JPS63168368A - サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents
サ−マルヘツドの製造方法Info
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- JPS63168368A JPS63168368A JP31190486A JP31190486A JPS63168368A JP S63168368 A JPS63168368 A JP S63168368A JP 31190486 A JP31190486 A JP 31190486A JP 31190486 A JP31190486 A JP 31190486A JP S63168368 A JPS63168368 A JP S63168368A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、プリンタ等に配置されるサーマルヘッドの製
造方法に関する。
造方法に関する。
（従来の技術）
従来サーマルヘッドは、例えば平板状のアルミナセラミ
ック基板上等に形成されており、このようなサーマルヘ
ッドは、例えば以下に示すような方法によって製造され
ている。
ック基板上等に形成されており、このようなサーマルヘ
ッドは、例えば以下に示すような方法によって製造され
ている。
すなわち、まず平板状のアルミナセラミック基板上にガ
ラスグレーズ層を形成し、このガラスグレーズ層上に発
熱抵抗体膜と電極導体膜をスパッタ法あるいは蒸着法で
形成する。この後、レジストを塗布し、ガラスマスクに
よる露光を行い、現像、エツチングの工程を経て基板上
に所望のパターンを形成する。
ラスグレーズ層を形成し、このガラスグレーズ層上に発
熱抵抗体膜と電極導体膜をスパッタ法あるいは蒸着法で
形成する。この後、レジストを塗布し、ガラスマスクに
よる露光を行い、現像、エツチングの工程を経て基板上
に所望のパターンを形成する。
一方、近年は製品の小型化や、マルチヘッドによるカラ
ー印刷等の要求が高まっている。このため、発熱抵抗体
を、曲面等の形状は製造された基体の端面に形成し、発
熱素子のアレイが形成された面と、発熱素子を駆動する
駆動回路が形成された面とが非平行あるいは、非同−面
となるよう構成された立体型サーマルヘッドもある。
ー印刷等の要求が高まっている。このため、発熱抵抗体
を、曲面等の形状は製造された基体の端面に形成し、発
熱素子のアレイが形成された面と、発熱素子を駆動する
駆動回路が形成された面とが非平行あるいは、非同−面
となるよう構成された立体型サーマルヘッドもある。
このような立体型サーマルヘッドを製造する場合には、
上述のようなガラスマスクを使用して所望パターンの転
写を行なうことができない、このため、ガラスゲレース
層、発熱抵抗体膜、導体電極膜を形成した後、レジスト
を塗布し、レジスト表面にフレキシブルマスクを密着さ
せ、光源あるいは基体を回転させながら露光して所望パ
ターンの転写を行なう方法が特開昭５９−２３０７７０
号公報等に提案されている。
上述のようなガラスマスクを使用して所望パターンの転
写を行なうことができない、このため、ガラスゲレース
層、発熱抵抗体膜、導体電極膜を形成した後、レジスト
を塗布し、レジスト表面にフレキシブルマスクを密着さ
せ、光源あるいは基体を回転させながら露光して所望パ
ターンの転写を行なう方法が特開昭５９−２３０７７０
号公報等に提案されている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上述の従来のサーマルヘッドの製造方法
では、基体あるいは露光光源を回転させながら露光を行
なうため、平板形のサーマルヘッドに使用されていた露
光装置は使用することができず、特別な露光装置が必要
になるという問題と、例えば曲面等の非平面上にレジス
トを塗布するなめ、平板用のレジスト塗布装置も使用で
きないだけでなく、非平面の性質上、レジスト展の膜厚
が不均一となり露光にばらつきが生じるため、基体上に
所望のパターンを精度良く形成することが困難であると
いう間組がある。
では、基体あるいは露光光源を回転させながら露光を行
なうため、平板形のサーマルヘッドに使用されていた露
光装置は使用することができず、特別な露光装置が必要
になるという問題と、例えば曲面等の非平面上にレジス
トを塗布するなめ、平板用のレジスト塗布装置も使用で
きないだけでなく、非平面の性質上、レジスト展の膜厚
が不均一となり露光にばらつきが生じるため、基体上に
所望のパターンを精度良く形成することが困難であると
いう間組がある。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、立体型サーマルヘッドの基体端面等曲面へパターン形
成する場合でも、特別な露光装置を必要とせず、基体上
に所望のパターンを精度良く形成することのできるサー
マルヘッドの製造方法を提供しようとするものである。
、立体型サーマルヘッドの基体端面等曲面へパターン形
成する場合でも、特別な露光装置を必要とせず、基体上
に所望のパターンを精度良く形成することのできるサー
マルヘッドの製造方法を提供しようとするものである。
［発明の構成コ
（問題点を解決するための手段）
すなわち本発明のサーマルヘッドの製造方法は、感光性
のフィルムを露光し所望のパターンを光潜像として形成
する工程と、この後前記フィルムを基体に貼着する工程
と、しかる後前記フィルムを現像し該フィルムの前記パ
ターンにしたがって前記基体表面にパターン形成を行な
う工程とを少なくとも有することを特徴とする。
のフィルムを露光し所望のパターンを光潜像として形成
する工程と、この後前記フィルムを基体に貼着する工程
と、しかる後前記フィルムを現像し該フィルムの前記パ
ターンにしたがって前記基体表面にパターン形成を行な
う工程とを少なくとも有することを特徴とする。
（作用）
本発明のサーマルヘッドの製造方法では、感光性のフィ
ルムを露光し所望のパターンを光潜像として形成する工
程と、この後フィルムを基体に貼着する工程と、しかる
後フィルムを現像し該フィルムのパターンにしたがって
例えばエツチング法あるいはリフトオフ法等により基体
表面にパターン形成を行なう工程とを有する。
ルムを露光し所望のパターンを光潜像として形成する工
程と、この後フィルムを基体に貼着する工程と、しかる
後フィルムを現像し該フィルムのパターンにしたがって
例えばエツチング法あるいはリフトオフ法等により基体
表面にパターン形成を行なう工程とを有する。
したがって、立体型サーマルヘッドの基体端面等曲面へ
パターン形成する場合でも、非平面上にレジストを塗布
する必要がないので基体上に所望のパターンを精度良く
形成することができ、感光性のフィルムに露光するので
、特別な露光装置を必要とすることもない。
パターン形成する場合でも、非平面上にレジストを塗布
する必要がないので基体上に所望のパターンを精度良く
形成することができ、感光性のフィルムに露光するので
、特別な露光装置を必要とすることもない。
（実施例）
以下図面を参照しながら本発明方法を実施例について詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図に示すように、この実施例のサーマルヘッドの製
造方法では、まず、端面が曲面である例えばアルミナセ
ラミック基体１に、Ｔａ−８ｉ０２等からなる発熱抵抗
体膜２をスパッタリングにより形成し、この後Ａ１等か
らなる導体電極［１３を蒸着により形成する（ａ）。
造方法では、まず、端面が曲面である例えばアルミナセ
ラミック基体１に、Ｔａ−８ｉ０２等からなる発熱抵抗
体膜２をスパッタリングにより形成し、この後Ａ１等か
らなる導体電極［１３を蒸着により形成する（ａ）。
次に、フレキシブルな感光性のフィルム４に、所望のパ
ターンを有するガラスマスク等を用いて露光を行ない、
フィルム４に潜像を形成した後、このフィルム４をアル
ミナセラミック基体１に貼着する（ｂ）。
ターンを有するガラスマスク等を用いて露光を行ない、
フィルム４に潜像を形成した後、このフィルム４をアル
ミナセラミック基体１に貼着する（ｂ）。
この後、フィルム４の現像を行ない、現像後のフィルム
４をレジストとして導体電極膜３と発熱抵抗体膜２のエ
ツチングによるパターン形成を行ない、フィルム４を除
去する（Ｃ）。
４をレジストとして導体電極膜３と発熱抵抗体膜２のエ
ツチングによるパターン形成を行ない、フィルム４を除
去する（Ｃ）。
なお、感光性のフィルム４としては、例えばリストンド
ライフィルムフォトレジスト（商品名）等を使用するこ
とができる。
ライフィルムフォトレジスト（商品名）等を使用するこ
とができる。
上記構成のこの実施例方法では、感光性のフィルム４を
露光した後アルミナセラミック基体１に貼着してパター
ンの形成を行なうため、レジストを塗布する必要がなく
、曲面をもったアルミナセラミック基体１でも、所望の
パターンを精度良く形成することができる。ただし曲面
の形状は、フィルム４の貼着が可能な形状（波形等）の
ものに限られる。
露光した後アルミナセラミック基体１に貼着してパター
ンの形成を行なうため、レジストを塗布する必要がなく
、曲面をもったアルミナセラミック基体１でも、所望の
パターンを精度良く形成することができる。ただし曲面
の形状は、フィルム４の貼着が可能な形状（波形等）の
ものに限られる。
また感光性のフィルム４樟対する露光は、この感光性の
フィルム４が平坦な状態で行なうため、従来から使用し
ているガラスマスク、および露光装置をそのまま使用す
ることができ、特別な露光装置を必要とすることもない
。
フィルム４が平坦な状態で行なうため、従来から使用し
ているガラスマスク、および露光装置をそのまま使用す
ることができ、特別な露光装置を必要とすることもない
。
次に第２図を参照して本発明の他の実施例を説明する。
この実施例では、まず所望のパターンをネガティブに露
光し、潜像を形成した感光性のフィルム１４を、アルミ
ナセラミック基体１１の表面に直接貼着し、現像を行う
（ａ）。
光し、潜像を形成した感光性のフィルム１４を、アルミ
ナセラミック基体１１の表面に直接貼着し、現像を行う
（ａ）。
次に、現像されたフィルム１４の表面に発熱抵抗体膜１
２をスパッタリングにより形成し、発熱抵抗体Ｗ：４１
２表面に導体電極膜１３を蒸着により形成する（ｂ）。
２をスパッタリングにより形成し、発熱抵抗体Ｗ：４１
２表面に導体電極膜１３を蒸着により形成する（ｂ）。
この後、リフトオフ法によってフィルム１４の除去を行
なうことにより、発熱抵抗体［１２、導体電極ｖ！１３
のパターン形成を行なう（Ｃ）。
なうことにより、発熱抵抗体［１２、導体電極ｖ！１３
のパターン形成を行なう（Ｃ）。
このようにしてリフトオフ法によりパターン形成を行な
っても、エツチングによりパターン形成を行なう前述の
実施例と、同様な効果を得ることができる。
っても、エツチングによりパターン形成を行なう前述の
実施例と、同様な効果を得ることができる。
［発明の効果］
以上説明したように本発明のサーマルヘッドの製造方法
では、立体型サーマルヘッドの基体端面等曲面へパター
ン形成する場合でも、特別な露光装置を必要とせず、基
体上に所望のパターンを精度良く形成することができる
。
では、立体型サーマルヘッドの基体端面等曲面へパター
ン形成する場合でも、特別な露光装置を必要とせず、基
体上に所望のパターンを精度良く形成することができる
。
第１図は本発明の一実施例のサーマルヘッドの製造方法
を示す説明図、第２図は本発明の他の実施例のサーマル
ヘッドの製造方法を示す説明図である。 １・・・・・・・・・アルミナセラミック基体２・・・
・・・・・・発熱抵抗体膜 ３・・・・・・・・・導体電極膜 ４・・・・・・・・・感光性のフィルム出願人
株式会社 東 芝 代理人 弁理士 須 山 佐 − （ｊ） （Ｃ） 第１図 （Ｃ） 第２図
を示す説明図、第２図は本発明の他の実施例のサーマル
ヘッドの製造方法を示す説明図である。 １・・・・・・・・・アルミナセラミック基体２・・・
・・・・・・発熱抵抗体膜 ３・・・・・・・・・導体電極膜 ４・・・・・・・・・感光性のフィルム出願人
株式会社 東 芝 代理人 弁理士 須 山 佐 − （ｊ） （Ｃ） 第１図 （Ｃ） 第２図
Claims (1)
- （１）感光性のフィルムを露光し所望のパターンを光潜
像として形成する工程と、この後前記フィルムを基体に
貼着する工程と、しかる後前記フィルムを現像し該フィ
ルムの前記パターンにしたがって前記基体表面にパター
ン形成を行なう工程とを少なくとも有することを特徴と
するサーマルヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31190486A JPS63168368A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31190486A JPS63168368A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168368A true JPS63168368A (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=18022813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31190486A Pending JPS63168368A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63168368A (ja) |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP31190486A patent/JPS63168368A/ja active Pending
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