JPS60208893A - 混成厚膜集積回路の製造方法 - Google Patents

混成厚膜集積回路の製造方法

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JPS60208893A
JPS60208893A JP6325484A JP6325484A JPS60208893A JP S60208893 A JPS60208893 A JP S60208893A JP 6325484 A JP6325484 A JP 6325484A JP 6325484 A JP6325484 A JP 6325484A JP S60208893 A JPS60208893 A JP S60208893A
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JP
Japan
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heat
electronic component
board
electronic components
thick film
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Pending
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JP6325484A
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Inventor
藤澤 成光
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、混成厚膜集積回路に電子部品を半田リフ口す
る混成厚膜集積回路の製造方法に関する。
〔技術的背景〕
混成厚膜集積回路は、第1図に示すように基板1上に形
成した導体2中の部品搭載用パッド3に半田ペースト4
t−盛シ、その部品搭載用パッド3上に電子部品5の電
極6を配置しておシ、基板1に電子部品5の取付穴は不
用となっている。尚、電子部品5は2極を有したチップ
コンデンサまたは28ピン、48ビンなどのチップキャ
リアやデュアルタイプのICのリードを短かく切断した
もの等が使用できる。
従来は、このようにした基板itホットプレートや遠赤
外装置あるいは近赤外装置、もしくはそれ等のりフロ装
置を組合わせたりフロ装置によって基板1の全体を加熱
し半田ペースト4を溶融した後固化して基板1上に電子
部品5を固定搭載している。
この、基板1全体の加熱は搭載した複数の電子部品5の
内の熱容量が最大の部品の半田ペースト4が揚がるまで
の加熱が最低必要となっている。
このために、第6図に示すように熱容量の小さな電子部
品5は不必要に半田溶融時間が長くなシすぎ、半田ペー
スト4と基板1の導体2の一部である部品搭載用パッド
3相互及び半田ペースト4と電子部品5の電極6相互に
おける拡散が著しく進行し、拡散層A、Bが生じ、拡散
層Aが著しく進行すると部品搭載用パッド3が減少し基
板1との密着強度が弱まシ剥離したシ、拡散層Bの著し
い進行では電子部品5の電極6が過剰拡散して消失する
場合があシ半田と電子部品5の接続が不能となる次点等
があった。
また、熱容量の小さな電子部品5は過剰な加熱のために
悪影響を受ける欠点もあった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、基板上の各電子部品の熱容量に対応し
た加熱となるようにリフロ装置の加熱量を制御して、従
来の欠点を解することにある。
〔発明の構成〕
前記目的を達成するために、本発明は基板上の各電子部
品の熱容量に応じた加熱を行なうように、大きさの異な
るスリットを有した熱コントロール板を耐熱性断熱材で
形成し、該熱コントロール板で基板上を覆うことにより
、リフロ装置からの熱をスリットの大きさに応じて制御
して、電子部品を適量加熱する構成としている。
このようにすれば、熱容量の大きい電子部品は大きいス
リットによシ、熱容量の小さい電子部品は小さいスリッ
トによって加熱量を制御できるので、熱容量の大きい電
子部品と同じ熱量が小さい熱容量の電子部品に加えられ
ることはなくなシ、各電子部品は熱容量に応じた半田リ
ンロ加熱となる。
〔実施例〕
以下に、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第3図は半田リフ口前の混成厚膜集積回路の斜視図であ
シ、1は基板、2は基板1上に形成した導体、3は導体
2中に形成した部品搭載用パッドであシ、該部品搭載用
パッド3は後記する各電子部品の電極に対応する位置形
状となっている。4は部品搭載用パッド3上に塗布した
半田ペースト、5a〜5dはリードレスの各種の電子部
品、6は該電子部品5a〜5dの電極であシ、該電子部
品58〜5dは前記各部品搭載用パッド3上の半田ペー
スト4上に配置されている。
第4図は本発明の一実施例を示す半田リフロ装置の一部
分を断面とした側面図、第5図は熱コントロール板の平
面図である。
図において、7は前記基板1の非部品搭載面側よシ熱を
均一に供給して基板1を介して電子部品5a〜5dへ熱
を伝達させる方式のりフロ装置であるホットプレート、
該ホットプレート7上に前記第3図で示した基板1が搭
載されている。尚、基板1における部品の説明は前記と
同様なので同一符号で図示するのみとし説明は省略する
8は耐熱性断熱材により成形し基板1を覆うようにホッ
トグレート7上に載置した熱コントロール板、9a〜9
dは熱コントロール板8に形成した大きさの異なるスリ
ットであシ、基板1の電子部品5aにはスリット9aが
、電子部品5bにはスリット9bが、電子部品5cKは
スリット9cが、電子部品5dにはスリット9dが夫れ
それ対応する構成となっている。10は熱コントロール
板8の四隅に設けたつめであシ、該つめ10で基板1を
支持することによって前記したスリット9a〜9dと電
子部品5a〜5dの各対応関係の正確な位置出しを行な
っている。
11は基板10部品搭載面側よシ熱を照射する熱照射リ
フロ装置である。
このように、本発明では基板10部品非搭載面よシホッ
トプレート1で基板1を直接に加熱すると共に、基板1
の部品搭載面から熱照射リフロ装置11によって熱照射
を行なう方式を用いて、熱照射リフロ装置11と基板1
間に熱コントロール板8を配置している。
次に、半田リフ口について説明する。
まず、第3図に示すように基板1上の各部品搭載用パッ
ド3に半田ペースト4を塗布し、その上に各電子部品5
a〜5dを載置する。
次に、第4図に示すように前記基板1をホットプレート
7上に載せ、該基板1を熱コントロール板8で保って熱
コントロール板8をホットプレート1上に載置する。こ
の時、前記したように熱コントロール板7のつめ10に
よって、基板1の各電子部品5a〜5dと熱コントロー
ル板8の各スリン)9a〜9dの各対応位置を第5図に
示すように正確に確保している。
この状態で、ホットプレート1を加熱すると共に、熱照
射リフロ装置11による熱照射を開始する。
すると、ホットプレート7は基板1を介して電子部品5
a〜5df:加熱し、熱照射リフロ装置11は熱コント
ロール板のスリット9a〜9dを介して直接に電子部品
5a〜5dt−加熱する。
この時、重要なのが熱朋射リフロ装置11による熱コン
トロール板8のスリット9a〜9d’を介しての電子部
品5a〜5dの加熱である。
これは、一番熱容量の大きい電子部品5dには一番大き
く開口しているスリン)9dが対応し、一番熱容量の小
さい電子部品1bには一番小さく開口しているスリット
9bが対応するというように、電子部品5a〜5dの熱
容量の大きい順に開口度の大きいスリン)9a〜9dが
対応しているので、熱照射リフロ装置11の照射熱をス
リット9a〜9dがその開口度によって所定Iカットし
電子部品5a〜5dに加えられる熱量を夫れそれ適量に
制御している。
このように、本発明では基板1t−加熱するホットプレ
ート7と熱照射リフロ装置11の朋射加熱量を制御した
電子部品5a〜5dへの効率の良い加熱によって電子部
品5a〜5dの電極6と部品搭載用パッド3間の半田ペ
ースト4を夫れそれ同時に溶融できる。
前記したような電子部品5a〜5dへの加熱量は、熱コ
ントロール板8のスリット9a〜9dの大きさと熱照射
リフロ装置11のパワーを変えることによって制御して
いる。
なお、前記実施例では熱コントロール板8のスリン)9
a〜9d全部を使用しているが、これを熱容量の大きな
電子部品に対応しているスリットのみを使用し、熱容量
の小さな電子部品に対応している他のスリットは塞いで
、これ等の電子部品はホットプレート7のみの加熱で半
田リフ口してもよい。
また、ホットプレートの°代シに遠赤外リフロ装置やホ
ットエアーリフロ装置を用いることもでき、熱照射リフ
ロ装置11のみとし他のりフロ装置を併用しない半田リ
フ口とすることもできる。
さらに、基板1の両面に電子部品を配置して基板1の両
面を熱コントロール板8で覆い、基板1の両面から熱照
射リフロ装置によって半田リフ口することもできる。
〔発明の効果〕
以上、詳細に説明したように本発明は熱照射リフロ装置
と混成厚膜集積回路との間にスリットヲ有した熱コント
ロール板を配置し、熱コントロール板のスリットの大き
さによって熱照射リフロ装置の照射熱量金制御して混成
厚膜集積回路の電子部品を加熱するので、熱容量の異な
る電子部品において夫れぞれの熱容量に応じた加熱を行
なうことができ、従来のように熱容量の小さい電子部品
への過剰な加熱がなく、半田と基板上に形成した導体の
一部である部品搭載用パッド及び半田と電子部品の電極
のそれぞれの相互間における過剰拡散を防止でき、半田
と部品搭載用パッド及び半田と電子部品の電極の相互の
接続の信頼性を確保する効果がある。
また、熱容量の小さな電子部品において供給過剰な加熱
がないことは、その電子部品への悪影響を防止する効果
となる。
そして、本発明は従来の装置構成をあまシ変更せずに熱
コントロール板を簡単に組込むことができると共に、熱
コントロール板は単純な構造なので量産に適すると共に
、倒産も半田リフ口に使用できるので低コストなことも
有益である。
このような本発明は、基板に搭載した電子部品の改修作
業にも利用でき、従来は基板全体を加熱するかホットエ
ア等で改修部品の周辺全体を加熱して半田を溶融してい
たために改修に関係のないものの半田接合部で半田拡散
が著しく進行し、接続の信頼性や電子部品の性能等の低
下となっていたが、本発明を応用すれば該当の電子部品
のみを加熱できる方法なので前記した他の電子部品にお
ける接続の信頼性や性能の低下を防止することができる
【図面の簡単な説明】
第1図は電子部品の基板への搭載を示す部分的斜視図、
第2図は過剰加熱による拡散層を示す基板へ搭載した電
子部品の側断面図、第3図は半田リフ口前の混成厚膜集
積回路の斜視図、第4図は本発明の一実施例を示す半田
リフロ装置の一部分を断面とした側面図、第5図は熱コ
ントロール板の平面図である。 1・・・基板 2・・・導体 3・・・部品搭載用パッ
ド4・・・半田ペースF 5 + 5 a〜5d・・・
電子部品6・・・電極 8・・・熱コントロール板 9
a〜9d・・・スリット 10・・・つめ 11・・・
熱照射リフロ装置@1− 輪2− 一3=  2 毫5; 手続補正書(自発) 昭和59年9月4日 特許庁長官 志 賀 学 殿 1、事件の表示 昭和59年 特許願 第 063254 号2、発明の
名称 混成厚膜集積回路の製造方法3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号名 称 (
029)沖電気工業株式会社代表者 橋本南海男 4、代 理 人 5、補正命令の日付 自 発 7、 補正の内容 1、明細書第3頁第3行〜第8行を下記の如く補正する
。 「 このために、熱容量の小さな電子部品5は不必要に
半田溶融時間が長くなり、紀2図に示す様な半田ペース
ト4と基板1の導体2の一部である部品搭載用パッド3
相互における拡散層A1及び半田ペースト4と電子部品
5の電極6相互における拡散層Bが著しく進行し、拡、
散層Aが著しく」。 2 昭和1書第8頁第2行に、[電子部品1bJとある
のを「電子部品5b」と補正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、基板の導体半田ペーストを介して各穏の電子部品を
    配置してリフロ装置で加熱し、半田ペーストを溶融する
    混成厚膜集積回路の製造方法において、リフロ装置から
    各電子部品に与える加熱量を各電子部品の熱容量に応じ
    た熱量とするために大きさの異なる複数のスリットを各
    電子部品の配置と同一配置で有した熱コントロール板を
    耐熱性断熱材で形成し、該熱コントロール板をリフロ装
    置と基板間に配置して各スリットと各電子部品を対向す
    ることによってリフロ装置からの加熱量を各電子部品に
    対応したスリットの大きさで制御し、各電子部品の熱容
    量に応じた加熱を行なって各半田ペーストを同時に溶融
    することを特徴とした混成厚膜集積回路の製造方法。
JP6325484A 1984-04-02 1984-04-02 混成厚膜集積回路の製造方法 Pending JPS60208893A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01170577A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板加熱方法
JPH03114288A (ja) * 1989-09-28 1991-05-15 Nec Yamagata Ltd 赤外線加熱による半導体装置の半田付け方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01170577A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板加熱方法
US4927068A (en) * 1987-12-25 1990-05-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for heating a patterned substrate
JPH03114288A (ja) * 1989-09-28 1991-05-15 Nec Yamagata Ltd 赤外線加熱による半導体装置の半田付け方法

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