JPH0391756A - 製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、写真製版技術の改良に関するものである。

【従来の技術】

液晶カラーディスプレイに使用されるカラーフィルター
は、透明なガラス基板上にレッド、グリーン、ブルーの
所ｉ１ｒＲＧＢ三原色細線の精細パターンを形成するこ
とにようて製造されることが多い。精細パターンの形成
には凹版、又は凹版オフセット印刷法が採用されている
が、印刷に用いる金属製刷版は多くの場合、所定のパタ
ーンを有するガラス基板を原版として紫外線露光法等の
写真製版技術によって転写製造されている。

【発明が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の写真製版技術を用いる製版方法に
於いては、紫外線露光時に熱線（赤外線）の照射も一部
受けるため、原版が熱膨張率の小さいガラスで、パター
ンを転写すべき基板が熱膨張率の大きい金属等であると
、該基板は原版より膨張した状態でパターン転写される
結果、室温に冷却されると原版よりパターンが縮小する
と云う問題点があった。形成するパターンが従来の様に
３０１ｓオーダの位置精度の場合には、原版と基板との
素材による熱膨張率の差は大きな問題とならないが、近
年急速に需要が高まって来た、高い解像度が要求される
液晶カラーディスプレイに使用するカラーフィルターの
場合には、５０ｊ園と云う様に極めて細い画線を繰り返
し形成するので±５＃一以下の厳しい位置精度が要求さ
れる。このため、原版と基板との素材による熱膨張率の
差が大きな問題となる。即ち、凹版、又は凹版オフセッ
ト印刷等に使用する刷版は、通常ペース部が鉄でパター
ン形或部が銅からなる積層板であるため、主にその熱膨
張率はベース部の鉄に支配され、露光時に５℃の温度上
昇があると、３０ｃｍ角の基板の場合は端部で大略２４
ｊｉｉ膨張する。一方、原版に低膨張ガラスを使用する
と１１１■しか膨張しないため、１ＩＩＩ１だけ拡大さ
れたパターンが、２１メ■膨張した基板上に転写される
ため、室温に冷却されると原版に対しては２０Ｉｌｌだ
け縮小されることになり、５一一オーダーの位置精度が
要求されるカラーフィルターの製造には使用出来ないと
云う問題点があった。 従って、原版に描画したパターンを精度良く転写して刷
版を製造することの出来る製版方法の改良が求められて
いた。

【課題を解決するための手段】 本発明は上記した従来技術の課題を解決するためになさ
れたもので、低感度レジストと高感度感光剤とが２層に
塗布された基板を用い、原版のパターンを短時間露光に
より表層の高感度感光剤に転写し、該高感度感光剤を現
像●定着した後、高感度感光剤の透明部を介して下層の
低感度レジストを長時間部分露光させ、該低感度レジス
トにパターンを形成することを特徴とする製版方法であ
る。

【作用】

原版のパターンを基板表層の高感度感光剤に転写する工
程に於いては、露光時間が短いために原版及び基板の何
れも実質的に温度上昇することがない。従って、密着法
、投影法等の従来周知の手段によって原版のパターンは
表層の高感度感光剤に極めて精確に転写される。そして
、該高感度感光剤を現像●定着した後、高感度感光剤の
透明部を介して長時間に渡って紫外線等を照射すると、
下層の低感度レジストは表層の高感度感光剤の透明部を
臨む部位が露光され、不透明部を臨む部位が未露光部と
して残ることにより、高感度感光剤に形成された原版の
パターンに対応するパターンが形成される。この時、基
板は紫外線だけでなく熱線（赤外線）の照射も一部受け
て温度上昇し膨張するが、塗布された高感度感光剤と低
感度レジストは共に基板の膨張●収縮に追従して同じ割
合で膨張●収縮するため、低感度レジストに形成される
パターンは室温まで冷却されると原版に最初に描画され
たパターンと精確に一致する。 次に、本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する
。尚、写真製版技術によって所定のパターンを転写する
技術は当業者に熟知されているので、発明の構成要件に
限って説明する。

【実施例１】 第１図〜第３図が、透明な低膨張ガラス製の原版１に金
属クロム２によって描画された所定のパターンを、透明
なソーダガラス製の基板３に転写してサブマスター版を
作成した第１の実施例である。原版１と基板３とは従来
より一回り大きい５０ｃｍ角に形成されており、基板３
は金属クロム２が蒸着された片面に、低感度レジスト（
例えばネガ型レジスト東京応化製ＰＨＥＲ）４と銀糸写
真感剤の高感度感光剤５とがそれぞれ３ＪＩｌｌ１２Ｉ
！閣の厚さに塗布されて二層に被覆されている。暗室内
に於いて基板３の高感度感光剤５と原版ｌのパターン形
成面とを対峙して密着させ、原版１側に設けられた光源
６により０．５秒間の白色光照射を行い、原版１の金属
クロム２が存在しない部位を通過した光線によって基板
３の高感度感光剤５を部分露光させた。高感度感光剤５
をコダック社製Ｄ−８５等によって現像すると、露光部
５１が黒く、未露光部５２が透明に現像されて、原版１
のパターンに対応するパターンが得られた。続いてこの
パターンを安定に維持するためコダック社製Ｆ２４（非
硬膜定着液）を用いて定着処理を行った。この一次露光
に於いては露光時間が０．５秒と極めて短時間であった
ため、原版１、基板３共に実測し得る程の温度上昇はな
く、従って何れも全く膨張することがなかった。このた
め、原版１のパターンは基板３の高感度感光剤５に精確
に転写された。定着処理の後、暗室外に取り出して高感
度感光剤５の側から光源６Ａによって、低感度レジスト
４の材質、機能等に対応して近紫外線、遠紫外線等の適
宜の波長の紫外線を所定時間（例えば６０秒間）照射し
、高感度感光剤５の透明な未露光部５２を通過した紫外
線によって低感度レジスト４を部分露光させた。この部
分露光により低感度レジスト４に於いては、高感度感光
剤５の未露光部５２を臨む部位が露光部４１となり、紫
外線を透過しない露光部５１を臨む部位が未露光部４２
となり、高感度感光剤５のパターンに対応するパターン
が転写形成された。光源６Ａからは紫外線と共に熱線（
赤外線）も一部放射されるため、６０秒間の長時間露光
となる二次露光に於いてはソーダガラスからなる基板３
は室温の２２℃から２５℃に昇温し、５０ｃＩｌの両端
部で１４１１ｍ膨張したが、低感度レジスト４と高感度
感光剤５も基板３の膨張に伴って同じ長さだけ膨張して
いたたために、高感度感光剤５を介して低感度レジスト
４に転写されたパターンは、基板３が２５℃から室温の
２２℃に冷却されて元の長さに戻ると、低感度レジスト
４も高感度感光剤６と共に元の大きさに収縮し、転写さ
れたパターンは原版１に描画されていたパターンの大き
さに一致した。この後、高感度感光剤５のゼラチン質を
アルカリ液（例えば３％ＮａＯＨ溶液）を用いて溶解除
去し、更に低感度レジスト４をバラキシレン等で現像し
て未露光部４２を除去すると、露光部４１のみが残留し
た基板３が得られた。更に、金属クロム２の露出部をエ
ッチング除去し、最後に露光部４１をトリクロルエチレ
ンで除去するト、原版１に癌画されていたパターンが精
確に転写されたサブマスター版が形成された。

【実施例２】 第４図〜第７図が、実施例１で製版したサブマスター版
を原版１として印刷用の金属製凹版を製版した第２の実
施例である。金属製凹版はこの場合５００ｎの厚さの鉄
３１をペースとして、この上に１０＃Ｉの厚さにニッケ
ル層３２が形成され、更に画線溝３３ａが刻設された銅
層３３がＩｏｎの厚さに積層された構成の刷版であり、
か゜かる構成の刷版を製版するため、前記３層構成の金
属製基板３の片面に低感度レジスト（例えばネガ型ダイ
ナケム社製ラミナーＧＴ，又は東京応化製｝｛ＰＥＲ）
４と高感度感光剤５とがそれぞれ５μ鵬、２ｎの厚さに
積層して塗布されている。実施例ｌと同様に一次露光及
び二次露光させたところ、一次露光に於いては原版１、
基板３共に温度上昇はなく、従って熱膨張もなかったが
、６０秒間の二次露光時には、基板３が２２℃から２５
℃に加熱され３℃だけ昇温したため、主に鉄３１の熱膨
張率に支配されて室温時に比較して基板３は５０ｃｌＩ
角の端部で３０ｊｎ＋も膨張した。しかし、この時も高
感度感光剤５と低感度レジスト４が共に基板３の膨張と
同じ割合で膨張したため、実施例１の場合と同様、低感
度レジスト４には高感度感光剤５に転写されたパターン
が精確に転写された。従って、この場合も基板３が室温
に冷却された時には、低感度レジスト４に転写されたパ
ターンは高感度感光剤５に最初に転写された原版１のパ
ターンと同じ大きさであった。実施例１と同様にして高
感度感光剤５を除去した後、低感度レジスト４を現像し
て高感度感光剤５の露光部５ｌの下部に位置していた未
露光部４２を除去し、銅層３３の露出部をエッチングす
ると、エッチングはニッケル層３２の所で停止し、深さ
１０＃■の画線溝３３ａが形成された。この後、低感度
レジスト４の露光部４１を除去すると印刷インキを保有
するための画線溝３３ａが安定した深さと幅に形成され
た金属製の印刷用凹版となった。

【実施例３】 第８図〜第１０図が、実施例ｔで製版したサブマスター
版を原版１とし、一般にＰＳ版と称されている基材を用
いて金属製平版を製造した第３の実施例である。従って
、この場合は基板３が２４０ｇｍの厚さのアルミニュウ
ムであり、低感度レジスト４が５１１１厚の有機溶剤現
像タイプの版材である。低感度レジスト４の上に塗布さ
れた高感度感光剤５を前記実施例に従って一次露光させ
た。続いて、１分３０秒間の二次露光を行い、低感度レ
ジスト４の版材を部分露光させた。一次露光に於いては
前記実施例と同様に原版ｌ１基板３共に温度上昇はなく
、従って熱膨張もなかったので、精確に原版１のパター
ンが高感度感光剤５に転写された。１分３０秒間の二次
露光に於いては、基板３が２２℃から２８℃に加熱され
、室温時に比較して５００１角の端部で１００ｊｍも膨
張したが、この時も高感度感光剤５と低感度レジスト４
が共に基板３の膨張と同じ割合で膨張したため、前記実
施例の場合と同様、低感度レジスト４には高感度感光剤
５に転写されたパターンが精確に転写された。従って、
この場合も基板３が室温に冷却された時には、低感度レ
ジスト４に転写されたパターンは高感度感光剤５に最初
に転写された原版工のパターンと同じ大きさであった。 前記実施例と同様の手段で高感度感光剤５を除去した後
、低感度レジスト４を現像し、露光部４１を残して未露
光部４２を除去すると、発水性を有する低感度レジスト
４と親水性を有する基板（即ちアルミニュウム）３とが
パターン状に精確に形成されて、精細パターン等の印刷
に適用可能な平版となった。 以上、実施例に示した高感度感光剤の低感度感光剤上へ
の塗工については、両者の接着性を改善するために、そ
れぞれにプライマー処理を行って両層を形成した。

【発明の効果】

以上説明した様に本発明になる製版方法に於いては、パ
ターンを転写すべき基板の表層部に高感度感光剤を塗布
しているため、短時間の露光で原版から基板にパターン
転写することが出来る。このため、原版と基板とが異な
る素材で出来、熱膨張率に大きな差がある場合にも、原
版、基板共にパターン転写時には膨張することがないた
め、原版のパターンは基板表層部の高感度感光剤に精確
に転写される。従って、本発明になる製版方法によれば
、原版と熱膨張率が著しく異なる基板にパターンを転写
する場合にも極めて精確に転写することが出来る利点が
ある。尚、原版のパターンが精確に転写された高感度感
光剤を介して下層の低感度レジストにパターンを転写す
る際には、露光時間が長くなって基板が熱膨張すること
があっても、前記高感度感光剤も基板と共に膨張してい
るので、室温まで冷却されると高感度感光剤に短時間露
光で最初に転写された原版のパターンと精確に一致する
パターンが、低感度レジストに転写される。特に、本発
明の製版方法は原版が大きくても瞬時に高感度感光剤に
精確にパターン転写することが可能であるため、大型カ
ラーフィルターを印刷形成するための刷版を、製造する
工程に適用して実用的な効果を奏することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図はガラス基板製のサブマスター版を製造
した実施例１に係わる説明図、第４図〜第７図は金属製
凹版を製造した実施例２に係わる説明図、第８図〜第１
０図は金属製平版を製造した実施例３に係わる説明図で
ある。 １・・・原版、 ２・・・金属クロム、 ３・・・基板、 ３１・・・鉄、 ３２・・・ニッケル層、 ３３・・・銅層、 ３３ａ・・・画線溝、 ４・・・低感度レジスト、 ５・・・高感度感光剤、 ６、６Ａ・・・光源。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 低感度レジストと高感度感光剤とが２層に塗布された基
   板を用い、原版のパターンを短時間露光により表層の高
   感度感光剤に転写し、該高感度感光剤を現像・定着した
   後、高感度感光剤の透明部を介して下層の低感度レジス
   トを長時間部分露光させ、該低感度レジストにパターン
   を形成することを特徴とする製版方法。