JPS6022353Y2 - ホトマスク - Google Patents
ホトマスクInfo
- Publication number
- JPS6022353Y2 JPS6022353Y2 JP1979105506U JP10550679U JPS6022353Y2 JP S6022353 Y2 JPS6022353 Y2 JP S6022353Y2 JP 1979105506 U JP1979105506 U JP 1979105506U JP 10550679 U JP10550679 U JP 10550679U JP S6022353 Y2 JPS6022353 Y2 JP S6022353Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- metal
- photomask
- patterns
- island
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、半導体装置の製造工程に用いられるホトマス
クに関する。
クに関する。
ガラス基板等のマスク基板表面に被着されたクロム金属
等の金属薄膜に所定の島状マスクパターンが形成された
ホトマスクは通常、保管あるいは運搬移動の際に前記マ
スクパターンが汚損されるのを防止するために５ｉｌｉ
ｔｅｃｔ Ｕ■（ＣＯＮＴＲＯＬＹＮＥ社製）等の有機
樹脂保護皮膜を前記金属マスクパターン表面に被着して
いる。
等の金属薄膜に所定の島状マスクパターンが形成された
ホトマスクは通常、保管あるいは運搬移動の際に前記マ
スクパターンが汚損されるのを防止するために５ｉｌｉ
ｔｅｃｔ Ｕ■（ＣＯＮＴＲＯＬＹＮＥ社製）等の有機
樹脂保護皮膜を前記金属マスクパターン表面に被着して
いる。
該有機樹脂絶縁保護皮膜は、ホトリソグラフィ一工程に
おいてマスクパターンを露光転写する工程の際には剥離
しなければならない。
おいてマスクパターンを露光転写する工程の際には剥離
しなければならない。
この絶縁保護膜をホトマスク基板表面より剥離する際の
摩擦等により前記金属パターンが帯電する現象がある。
摩擦等により前記金属パターンが帯電する現象がある。
また、ホトマスクパターンの露光転写の際に、前記ホト
マスクの金属パターン表面と被加工物基板上に塗布され
たホトレジスト層とを密着し、露光した後分離する過程
で金属パターンが帯電する。
マスクの金属パターン表面と被加工物基板上に塗布され
たホトレジスト層とを密着し、露光した後分離する過程
で金属パターンが帯電する。
このように帯電しやすい前記ホトマスクの金属パターン
が５０乃至１００〔μｍ〕程度の間隔で島状に形成され
ている場合、上述の帯電により各金属パターンに蓄積さ
れた電荷は各金属パターン間及び金属パターンと剥離す
る前記有機保護膜との間で放電を生じ、転写されるべき
金属パターンを破損する問題がある。
が５０乃至１００〔μｍ〕程度の間隔で島状に形成され
ている場合、上述の帯電により各金属パターンに蓄積さ
れた電荷は各金属パターン間及び金属パターンと剥離す
る前記有機保護膜との間で放電を生じ、転写されるべき
金属パターンを破損する問題がある。
本考案は、このような放電による転写パターンの破損を
防止したホトマスクを提案するもので、マスク基板表面
に形成された島状金属マスクパターン間を電気的に接続
する補助金属パターンが該島状金属マスクパターン自身
より突出して設けられたことを特徴とする。
防止したホトマスクを提案するもので、マスク基板表面
に形成された島状金属マスクパターン間を電気的に接続
する補助金属パターンが該島状金属マスクパターン自身
より突出して設けられたことを特徴とする。
以下本考案を実施例に基づき図面を参照して詳細に説明
する。
する。
第１図は本考案による一実施例を示す図で、ガラス基板
等のマスク基板１上にクロム金属等から成る所定形状の
金属パターンが形成されている。
等のマスク基板１上にクロム金属等から成る所定形状の
金属パターンが形成されている。
該金属パターンは露光により被加工物上のホトレジスト
層に露光転写されるべき転写パターン部２と、該転写パ
ターン部に対して実質的には影響を及ぼさない程度の突
起形状の補足金属パターン部３とから形成されている。
層に露光転写されるべき転写パターン部２と、該転写パ
ターン部に対して実質的には影響を及ぼさない程度の突
起形状の補足金属パターン部３とから形成されている。
該突起形状の補足金属パターンと隣接する金属パターン
の補足金属パターンとの間隔は前記転写パターン２間の
間隔より狭く、従って蓄積された電荷の放電は前記突起
状補足パターン３間で生じ、従って転写パターンの放電
による破損を防止することができる。
の補足金属パターンとの間隔は前記転写パターン２間の
間隔より狭く、従って蓄積された電荷の放電は前記突起
状補足パターン３間で生じ、従って転写パターンの放電
による破損を防止することができる。
第２図は本考案による他の実施例を示す図で、マスク基
板１上に島状に形成された各転写パターン２間を、該転
写パターン２に実質的に影響を及ぼさない程度の細い線
状の補足金属パターン３で連結されている。
板１上に島状に形成された各転写パターン２間を、該転
写パターン２に実質的に影響を及ぼさない程度の細い線
状の補足金属パターン３で連結されている。
従って各島状の転写パターン２間は電気的に接続された
状態であるため、各転写パターン２間で放電を生ずるこ
とはな（、放電による破損を防止することができる。
状態であるため、各転写パターン２間で放電を生ずるこ
とはな（、放電による破損を防止することができる。
上述の如く、本考案によればガラス基板上に分離形成さ
れた島状の金属パターンに蓄積された電荷の放電による
転写パターンの破損は前記各転写パターン間が補助パタ
ーンにより電気的に接続されているので、防止される利
点がある。
れた島状の金属パターンに蓄積された電荷の放電による
転写パターンの破損は前記各転写パターン間が補助パタ
ーンにより電気的に接続されているので、防止される利
点がある。
第１図は本考案による一実施例、第２図は本考案による
他の実施例を示す図である。 １・・・・・・マスク基板、２・・・・・・転写パター
ン、３・・・・・・補足パターン。
他の実施例を示す図である。 １・・・・・・マスク基板、２・・・・・・転写パター
ン、３・・・・・・補足パターン。
Claims (1)
- マスク基板表面に形成された島状金属マスクパターン間
を電気的に接続する補助金属パターンが該島状金属マス
クパターン自身より突出して設けられたことを特徴とす
るホトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979105506U JPS6022353Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | ホトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979105506U JPS6022353Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | ホトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5623936U JPS5623936U (ja) | 1981-03-04 |
| JPS6022353Y2 true JPS6022353Y2 (ja) | 1985-07-03 |
Family
ID=29338164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979105506U Expired JPS6022353Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | ホトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022353Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008111198A1 (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Fujitsu Microelectronics Limited | フォトマスク |
| JP4993113B2 (ja) * | 2007-11-14 | 2012-08-08 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスク |
| JP2009128558A (ja) * | 2007-11-22 | 2009-06-11 | Hoya Corp | フォトマスク及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 |
-
1979
- 1979-07-31 JP JP1979105506U patent/JPS6022353Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5623936U (ja) | 1981-03-04 |
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