JPS60203629A - 光重合性エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
光重合性エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS60203629A JPS60203629A JP5931784A JP5931784A JPS60203629A JP S60203629 A JPS60203629 A JP S60203629A JP 5931784 A JP5931784 A JP 5931784A JP 5931784 A JP5931784 A JP 5931784A JP S60203629 A JPS60203629 A JP S60203629A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- conjugated
- composition
- sulfonium salt
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は新規組成の光重合性エポキシ樹脂組成物に関し
、更に詳しくは、光硬化速度が大きく。
、更に詳しくは、光硬化速度が大きく。
透明な硬化物を与える光重合性エポキシ樹脂組成物に関
する。
する。
米国特許第3.205,157号及び同第3,708,
296号明細書において、アリールジアゾニウム塩及び
ハロゲン含有錯アニオンのアリールジアゾニウム塩をそ
れぞれ含有する光鋭感性エポキシ樹脂組成物が開示され
ている。これら組成物は、■熱安定性に乏しいこと、■
スペクトル的応答がスペクトルの紫外領域に限定される
こと、■光重合中に窒素が発生して組成物が硬化した硬
化物中にピンホール及び気泡が発生すること、などの理
由に工ってその有用性が制限されている。
296号明細書において、アリールジアゾニウム塩及び
ハロゲン含有錯アニオンのアリールジアゾニウム塩をそ
れぞれ含有する光鋭感性エポキシ樹脂組成物が開示され
ている。これら組成物は、■熱安定性に乏しいこと、■
スペクトル的応答がスペクトルの紫外領域に限定される
こと、■光重合中に窒素が発生して組成物が硬化した硬
化物中にピンホール及び気泡が発生すること、などの理
由に工ってその有用性が制限されている。
これらアリールジアゾニウム塩を用いて、オキセタン若
しくはオキセタンとエポキシ樹脂との混合物を光重合さ
せる場合にも、上記したと同様の問題が生ずる(米国特
許第3,835,003号明細書参照)。
しくはオキセタンとエポキシ樹脂との混合物を光重合さ
せる場合にも、上記したと同様の問題が生ずる(米国特
許第3,835,003号明細書参照)。
いくつかの特許では、ジアゾニウム塩とエボキシトとの
混合物を安定化するだめの方法が開示されている。しか
しながら、これらの方法はいくつかの理由で不満足なも
のである。例えば、安定度に関していえば、日で数えら
れる程度のものでしかなく、また、安定剤の添加は非反
応性物質で組成物を汚染することになり、この物質が組
成物を軟化させ、更には光重合速度の低下をもたらすこ
とになる(米国特許第3,711,390号、同第3.
711,931号、同第3,816.278号、同第3
.816,280号、同第3,816.281号、同第
3.817,850号、同第3,817,845号の各
明細書参照)。
混合物を安定化するだめの方法が開示されている。しか
しながら、これらの方法はいくつかの理由で不満足なも
のである。例えば、安定度に関していえば、日で数えら
れる程度のものでしかなく、また、安定剤の添加は非反
応性物質で組成物を汚染することになり、この物質が組
成物を軟化させ、更には光重合速度の低下をもたらすこ
とになる(米国特許第3,711,390号、同第3.
711,931号、同第3,816.278号、同第3
.816,280号、同第3,816.281号、同第
3.817,850号、同第3,817,845号の各
明細書参照)。
また、米国特許第3,450,613号明細書において
は、エポキシ樹脂プレポリマとエチレン性不飽和有機酸
との反応生成物、光鋭感剤及び任意的に多感応酸若しく
は塩酸とから成る光重合性エポキシ樹脂組成物が開示さ
れている。
は、エポキシ樹脂プレポリマとエチレン性不飽和有機酸
との反応生成物、光鋭感剤及び任意的に多感応酸若しく
は塩酸とから成る光重合性エポキシ樹脂組成物が開示さ
れている。
この組成物は、紫外線で露光されると反応生成物中のエ
チレン性不飽和部分の光重合によってゲル化するが、し
かし、組成物の硬化完了のためKは、エポキシ樹脂それ
自体の硬化反応を行なわせることが必要であり、そのた
め最終的には加熱処理を施すことが必要となる。すなわ
ち、この組成物を完全重合(硬化)させるためには、光
と熱の両方を必要とする。したがって、この組成物の用
途は限定されざるを得ない。しかもこの組成物は酸素に
対して敏感でIC熱安定性も低いという問題点も有して
いる。
チレン性不飽和部分の光重合によってゲル化するが、し
かし、組成物の硬化完了のためKは、エポキシ樹脂それ
自体の硬化反応を行なわせることが必要であり、そのた
め最終的には加熱処理を施すことが必要となる。すなわ
ち、この組成物を完全重合(硬化)させるためには、光
と熱の両方を必要とする。したがって、この組成物の用
途は限定されざるを得ない。しかもこの組成物は酸素に
対して敏感でIC熱安定性も低いという問題点も有して
いる。
一方、光重合性エポキシ樹脂組成物にあって、その光硬
化触媒として次式: %式% (火中、 Arはフェニル基等を表わし、Xはヨウ素原
子、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし、YFi BF4
v PF5 ’* AsF5 g 5hys 等を表
わす) 。
化触媒として次式: %式% (火中、 Arはフェニル基等を表わし、Xはヨウ素原
子、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし、YFi BF4
v PF5 ’* AsF5 g 5hys 等を表
わす) 。
で示される錯体が知られている(マクロモレキュールス
、第10巻、1307頁、1977年(Maeromo
lecul@s 、 10 、1307 (1977)
):ジャーナル・オプ嗜うジエーション・キユアリング
、第5巻、2頁、1978年(Journal ofR
adiation curing t 5 # 2 (
1978) ) :ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリイ・エディ7ヨン、第1
7巻* 2877頁、1979年(Journal o
f Polymer、8eieneePolymsr
Chemistry Edition+ 17 * 2
877(1979):]:同上、第17巻、1047頁
。
、第10巻、1307頁、1977年(Maeromo
lecul@s 、 10 、1307 (1977)
):ジャーナル・オプ嗜うジエーション・キユアリング
、第5巻、2頁、1978年(Journal ofR
adiation curing t 5 # 2 (
1978) ) :ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリイ・エディ7ヨン、第1
7巻* 2877頁、1979年(Journal o
f Polymer、8eieneePolymsr
Chemistry Edition+ 17 * 2
877(1979):]:同上、第17巻、1047頁
。
1979年〔同上、 17 、1047 (1979)
):ジャーナル・オプ・ポリマー・サイエンス・ポリマ
ー・レターズ・エディジョンtm17巻1759頁、1
979年(Journal of Polymer S
ciencePolymer L@tters Ftd
ition 、 17 、759(1979ン〕;特開
昭55−65219号明細書;米国特許第4,069,
054号明細書;英国特許第1516511号明細書;
英国特許第1518141号明細書等参照1゜ しかしながら、このような光硬化触媒を用いた場合には
、エポキシ樹脂の硬化速度が充分であるとはいえず、そ
の光硬化性の点で問題があった。
):ジャーナル・オプ・ポリマー・サイエンス・ポリマ
ー・レターズ・エディジョンtm17巻1759頁、1
979年(Journal of Polymer S
ciencePolymer L@tters Ftd
ition 、 17 、759(1979ン〕;特開
昭55−65219号明細書;米国特許第4,069,
054号明細書;英国特許第1516511号明細書;
英国特許第1518141号明細書等参照1゜ しかしながら、このような光硬化触媒を用いた場合には
、エポキシ樹脂の硬化速度が充分であるとはいえず、そ
の光硬化性の点で問題があった。
本発明は、新規な光硬化触媒が配合されていて、光硬化
性に優れた光重合性エポキシ樹脂組成物の提供を目的と
する。
性に優れた光重合性エポキシ樹脂組成物の提供を目的と
する。
本発明の光重合性エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂
と、1分子内に少なくとも2個の共役したスルホニウム
イオンを有する芳香族スルホニウム塩とを必須成分とす
ることを特徴とする。
と、1分子内に少なくとも2個の共役したスルホニウム
イオンを有する芳香族スルホニウム塩とを必須成分とす
ることを特徴とする。
まず、第1の必須成分でめるエポキシ樹脂としては1例
えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂;ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ
樹脂;脂環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアネ
ートやヒダントインエポキシの如き含複素項エポキシ樹
脂;水添ビスフx / −ルAflエポキシ樹脂:プロ
ピレンクリコ−ルージグリシジルエーテルやペンタエリ
スリトール−ポリグリシジルエーテルなどの脂肪族系エ
ポキシ樹脂;芳香族、脂肪族もしくは脂環式のカルボン
酸とエピクロルヒドリンとの反応によって得られるエポ
キシ樹脂;スピロ環含有エポキシ樹脂;0−アリルフェ
ノールノボラック化合物とエビクロルヒドリンとの反応
生成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;ビス
フェノールAのそれぞれの水酸基のオルト位にアリル基
を有するジアリルビスフェノール化合物トエビクロルヒ
ドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂などがあげられる。
えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂;ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ
樹脂;脂環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアネ
ートやヒダントインエポキシの如き含複素項エポキシ樹
脂;水添ビスフx / −ルAflエポキシ樹脂:プロ
ピレンクリコ−ルージグリシジルエーテルやペンタエリ
スリトール−ポリグリシジルエーテルなどの脂肪族系エ
ポキシ樹脂;芳香族、脂肪族もしくは脂環式のカルボン
酸とエピクロルヒドリンとの反応によって得られるエポ
キシ樹脂;スピロ環含有エポキシ樹脂;0−アリルフェ
ノールノボラック化合物とエビクロルヒドリンとの反応
生成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;ビス
フェノールAのそれぞれの水酸基のオルト位にアリル基
を有するジアリルビスフェノール化合物トエビクロルヒ
ドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂などがあげられる。
これらのエポキシ樹脂はそれぞれ単独で又は2種以上を
適宜に混合して用いることができる。
適宜に混合して用いることができる。
第2の必須成分は、1分子内に少なくとも2個の共役し
たスルホニウムイオンを有する芳香族スルホニウム塩で
ある。
たスルホニウムイオンを有する芳香族スルホニウム塩で
ある。
この塩は1例えば1次式:
で示すことができる。式中、R,R、R、R。
BS 、 n6 、 B7.几8.R9は同一であって
も異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子。
も異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子。
炭素数1〜25のアルキル基、アルキルオキシ基。
ニトロ基、シアノ基の群から選ばれる少なくとも1つを
表わし;nは1又は2の整数、mは2,3゜4.5.6
の整数を表わし;Xは隣接する芳香環と共役し得る基、
具体的には、カルボニル基、芳香族基、共役二重結合な
どを表わし;yOtd BF4・AsF 6°、 Sb
F@°、PF6”のいずれか1つの酸基を表わす。
表わし;nは1又は2の整数、mは2,3゜4.5.6
の整数を表わし;Xは隣接する芳香環と共役し得る基、
具体的には、カルボニル基、芳香族基、共役二重結合な
どを表わし;yOtd BF4・AsF 6°、 Sb
F@°、PF6”のいずれか1つの酸基を表わす。
具体的には、以下に例示するような塩が好ましい。
A sF 6 A m F6e
8bF、° SbF、。
A s F @ A s F 6e
8bFa0SbFs”
SbF6 SbF、。
0B(IH210tollzt
AsF@e
sFge
このような芳香族スルホニウム塩の配合量は。
エポキシ樹脂100重量部に対し%0.001〜10重
量部であることが好ましく、とくに好ましくは0.1〜
5重量部である。0.1重量部未満の場合には、光重合
が満足のいくまで進行せず、また10重量部を超えると
、腐食性、コスト高、電気特性(電気絶縁性)の低下な
どの不都合が生ずる。
量部であることが好ましく、とくに好ましくは0.1〜
5重量部である。0.1重量部未満の場合には、光重合
が満足のいくまで進行せず、また10重量部を超えると
、腐食性、コスト高、電気特性(電気絶縁性)の低下な
どの不都合が生ずる。
本発明の光重合組成物は、指温光硬化、加熱光硬化、光
硬化後アフターキュアーなどの方法により、硬化させて
実用に供される。光硬化に必要な波長は、組成物の成分
1組成によって異なるが、通常180〜600 nm、
好ましくは300〜400nm’、光照射時間は、エポ
キシ樹脂の組成。
硬化後アフターキュアーなどの方法により、硬化させて
実用に供される。光硬化に必要な波長は、組成物の成分
1組成によって異なるが、通常180〜600 nm、
好ましくは300〜400nm’、光照射時間は、エポ
キシ樹脂の組成。
および光硬化触媒の種類によって異なるが、通常0.1
秒〜lO分、好ましくは1秒〜1分;加熱光硬化する場
合の加熱温度は、エポキシ樹脂の組成および光硬化触媒
の種類によって異なるが、通常20〜200℃、好まし
くは60〜100℃である。光源としては、高圧水銀ラ
ンプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ、アルゴ
ングロー放電管、メタルハライドランプ等を使用できる
。光硬化後アフターキュアーは、エポキシ樹脂の組成お
よび触媒の種類によって異なる力’s>h常50〜20
0℃、好ましくは100〜180℃にて、通常1〜10
時間、好ましくは2〜5時間行なう。
秒〜lO分、好ましくは1秒〜1分;加熱光硬化する場
合の加熱温度は、エポキシ樹脂の組成および光硬化触媒
の種類によって異なるが、通常20〜200℃、好まし
くは60〜100℃である。光源としては、高圧水銀ラ
ンプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ、アルゴ
ングロー放電管、メタルハライドランプ等を使用できる
。光硬化後アフターキュアーは、エポキシ樹脂の組成お
よび触媒の種類によって異なる力’s>h常50〜20
0℃、好ましくは100〜180℃にて、通常1〜10
時間、好ましくは2〜5時間行なう。
実施例1〜5
エポキシ樹脂として、エピコート828(商品名、シェ
ル化学社製、ビスフェノールh’Mtエポキシ当量19
0〜2 t o ) s エピコート1001(商品名
、シェル化学社製;ビスフェノールA壓。
ル化学社製、ビスフェノールh’Mtエポキシ当量19
0〜2 t o ) s エピコート1001(商品名
、シェル化学社製;ビスフェノールA壓。
エポキシ当量450〜5252分子量900)及びエビ
コー) 1004 (商品名、シェル化学社製。
コー) 1004 (商品名、シェル化学社製。
ビスフェノールA型、エポキシ当量90ON1000、
分子量1400 >を使用した。
分子量1400 >を使用した。
光硬化触媒としては、前記した(6) j (7)の構
造式をもつ芳香族スルホニウム塩を用いた。
造式をもつ芳香族スルホニウム塩を用いた。
これらを表に示した配合割合(重量部で表示)で均一に
混合し、本発明のエポキシ樹脂組成物とした。
混合し、本発明のエポキシ樹脂組成物とした。
これ乏アルミニウム板に塗布した後、 80 W/an
の強度に調整された紫外線照射光硬イヒ装置の中に所定
時間導入して光硬化した。得られた各塗膜につき、JI
S K−5400−6−14で規定する基盤目試験に基
づく接着性、鉛筆硬度を測定し、その結果は、塗膜厚、
硬化時間とともに表に示した。
の強度に調整された紫外線照射光硬イヒ装置の中に所定
時間導入して光硬化した。得られた各塗膜につき、JI
S K−5400−6−14で規定する基盤目試験に基
づく接着性、鉛筆硬度を測定し、その結果は、塗膜厚、
硬化時間とともに表に示した。
比較のために、光硬化触媒としてトリフェニルスルホニ
ウムへキサフルオロアンチモオートヲ用イた場合の結果
も併記した。
ウムへキサフルオロアンチモオートヲ用イた場合の結果
も併記した。
以上の説明から明らかな通り1本発明の組成物は、■光
重合が迅速に進行すること、■硬化物の硬度が大きいこ
と、■透明性にすぐれていること。
重合が迅速に進行すること、■硬化物の硬度が大きいこ
と、■透明性にすぐれていること。
等の効果を奏し、その産業上の利用性は極めて大である
。
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エポキシ樹脂と、 1分子内に少なくとも2個の共役したスルホニウムイオ
ンヲ有する芳香族スルホニ゛ウム塩とを必須成分とする
光重合性エポキシ樹脂組成物。 2、該芳香族スルホニウム塩の含有量が、エポキシ樹脂
100重量部に対し、0.001〜10重量部である特
許請求の範囲第1項記載の光重合性エポキシ樹脂組成物
。 3、 該芳香族スルホニウム塩の酸基が、 BF4°。 AIFse、 sbp、、、PFs Oイス’I”I−
カ1 ッT h ;b特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の光重合性エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5931784A JPS60203629A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 光重合性エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5931784A JPS60203629A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 光重合性エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60203629A true JPS60203629A (ja) | 1985-10-15 |
Family
ID=13109859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5931784A Pending JPS60203629A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 光重合性エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60203629A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004086188A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | レジスト組成物 |
WO2014179324A1 (en) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | John Moore | Release layer for subsequent manufacture of flexible substrates in microelectonic applications |
-
1984
- 1984-03-29 JP JP5931784A patent/JPS60203629A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004086188A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | レジスト組成物 |
WO2014179324A1 (en) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | John Moore | Release layer for subsequent manufacture of flexible substrates in microelectonic applications |
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