングして、プレベーキングをし、レジスト膜を
形成して、前記レジスト膜に所定のポジフィルム又はネ
ガフィルムを使用し無光して、現像し−バーニングをす
ることによりレジストパターンを形成し１反応性スバ、
ツタリング又は化学的腐食により樹脂層面が出る迄Ｃｒ
膜をエツチングして、更に前記エツチングにより露出ｌ
た樹脂層面を反応性スパッタリングを行なうことにより
パターンを形成し一前記しシスト膜を剥離液で剥離した
ことを特徴とする時計用文字板の製造方法、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7901284A JPS60224774A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 時計用文字板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7901284A JPS60224774A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 時計用文字板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60224774A true JPS60224774A (ja) | 1985-11-09 |
| JPH0559198B2 JPH0559198B2 (ja) | 1993-08-30 |
Family
ID=13678030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7901284A Granted JPS60224774A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 時計用文字板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60224774A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5321050A (en) * | 1976-08-11 | 1978-02-27 | Seiko Instr & Electronics | Dial face of timepiece |
| JPS57110977A (en) * | 1980-12-27 | 1982-07-10 | Hamasawa Kogyo:Kk | Manufacture of display member for watch |
| JPS57126665A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Hamasawa Kogyo Kk | Display body |
-
1984
- 1984-04-19 JP JP7901284A patent/JPS60224774A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5321050A (en) * | 1976-08-11 | 1978-02-27 | Seiko Instr & Electronics | Dial face of timepiece |
| JPS57110977A (en) * | 1980-12-27 | 1982-07-10 | Hamasawa Kogyo:Kk | Manufacture of display member for watch |
| JPS57126665A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Hamasawa Kogyo Kk | Display body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0559198B2 (ja) | 1993-08-30 |
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