JPS60207336A - ホトエツチング用露光方法 - Google Patents
ホトエツチング用露光方法Info
- Publication number
- JPS60207336A JPS60207336A JP59063483A JP6348384A JPS60207336A JP S60207336 A JPS60207336 A JP S60207336A JP 59063483 A JP59063483 A JP 59063483A JP 6348384 A JP6348384 A JP 6348384A JP S60207336 A JPS60207336 A JP S60207336A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- substrate
- photoresist
- glaze
- protrusion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はホトエツチング用露光方法に関する、集積回
路の製作過程で不純物拡散領域の酸イヒシリコン膜を切
りとるために、或すは基板上のアＶミニウム配線パター
ンを作るときなどにホトエツチングが広く利用されてｂ
る。とのホトエツチングのためには、被ホトエツチング
面に中トレジストを診布、乾燥し、これにホトマスクを
のせてから紫外線を照射することによって露光する。
路の製作過程で不純物拡散領域の酸イヒシリコン膜を切
りとるために、或すは基板上のアＶミニウム配線パター
ンを作るときなどにホトエツチングが広く利用されてｂ
る。とのホトエツチングのためには、被ホトエツチング
面に中トレジストを診布、乾燥し、これにホトマスクを
のせてから紫外線を照射することによって露光する。
ところでとのよりな露光操作の際、ホトレジストの表面
とホトマスクとが互Ｌｎ［接触し合わな−よりに遺産の
隙間を設けておくことが望ましい。
とホトマスクとが互Ｌｎ［接触し合わな−よりに遺産の
隙間を設けておくことが望ましい。
これはホトレジストと被ホトレジスト面たとえば配線パ
ターン用のアＶミ＝ウムとの密着性が悪すので、ホトマ
スクと被ホトレジスト面とを密着加圧す石と、露光後に
ホトマスクを剥離するときホトレジストが被ホトレジス
ト面からｍれてホトマスクに付蕾してしまりこと省ある
ためである。このよりな現象が発生すれば高精廖のエツ
チングが期待できなりととけ明ら赤である。このよらな
現象はポジ形のホトレジストにつ−て顕著に現われる。
ターン用のアＶミ＝ウムとの密着性が悪すので、ホトマ
スクと被ホトレジスト面とを密着加圧す石と、露光後に
ホトマスクを剥離するときホトレジストが被ホトレジス
ト面からｍれてホトマスクに付蕾してしまりこと省ある
ためである。このよりな現象が発生すれば高精廖のエツ
チングが期待できなりととけ明ら赤である。このよらな
現象はポジ形のホトレジストにつ−て顕著に現われる。
従来ではホトレジストの表面とホトマスクとの［［１１
を設けるのに、ホトマスクの、ホトレジストの面に向か
−合う面のうち−バＩ−ンの形成に支障を与えなり部分
の複数個所に、薄ｂテープを貼付けて、これをスペーサ
として、ホトレジストの面とホトマスクとの間に、テー
プの厚みに相当する隙間を形成するよりにしてｂた。
を設けるのに、ホトマスクの、ホトレジストの面に向か
−合う面のうち−バＩ−ンの形成に支障を与えなり部分
の複数個所に、薄ｂテープを貼付けて、これをスペーサ
として、ホトレジストの面とホトマスクとの間に、テー
プの厚みに相当する隙間を形成するよりにしてｂた。
しかしこのテープの貼蕾作業は極めて面倒であるばかり
でな（、その貼着時にホトマスクに傷がつ−たり、ゴミ
が付着したりすることがあり、そのため精廖よ（露出す
るとと赤できな（なってしまりことがある。又貼着位置
に諷精廖で貼着するのゴ極めて困難である。
でな（、その貼着時にホトマスクに傷がつ−たり、ゴミ
が付着したりすることがあり、そのため精廖よ（露出す
るとと赤できな（なってしまりことがある。又貼着位置
に諷精廖で貼着するのゴ極めて困難である。
との発明はホトマスクとホトレジストの面との間の隙間
の形成を簡単にかつ高精廖で、しかも傷。
の形成を簡単にかつ高精廖で、しかも傷。
ゴミ等が付華することな（可能にし、もって高精廖に露
光ができるよりにすることを目的とする。
光ができるよりにすることを目的とする。
この発明は被ホトエツチング面を有する基板上の、パタ
ーン形成に支障のない個所に、グレーズによる突出部を
形威し−この突出部をスペーサとしてこれにホトマスク
が当接するよりにのせて露光するよつＫしたことを特徴
とする。
ーン形成に支障のない個所に、グレーズによる突出部を
形威し−この突出部をスペーサとしてこれにホトマスク
が当接するよりにのせて露光するよつＫしたことを特徴
とする。
この発明の実施例を図によって詩明する。、図はＹ７Ｌ
／ミニウム配線パターンのためのホトエツチングに用帆
る露光方法の例であり、１はアＶミナセラミック等から
なる基板で、その表面は必要によりグレーズでコーティ
ングされている。、Ｑはそのグレーズ層を示す。８は配
線用のアルミニウム層、４はホトレジスト層である。こ
れらは基板ｌの表面に順次形成されである。、６けホト
マスクである。
／ミニウム配線パターンのためのホトエツチングに用帆
る露光方法の例であり、１はアＶミナセラミック等から
なる基板で、その表面は必要によりグレーズでコーティ
ングされている。、Ｑはそのグレーズ層を示す。８は配
線用のアルミニウム層、４はホトレジスト層である。こ
れらは基板ｌの表面に順次形成されである。、６けホト
マスクである。
このホトマスク５とホトレジスト層４との間に隙間６カ
！形成される必要のあることは前述したとおりである。
！形成される必要のあることは前述したとおりである。
との発明にしたが帆、基板ｌの表面にグレーズからなる
突出部７を形成する。この形成位置はアＶミニウム配線
パターンの形成に支障のなり位置である。具体的ＶｃＩ
ｆｉ基板ｌ上の、アルミニウム層８を形成しなり位置で
あれば（最本）より０又その形成位置の確保のなめに基
板として大きめの形状のものを用い、その余分な位置に
突出部７の形成位置を確保するよりにしてもより０この
上にのせられるホトマスクの安定性を維持するためＫは
。
突出部７を形成する。この形成位置はアＶミニウム配線
パターンの形成に支障のなり位置である。具体的ＶｃＩ
ｆｉ基板ｌ上の、アルミニウム層８を形成しなり位置で
あれば（最本）より０又その形成位置の確保のなめに基
板として大きめの形状のものを用い、その余分な位置に
突出部７の形成位置を確保するよりにしてもより０この
上にのせられるホトマスクの安定性を維持するためＫは
。
突出部を複数個所に設置することが望ましｂ０突出部７
の形成はグレーズ材料を所定の個所に印刷し、焼成すれ
ばよＬｆｈｏ突出部７の形成のためだけにグレーズを印
刷焼成して本よｌ／−ｈ−７１、基板１上に他のグレー
ズを印刷焼成するようなことがあるとき社、これらを併
せて印刷焼成するようにしてもよＶ、たとえば図のより
に基板ｌの表面に基板表面の平滑化のためにグレーズ層
２を形成するとき、このグレーズ層２の形成とともに突
出部７を印刷焼成するよりにしてもより０或いはサーマ
Ｖプリントヘッドの場合のよりにグレーズ層８０表面に
突条状のグレーズ層８を設け、その表面にプリント用の
発熱抵抗体を設置するよらな場合、との突条状のグレー
ズ層とともに突出部７全印刷し、焼成するよりＫしても
よ−。第８図は第１図からホトマスクを除すた状態の平
面図を示す。突出部りはたとえば底面の直径がα６〜１
００． 高さ５（’１〜１００μｍ＠７１の形状がよい
。
の形成はグレーズ材料を所定の個所に印刷し、焼成すれ
ばよＬｆｈｏ突出部７の形成のためだけにグレーズを印
刷焼成して本よｌ／−ｈ−７１、基板１上に他のグレー
ズを印刷焼成するようなことがあるとき社、これらを併
せて印刷焼成するようにしてもよＶ、たとえば図のより
に基板ｌの表面に基板表面の平滑化のためにグレーズ層
２を形成するとき、このグレーズ層２の形成とともに突
出部７を印刷焼成するよりにしてもより０或いはサーマ
Ｖプリントヘッドの場合のよりにグレーズ層８０表面に
突条状のグレーズ層８を設け、その表面にプリント用の
発熱抵抗体を設置するよらな場合、との突条状のグレー
ズ層とともに突出部７全印刷し、焼成するよりＫしても
よ−。第８図は第１図からホトマスクを除すた状態の平
面図を示す。突出部りはたとえば底面の直径がα６〜１
００． 高さ５（’１〜１００μｍ＠７１の形状がよい
。
Ｗ、ＳＷに示す突出部ｑは次のよりＫして形成した例で
ある。すなわち基板ｌに、グレーズ層８を形成する以前
に、裏面にスナップ８を不ポット状に或いはライン状に
押圧成形する。このとき表面Ｋまで押圧力が作用して突
出する。したがってこの基板１の表面にグレーズ層２の
形成のためにグレーズを印刷すれば、前記した突出した
部分に本印刷され、これを焼成すれば一所望の突出部Ｆ
が形成されるよりになる。
ある。すなわち基板ｌに、グレーズ層８を形成する以前
に、裏面にスナップ８を不ポット状に或いはライン状に
押圧成形する。このとき表面Ｋまで押圧力が作用して突
出する。したがってこの基板１の表面にグレーズ層２の
形成のためにグレーズを印刷すれば、前記した突出した
部分に本印刷され、これを焼成すれば一所望の突出部Ｆ
が形成されるよりになる。
第４因は突条状の突出部７を形成した状態を示すが、こ
の例は基板１としてその寸法形状の若干太きｂものを用
意し、その余分な個所９に突出部りを形成している。こ
の形成のあとスナップラインｌＯを形成し、ここから基
板１を割って一余分な個所９を破棄するよりにしてもよ
り。
の例は基板１としてその寸法形状の若干太きｂものを用
意し、その余分な個所９に突出部りを形成している。こ
の形成のあとスナップラインｌＯを形成し、ここから基
板１を割って一余分な個所９を破棄するよりにしてもよ
り。
上記のよりｋして突出部７を基板ｌの表面に形成してか
らホトマスクｂを突出部？の上にのるよりに基板ｌの表
面にのせると、ホトマスク５とホトレジスト層重との間
ＫＰＪｊ間６が形成され１画者互し／％に接触し合わな
いよりになる。この状態でホトマスクｂの表面から紫外
線を照射して露光すればよ−。その露光後ホトマスク６
を除去しても。
らホトマスクｂを突出部？の上にのるよりに基板ｌの表
面にのせると、ホトマスク５とホトレジスト層重との間
ＫＰＪｊ間６が形成され１画者互し／％に接触し合わな
いよりになる。この状態でホトマスクｂの表面から紫外
線を照射して露光すればよ−。その露光後ホトマスク６
を除去しても。
ホトレジストがマスク６に付着することは起らない、な
おこの隙間６としては５０〜１００＃ｍ８１度の空隙長
〒あればより０ にホトマスクとホトレジスト層との間の隙間を確保する
のに、基板上にグレーズ値・らなる突出−１を形成し、
これをホトマスクとホトレジスト層トの間のスペーサと
して使用したので、前記の隙間の形成は可能となり一又
前記突出部としてグレーズによって形成してｂるので、
その形成の際従来のよりにホトマスクに傷、ゴミ等を付
着したりする恐れは皆無であり、しかも高精度の位置忙
形成することができ、か（してこの種露光の高精度化が
可能となるとｂつた効果を奏する。
おこの隙間６としては５０〜１００＃ｍ８１度の空隙長
〒あればより０ にホトマスクとホトレジスト層との間の隙間を確保する
のに、基板上にグレーズ値・らなる突出−１を形成し、
これをホトマスクとホトレジスト層トの間のスペーサと
して使用したので、前記の隙間の形成は可能となり一又
前記突出部としてグレーズによって形成してｂるので、
その形成の際従来のよりにホトマスクに傷、ゴミ等を付
着したりする恐れは皆無であり、しかも高精度の位置忙
形成することができ、か（してこの種露光の高精度化が
可能となるとｂつた効果を奏する。
第１図はこの発明の実施例方法を瞬明するための断面図
、第ｇ図は基板の平面図、第８図はこの発明の他の実施
例方法を瞬間するための断面図、第４図はこの発明に更
に別の実施例方法を帥、明するための基板の平面図であ
る。 ｌ・・・・・・基板、４・・・・・・ホトレリスト層−
ｂ・・・・・・ホトマスク、６・・・・・・隙間、り・
・・・・・突出部第１図 第３Ｍ 第２図 ！
、第ｇ図は基板の平面図、第８図はこの発明の他の実施
例方法を瞬間するための断面図、第４図はこの発明に更
に別の実施例方法を帥、明するための基板の平面図であ
る。 ｌ・・・・・・基板、４・・・・・・ホトレリスト層−
ｂ・・・・・・ホトマスク、６・・・・・・隙間、り・
・・・・・突出部第１図 第３Ｍ 第２図 ！
Claims (1)
- 基板の表面に一突出部を設け、ホトマスクを前記突出部
にのせることによって前記基板の表面に形成されたホト
レジスト層と前記ホトマスクとの間に隙間を確保し、前
記ホトマスクを通して前記ホトレジスト層を露光するよ
りにしたホトエツチング用露光方法、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59063483A JPS60207336A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ホトエツチング用露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59063483A JPS60207336A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ホトエツチング用露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60207336A true JPS60207336A (ja) | 1985-10-18 |
Family
ID=13230529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59063483A Pending JPS60207336A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ホトエツチング用露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60207336A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009109843A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法 |
| JP2013015821A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-24 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100076A (ja) * | 1972-03-29 | 1973-12-18 |
-
1984
- 1984-03-31 JP JP59063483A patent/JPS60207336A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100076A (ja) * | 1972-03-29 | 1973-12-18 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009109843A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法 |
| JP2013015821A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-24 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置 |
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