JPS61203122A - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
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- JPS61203122A JPS61203122A JP61006581A JP658186A JPS61203122A JP S61203122 A JPS61203122 A JP S61203122A JP 61006581 A JP61006581 A JP 61006581A JP 658186 A JP658186 A JP 658186A JP S61203122 A JPS61203122 A JP S61203122A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
- C08G59/70—Chelates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性のｍａ−Ｖａ族元素のジカルボニルキ
レートを用いて基体上のエポキシ樹脂を紫外線の作用に
より硬化する方法に関する。
レートを用いて基体上のエポキシ樹脂を紫外線の作用に
より硬化する方法に関する。
ジェイムズ・ヴイ・クリベロ（Ｊａａ＋ｅｓ Ｖ、Ｃ：
ｒｉｖｅｔｌｏ）の米国特許出願節Ｅｉ３８，９８２号
、第６３８．９８３号および第６３８．９９４号（１９
７５年１２月９目出願）に、ある種のオニウム塩を光開
始剤として含有する紫外線硬化性エポキシ組成物が開示
されている。本発明者の発明に係わる「硬化性組成物」
には、エポキシ樹脂および有効量のｌ［［ａ〜Ｖａ族元
素のジカルボニルキレートよりなる湿分硬化性組成物が
記載されている。 この７．３−ジカルボニルキレート
、即ち「ジケトンキレート」は次式を有する。
ｒｉｖｅｔｌｏ）の米国特許出願節Ｅｉ３８，９８２号
、第６３８．９８３号および第６３８．９９４号（１９
７５年１２月９目出願）に、ある種のオニウム塩を光開
始剤として含有する紫外線硬化性エポキシ組成物が開示
されている。本発明者の発明に係わる「硬化性組成物」
には、エポキシ樹脂および有効量のｌ［［ａ〜Ｖａ族元
素のジカルボニルキレートよりなる湿分硬化性組成物が
記載されている。 この７．３−ジカルボニルキレート
、即ち「ジケトンキレート」は次式を有する。
式中のＸは［ｌａ 、 ■ａおよびＶａ族の中から選択
される主族元素、Ｊは炭素原子数３〜ｌｌ−２個の＝価
のｂ 有機基、Ｍは１３；ｈ、 Ａｓ、 Ｐ、 ＢおよびＣＩ
の中から選択される元素、Ｑはハロゲンま九は酸素を示
し、ｎは２または３の整数、ｙ＃ｉｌまたは２の整数、
ａＦｉ≠〜６またはＭの原子価に等しい整数である。
される主族元素、Ｊは炭素原子数３〜ｌｌ−２個の＝価
のｂ 有機基、Ｍは１３；ｈ、 Ａｓ、 Ｐ、 ＢおよびＣＩ
の中から選択される元素、Ｑはハロゲンま九は酸素を示
し、ｎは２または３の整数、ｙ＃ｉｌまたは２の整数、
ａＦｉ≠〜６またはＭの原子価に等しい整数である。
上記湿分感応硬化性組成物を用いることにより、従来の
エポキシ組成物硬化時に生じる多数の欠点を克服するこ
とができる。 しかし、か＼るエポキシ組成物の硬化時
間は少くとも２時間またはそ九以上であり、これがため
５分以内に硬化する必要のあるような特定の被覆用途に
は上記エポキシ組成物を用いることができない。
エポキシ組成物硬化時に生じる多数の欠点を克服するこ
とができる。 しかし、か＼るエポキシ組成物の硬化時
間は少くとも２時間またはそ九以上であり、これがため
５分以内に硬化する必要のあるような特定の被覆用途に
は上記エポキシ組成物を用いることができない。
本発明は、エポキシ樹脂および有効量の式■のジカルボ
ニルキレートよりなるエポキシ組成物を基体に塗布し、
紫外線照射忙さらすと、この組成物を５分以内に硬化し
得ることを見出してなされたものである。 式■のジカ
ルボニルキレートと前記ジェイムズ・クリベロの提案し
たオニウム塩とはエポキシ樹脂を硬化する機構に関して
まり丸く異なっているので、この結果は実に驚くべきも
のである。 式ｌの湿分感応性ジカルボニルキレートを
用いてエポキシの硬化が紫外線下でなぜ促進されるのか
については、湿分て開始された硬化が紫外線で促進され
ると説明できる。
ニルキレートよりなるエポキシ組成物を基体に塗布し、
紫外線照射忙さらすと、この組成物を５分以内に硬化し
得ることを見出してなされたものである。 式■のジカ
ルボニルキレートと前記ジェイムズ・クリベロの提案し
たオニウム塩とはエポキシ樹脂を硬化する機構に関して
まり丸く異なっているので、この結果は実に驚くべきも
のである。 式ｌの湿分感応性ジカルボニルキレートを
用いてエポキシの硬化が紫外線下でなぜ促進されるのか
については、湿分て開始された硬化が紫外線で促進され
ると説明できる。
本発明の基体の被覆方法は、
（１）基体に
囚エポキシモノマー、エポキシプレポリマー、オキシラ
ン含有有機ポリマーおよびこれらの混合物の中から選択
される高分子量に重合可能なエポキシ樹脂および β）有効量の式Ｉの湿分感応性ジカルボニルキレートよ
りなる組成物を塗布し、 （２）工程（１）に従って処理された基体に、不粘着性
の硬化被膜が得られるまで紫外線を照射すること′ｔ−
特徴とする。
ン含有有機ポリマーおよびこれらの混合物の中から選択
される高分子量に重合可能なエポキシ樹脂および β）有効量の式Ｉの湿分感応性ジカルボニルキレートよ
りなる組成物を塗布し、 （２）工程（１）に従って処理された基体に、不粘着性
の硬化被膜が得られるまで紫外線を照射すること′ｔ−
特徴とする。
式Ｉにおいて、Ｊの示す基の例には次のものがある。
式中のＲおよびＲ２は水素、アミノ、飽和０１〜Ｓ脂肪
族炭化水素、飽和０１〜８脂環式炭化水素、不飽和Ｃ０
〜８脂肪族炭化水素、不飽和Ｃ０〜８脂環式％式％ Ｃ□〜８アルコキシ、およびこれらのハロゲン化誘導体
などの中から選択され；Ｒ１はハロゲン、ＲおよびＲの
中から選択され；ＦＬ、ＲおよびＲは同じ脂環式基の各
部分ともなり得る。 Ｒは水素、アミノ、Ｃ０〜８脂肪
族、０１〜８脂環式、０６〜．３芳香族、Ｃエル８アル
コキシおよびこれらの置換誘導体などの中から選択され
；ＲおよびＢはハロゲン、ＩＬ２およびＲ３の中から選
択され、 Ｒ３およびＲ５、ならびにＲ３、Ｒ４および
Ｒ５は脂環式または芳香族環の各部分ともなり得る。
族炭化水素、飽和０１〜８脂環式炭化水素、不飽和Ｃ０
〜８脂肪族炭化水素、不飽和Ｃ０〜８脂環式％式％ Ｃ□〜８アルコキシ、およびこれらのハロゲン化誘導体
などの中から選択され；Ｒ１はハロゲン、ＲおよびＲの
中から選択され；ＦＬ、ＲおよびＲは同じ脂環式基の各
部分ともなり得る。 Ｒは水素、アミノ、Ｃ０〜８脂肪
族、０１〜８脂環式、０６〜．３芳香族、Ｃエル８アル
コキシおよびこれらの置換誘導体などの中から選択され
；ＲおよびＢはハロゲン、ＩＬ２およびＲ３の中から選
択され、 Ｒ３およびＲ５、ならびにＲ３、Ｒ４および
Ｒ５は脂環式または芳香族環の各部分ともなり得る。
式Ｉのカルボニルキレートには、例えば下記のキレート
が含まれる。
が含まれる。
など。
式Ｉのジカルボニルキレートは、７．３−ジカルボニル
配位子を直接適当なＸのハロゲン化物と有機溶媒の存在
下で無水条件下で下記文献記載の方法に従って反応させ
ることによって形成したキレートのハロゲン化塩と川、
酸のアルカリ金属塩との塩分解反応によって製造できる
。 上記キレートのハロゲン化塩の形成方法は、 Ｒ，Ｗｅｓｔ 、 Ｊ、 Ａｍｅｒ 、 Ｃｈｅｍ、
８ｏｃ、 、 １０ 。
配位子を直接適当なＸのハロゲン化物と有機溶媒の存在
下で無水条件下で下記文献記載の方法に従って反応させ
ることによって形成したキレートのハロゲン化塩と川、
酸のアルカリ金属塩との塩分解反応によって製造できる
。 上記キレートのハロゲン化塩の形成方法は、 Ｒ，Ｗｅｓｔ 、 Ｊ、 Ａｍｅｒ 、 Ｃｈｅｍ、
８ｏｃ、 、 １０ 。
３２≠Ａ（１５Ｐｊざ ） 、
Ｅ、 Ｌ、 Ｍｕｅｔｔｅｒｔｉｅｓ 、 Ａ、 Ｎ、
Ｗｒｉｇｈｔ 、 Ｊ 、 Ａｍｅｒ。
Ｗｒｉｇｈｔ 、 Ｊ 、 Ａｍｅｒ。
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、ｌｒ＆ 、ｊ１３２ （／９＃
）、Ｒ，Ｒ１１ｅｙ、 Ｒ，Ｗｅｓｔ 、 Ｒ，Ｂａ
ｒｂａｒｉａｎ 、 Ｉｎｏｒｇ。
）、Ｒ，Ｒ１１ｅｙ、 Ｒ，Ｗｅｓｔ 、 Ｒ，Ｂａ
ｒｂａｒｉａｎ 、 Ｉｎｏｒｇ。
８ｙｎ、、／ 、３０ （／り６３ ）、Ｗ、Ｄｉ
ｌｔｈｅｙ 、Ａｎｎ、、３１７弘、３００ （／り
０１． ）、 およびＲ，Ｗｅｓｔ、 Ｊ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈａｍ、 、 ２３ 、１１１２ （／りＪ）に記
載されている。
ｌｔｈｅｙ 、Ａｎｎ、、３１７弘、３００ （／り
０１． ）、 およびＲ，Ｗｅｓｔ、 Ｊ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈａｍ、 、 ２３ 、１１１２ （／りＪ）に記
載されている。
本発明の硬化性組成物の記述に用いられる用語「エポキ
シ樹脂」は、１個または複数個のエポキシ官能基を有す
るモノマー、ダイマー、オリゴマーおよびポリマー型エ
ポキシ材料のすべてを包含する。 例えば、ビスフェノ
ールＡ （Ｆ、＜４’−イソプロピリデンジフェノール
）とエピクロルヒドリンとの反応、または低分子量フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂（ノポラプク樹脂）とエ
ピクロルヒドリンとの反応により得られる樹脂を単独で
、ま九は反応性希釈剤としてのエポキシ含有化合物と組
合せて用いることができる０ フェニルグリシジルエー
テル、φ−ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネン
ジオキシド、！、２−シクロヘキセンオキシド、グリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレ
ンオキシド、アリルグリシジルエーテルなどのような希
釈剤を粘度調整剤として添加することができる。
シ樹脂」は、１個または複数個のエポキシ官能基を有す
るモノマー、ダイマー、オリゴマーおよびポリマー型エ
ポキシ材料のすべてを包含する。 例えば、ビスフェノ
ールＡ （Ｆ、＜４’−イソプロピリデンジフェノール
）とエピクロルヒドリンとの反応、または低分子量フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂（ノポラプク樹脂）とエ
ピクロルヒドリンとの反応により得られる樹脂を単独で
、ま九は反応性希釈剤としてのエポキシ含有化合物と組
合せて用いることができる０ フェニルグリシジルエー
テル、φ−ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネン
ジオキシド、！、２−シクロヘキセンオキシド、グリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレ
ンオキシド、アリルグリシジルエーテルなどのような希
釈剤を粘度調整剤として添加することができる。
さらに、エポキシ化合物の範囲を、エポキシ末端基また
は懸垂を有するポリマー材料を包含するように拡張する
ことができる。 か＼る化合物の例には、コモノマーと
してグリシジルアクリレートまたはメタクリレートを含
有するビニルコポリマーがある。 上記触媒を用いて硬
化し得る他のｓＷＡのエポキシ含有ポリマーには、エポ
キシ−シロキサン樹脂、エポキシ−ポリウレタンおよび
エポキシ−ポリエステルがある◎ これらのポリマーは
通常エポキシ官能基を鎖末端に有する。
は懸垂を有するポリマー材料を包含するように拡張する
ことができる。 か＼る化合物の例には、コモノマーと
してグリシジルアクリレートまたはメタクリレートを含
有するビニルコポリマーがある。 上記触媒を用いて硬
化し得る他のｓＷＡのエポキシ含有ポリマーには、エポ
キシ−シロキサン樹脂、エポキシ−ポリウレタンおよび
エポキシ−ポリエステルがある◎ これらのポリマーは
通常エポキシ官能基を鎖末端に有する。
エポキシ−シロキサン樹脂およびその製造方法は、Ｅ、
Ｐ、 Ｐｌｕｅｄｄｅｍａｎｎ 、 Ｇ、 Ｆａｎｇ
ｅｒ 、 Ｊ 、 Ａｎｎｅｒ、 Ｃｈｅｍ。
Ｐ、 Ｐｌｕｅｄｄｅｍａｎｎ 、 Ｇ、 Ｆａｎｇ
ｅｒ 、 Ｊ 、 Ａｎｎｅｒ、 Ｃｈｅｍ。
８ｏｃ、、ざ／ 、 ｌＪ２− ｊ （１９ｎ ）
Ｋ詳細忙示されている。 文献に記載されているよう忙
、エポキシ樹脂は多数のＩｉ漁方法、例えば米国特許第
２、り３３．ｑｊ号、第３，２３３−、んＷ号、第３，
３６２．０３３号、第３．３７９．６１３号、第３．ｎ
ｔ、２／／号、第Ｊ、１Ｉ−０３，１タタ号、第３．ふ
ｔａ、ｒｚｏ号、第３．ｊｌ、７．７η号、第３．６η
′、２７５号などに示されているよう化アミン、カルボ
ン酸、チオール、フェノール、アルコールなどとの反応
忙より変性することもできる〇使用し得るエポキシ樹脂
の他の例は、「ポリマー科学技術辞典（Ｅｎｃ）ｒｃｌ
ｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎｃｅ
ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ） Ｊ、インターサイ
エンス社刊（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌ １
ｓｈｅｒｓ ）、 ニューヨーク、／９６７年、第を巻
、第〃デ、２７１頁忙記載されている〇 本発明を実施するに当っては、エポキシ樹脂とジカルボ
ニルキレートとを一緒に配合することにより紫外線硬化
性組成物を製造することができる。 エポキシ樹脂とジ
カルボニルキレートとが相溶性でない場合には、適当な
有機溶剤を用いて各成分の混合を容易にする。ことがで
きる◎ か＼る有機溶剤の例にはクロロホルム、塩化メ
チレン、アセトンなどがある。
Ｋ詳細忙示されている。 文献に記載されているよう忙
、エポキシ樹脂は多数のＩｉ漁方法、例えば米国特許第
２、り３３．ｑｊ号、第３，２３３−、んＷ号、第３，
３６２．０３３号、第３．３７９．６１３号、第３．ｎ
ｔ、２／／号、第Ｊ、１Ｉ−０３，１タタ号、第３．ふ
ｔａ、ｒｚｏ号、第３．ｊｌ、７．７η号、第３．６η
′、２７５号などに示されているよう化アミン、カルボ
ン酸、チオール、フェノール、アルコールなどとの反応
忙より変性することもできる〇使用し得るエポキシ樹脂
の他の例は、「ポリマー科学技術辞典（Ｅｎｃ）ｒｃｌ
ｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎｃｅ
ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ） Ｊ、インターサイ
エンス社刊（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌ １
ｓｈｅｒｓ ）、 ニューヨーク、／９６７年、第を巻
、第〃デ、２７１頁忙記載されている〇 本発明を実施するに当っては、エポキシ樹脂とジカルボ
ニルキレートとを一緒に配合することにより紫外線硬化
性組成物を製造することができる。 エポキシ樹脂とジ
カルボニルキレートとが相溶性でない場合には、適当な
有機溶剤を用いて各成分の混合を容易にする。ことがで
きる◎ か＼る有機溶剤の例にはクロロホルム、塩化メ
チレン、アセトンなどがある。
得られる混合物の早期硬化を回避するために、成分の混
合をはソ無水の条件下で行い、その後湿気および可視光
遮断条件下に保持する必要がある。
合をはソ無水の条件下で行い、その後湿気および可視光
遮断条件下に保持する必要がある。
硬化性混合物を種々の基体、例えばアルミニウムストリ
ップ、珪素鋼ストリップ、銅線、アルミニラム線、熱可
塑性プラスチックシート、ガラス繊維などへの絶縁被覆
として使用できる。 紫外線硬化性組成物の塗布は、標
憔方法、例えば浸漬、スプレー、ロールコータ−やカー
テンコーターの使用などによって行うことができる。
紫外線硬化性組成物を厚さ７〜３ミルに塗布した後、こ
れを紫外線電球光源からの紫外線照射忙さらす。
ップ、珪素鋼ストリップ、銅線、アルミニラム線、熱可
塑性プラスチックシート、ガラス繊維などへの絶縁被覆
として使用できる。 紫外線硬化性組成物の塗布は、標
憔方法、例えば浸漬、スプレー、ロールコータ−やカー
テンコーターの使用などによって行うことができる。
紫外線硬化性組成物を厚さ７〜３ミルに塗布した後、こ
れを紫外線電球光源からの紫外線照射忙さらす。
１個または複数個の紫外線電球、例えば／ −２００個
の放電灯、例えばキセノン、ハロゲン化金属、金属アー
ク灯、具体的には／−１０気圧の動作圧を有する水銀蒸
気放電灯などを用いることができる＠ 放電灯には約１
ｌｒｌｌ−タル１１０ｏｏ大、好ましくは２４Ｉ００−
ＩＡＯＯＯ＾の波長の光を透過し得るエンベロープを
設けることができる。 電球用エンベロープは石英、例
えばスペクトロシルなどでつくることができる。 紫外
線照射を行うの罠用い得る代表的な放電灯は、例えばゼ
ネラル・エレクトリック社製ｒＨ３Ｔ７アーク」などの
ような中正水銀７−り灯である。
の放電灯、例えばキセノン、ハロゲン化金属、金属アー
ク灯、具体的には／−１０気圧の動作圧を有する水銀蒸
気放電灯などを用いることができる＠ 放電灯には約１
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ＩＡＯＯＯ＾の波長の光を透過し得るエンベロープを
設けることができる。 電球用エンベロープは石英、例
えばスペクトロシルなどでつくることができる。 紫外
線照射を行うの罠用い得る代表的な放電灯は、例えばゼ
ネラル・エレクトリック社製ｒＨ３Ｔ７アーク」などの
ような中正水銀７−り灯である。
放電灯を点灯して無溶剤樹脂の硬化を汚染を生じないよ
うに行うの忙必要な所望レベルの光束強度を得るには、
放電灯に安定化手段を設けて製造元により規定された正
規の定格より高いワット／インチ入力を与え得るように
する。 例えばＧＥＨｊＴ７放電灯は、正規作動値が１
３０７１８７インチであるが、満足し得る作動寿命期間
中は３００ワット／インチ入力まで作動可能である。
うに行うの忙必要な所望レベルの光束強度を得るには、
放電灯に安定化手段を設けて製造元により規定された正
規の定格より高いワット／インチ入力を与え得るように
する。 例えばＧＥＨｊＴ７放電灯は、正規作動値が１
３０７１８７インチであるが、満足し得る作動寿命期間
中は３００ワット／インチ入力まで作動可能である。
本発明を実施する際に使用する紫外放射線発生用の上記
放電灯類のほかに、照射に用いられる装置における紫外
放射線形成用手段として、放射線Ｐ波手段、例えば石英
窓を反射鏡付放電灯と組合せて使用して、約１ｌｒｌＡ
り〜ｔｉ−ｏｏｏλの波長を有゛する紫外放射線を得る
とともに７３００ Ａ以上の波長の放射線を除去する。
放電灯類のほかに、照射に用いられる装置における紫外
放射線形成用手段として、放射線Ｐ波手段、例えば石英
窓を反射鏡付放電灯と組合せて使用して、約１ｌｒｌＡ
り〜ｔｉ−ｏｏｏλの波長を有゛する紫外放射線を得る
とともに７３００ Ａ以上の波長の放射線を除去する。
当業者が本発明を一層よく理解できるようにするために
１以下に本発明の実施例を示す。 これらの実施例は例
示であって、本発明を限定するものではない。 「部」
は特記し々い限りすべて重量部である。
１以下に本発明の実施例を示す。 これらの実施例は例
示であって、本発明を限定するものではない。 「部」
は特記し々い限りすべて重量部である。
実施例 １
ｉｔ−の７セチルアセトンおよび２０．３ ｄの四塩化
珪素をｒｅｄの無水ベンゼンに溶解した溶液を１時間還
流させた。 冷却した混合物を炉遇し、収集した生成物
を真空デシケータ中で１６時間乾燥した。 乾燥物質は
融点が１７１Ｉ−〜１７６℃、重量２０．４ ｔであっ
た。 製造法と ＳｉＮＭＲスペクトルと忙基づいて、
生成物はトリス−７セチルアセトナト珪素（ＩＶ）クロ
リド塩酸塩と同定された。
珪素をｒｅｄの無水ベンゼンに溶解した溶液を１時間還
流させた。 冷却した混合物を炉遇し、収集した生成物
を真空デシケータ中で１６時間乾燥した。 乾燥物質は
融点が１７１Ｉ−〜１７６℃、重量２０．４ ｔであっ
た。 製造法と ＳｉＮＭＲスペクトルと忙基づいて、
生成物はトリス−７セチルアセトナト珪素（ＩＶ）クロ
リド塩酸塩と同定された。
／ｆの上記トリス−アセチルアセトナト珪素（ＩＶ）ク
ロリド塩酸塩を！艷の塩化メチレンに溶解した溶液をＯ
Ｊｆのへキサフルオロ燐酸ナトリウムおよびｊＩｌｌｔ
の塩化メチレンおよびアセトン混合物と混合し九〇 混
合物を蒸気浴で加熱し、塩化水素の発生が終了するまで
加熱を続けた０ 冷却した溶液をエーテルで希釈し、沈
澱生成物を濾過により収集した。 ｉ、ｏｔの固形分が
得られたが、これを塩化メチレンに再溶解し、濾過し、
エーテルで再沈澱した。 かくして次式： を有し、融点１３１．〜／ｌＩ０℃のへキサフルオロ燐
酸キレートｏ、ｔ、 ｔを得た。
ロリド塩酸塩を！艷の塩化メチレンに溶解した溶液をＯ
Ｊｆのへキサフルオロ燐酸ナトリウムおよびｊＩｌｌｔ
の塩化メチレンおよびアセトン混合物と混合し九〇 混
合物を蒸気浴で加熱し、塩化水素の発生が終了するまで
加熱を続けた０ 冷却した溶液をエーテルで希釈し、沈
澱生成物を濾過により収集した。 ｉ、ｏｔの固形分が
得られたが、これを塩化メチレンに再溶解し、濾過し、
エーテルで再沈澱した。 かくして次式： を有し、融点１３１．〜／ｌＩ０℃のへキサフルオロ燐
酸キレートｏ、ｔ、 ｔを得た。
ｏ、ｉ ｔの上記キレート化シラン、０．３１の次式：
を有するエポキシ樹脂および均質混合物をつくるのに十
分な童のクロロホルムの溶液をアルミニウム基体上に流
し込んで、厚さ３ミルの樹脂被膜をつくった。 被覆ア
ルミニウムストリップ忙、（Ｊ社製Ｈ３Ｔ７放電灯を用
いて約φインチの距離にて照射を行った０ 約３０−１
．０秒後に不粘着性フィルムが得られた。
分な童のクロロホルムの溶液をアルミニウム基体上に流
し込んで、厚さ３ミルの樹脂被膜をつくった。 被覆ア
ルミニウムストリップ忙、（Ｊ社製Ｈ３Ｔ７放電灯を用
いて約φインチの距離にて照射を行った０ 約３０−１
．０秒後に不粘着性フィルムが得られた。
上記エポキシ樹脂の代りにビスフェノール人のジグリシ
ジルエーテルを用いて上記と同じ工程を繰返した。 被
覆アルミニウムストリップの照射５分後にはエポキシ樹
脂がはソ硬化していることを確かめた。
ジルエーテルを用いて上記と同じ工程を繰返した。 被
覆アルミニウムストリップの照射５分後にはエポキシ樹
脂がはソ硬化していることを確かめた。
実施例 λ〜！
実施例１の工程に従って、教程のキレートおよびビス（
シクロヘキセンオキシド）エポキシ樹脂の２チ溶液を調
製した。 例えば、トリス−アセチルアセトナト珪素（
■）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を次のようにして製
造した。 １部のトリス−アセチルアセトナト珪素（Ｆ
／）塩酸塩と０．１部のへキサフルオロアンチモン酸ナ
トリウムおよび約５部のアセトンとを反応させた。 塩
化ナトリウムを炉別し、次いでＦ液を無水エーテルで処
理して０．６部のトリス−アセチルアセトナト珪素（Ｉ
Ｖ）へキサフルオロアンチモン酸塩を得た。 程々の紫
外線硬化性組成物をそれぞれアルミニウム基体上に厚さ
約２ミルに塗布し、ＧＥ社製Ｈ３Ｔ７放電灯を用いて距
離約弘インチから紫外線照射にさらした。 照射時間は
ランプ下で不粘着性フィルムが得られるまでの時間とし
た。 下記の結果が得られた。 「塩」は使用した特定
のトリス−アセチルアセトナト珪素（ＩＶ）キレートを
示し、「硬化時間」は不粘着性フィルムを得るのに要す
る時間を示す。
シクロヘキセンオキシド）エポキシ樹脂の２チ溶液を調
製した。 例えば、トリス−アセチルアセトナト珪素（
■）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を次のようにして製
造した。 １部のトリス−アセチルアセトナト珪素（Ｆ
／）塩酸塩と０．１部のへキサフルオロアンチモン酸ナ
トリウムおよび約５部のアセトンとを反応させた。 塩
化ナトリウムを炉別し、次いでＦ液を無水エーテルで処
理して０．６部のトリス−アセチルアセトナト珪素（Ｉ
Ｖ）へキサフルオロアンチモン酸塩を得た。 程々の紫
外線硬化性組成物をそれぞれアルミニウム基体上に厚さ
約２ミルに塗布し、ＧＥ社製Ｈ３Ｔ７放電灯を用いて距
離約弘インチから紫外線照射にさらした。 照射時間は
ランプ下で不粘着性フィルムが得られるまでの時間とし
た。 下記の結果が得られた。 「塩」は使用した特定
のトリス−アセチルアセトナト珪素（ＩＶ）キレートを
示し、「硬化時間」は不粘着性フィルムを得るのに要す
る時間を示す。
ＰＦ６３．０
ＡｓＦｓ ２．０
ＢＦ４１０．０
この結果かられかるように、へキサフルオロ塩の方がテ
トラフルオロ硼酸塩より硬化が迅速である。
トラフルオロ硼酸塩より硬化が迅速である。
実施例 ６
！−の塩化メチレンに溶解した２ｆの７セチルアセトン
とＩＯＩＩｇの０．２モル三塩化硼素溶液との反応を行
った０ ガス発生が終ったところで、溶液をｊＯｔｔの
エーテルで希釈し、塩化物塩を分離した。 対応するヘ
キサフルオロアンチモン酸硼素塩を次のようにして製造
した。 上記塩の塩化メチレン溶液をアセトンに溶解し
たｌＪｆのへキサフルオロアンチモン酸ナトリウムと混
合した。
とＩＯＩＩｇの０．２モル三塩化硼素溶液との反応を行
った０ ガス発生が終ったところで、溶液をｊＯｔｔの
エーテルで希釈し、塩化物塩を分離した。 対応するヘ
キサフルオロアンチモン酸硼素塩を次のようにして製造
した。 上記塩の塩化メチレン溶液をアセトンに溶解し
たｌＪｆのへキサフルオロアンチモン酸ナトリウムと混
合した。
生成した塩化ナトリウムを炉別し、Ｆ液をエーテルで溶
離し、次いで濾過を行って所望のジカルボニル硼素へキ
サフルオロアンチモン酸塩を単離した。
離し、次いで濾過を行って所望のジカルボニル硼素へキ
サフルオロアンチモン酸塩を単離した。
０．２１の上記ジカルボニルキレートをｌＯｆの実施例
／記載のビス（シクロへキセンオキシド）エポキシ樹脂
に溶解して硬化性組成物をつくった。 得られた硬化性
組成物をガラス繊維基体に塗布し、実施例１と同様に紫
外線にさらした。
／記載のビス（シクロへキセンオキシド）エポキシ樹脂
に溶解して硬化性組成物をつくった。 得られた硬化性
組成物をガラス繊維基体に塗布し、実施例１と同様に紫
外線にさらした。
露出２分後に被覆ガラス繊維基体が不粘着性になること
を確かめ九〇 実施例 ７ り、ｔｆのジベンゾイルメタン、に、／ｄの四塩化珪素
および１ＡＯｄの無水ベンゼンの溶液ｆｔ３０分間還流
させた。 沈澱した塩を濾過により収集した。 ｌＪｆ
の粗製塩を等容量のクロロホルムおよびアセトンに溶解
した溶液をアセトンに溶解し九０．２１のへキサフルオ
ロアンチモン酸ナトリウムと混合した。 塩化ナトリウ
ムを炉別し、生成キレートをＦ液からエーテルで沈澱さ
せた後、１．３ｆのトリス−ベンゾイルメタナト珪素（
ＩＶＩヘキサフルオロアンチモン酸塩が黄色柱状晶とし
て得られた。 融点２７０−２７／ 、ｊ″℃。
を確かめ九〇 実施例 ７ り、ｔｆのジベンゾイルメタン、に、／ｄの四塩化珪素
および１ＡＯｄの無水ベンゼンの溶液ｆｔ３０分間還流
させた。 沈澱した塩を濾過により収集した。 ｌＪｆ
の粗製塩を等容量のクロロホルムおよびアセトンに溶解
した溶液をアセトンに溶解し九０．２１のへキサフルオ
ロアンチモン酸ナトリウムと混合した。 塩化ナトリウ
ムを炉別し、生成キレートをＦ液からエーテルで沈澱さ
せた後、１．３ｆのトリス−ベンゾイルメタナト珪素（
ＩＶＩヘキサフルオロアンチモン酸塩が黄色柱状晶とし
て得られた。 融点２７０−２７／ 、ｊ″℃。
ｏ、ｉ ｔの上記ジカルボニルキレートｔ２ｔｄのア七
トン忙溶解し、次いでＯＪｆの実施例１記載のビス（シ
クロヘキセンオキシド）エポキシ樹脂を加えて硬化性組
成物をつくった。 得られた紫外線硬化性組成物をスチ
ール基体上に塗布し、実施例１と同様忙照射を行った◎
２分間で不粘着性フィルムが得られた。
トン忙溶解し、次いでＯＪｆの実施例１記載のビス（シ
クロヘキセンオキシド）エポキシ樹脂を加えて硬化性組
成物をつくった。 得られた紫外線硬化性組成物をスチ
ール基体上に塗布し、実施例１と同様忙照射を行った◎
２分間で不粘着性フィルムが得られた。
実施例 ｔ
ｆ、！ ｆの五塩化燐を塩化メチレンに溶解した溶液と
／、ｊｆのトロポロンを塩化メチレンに溶解した溶液と
を混合して燐のトリスートロボロキレートジクロリドキ
レートをつくった。 Ｏ，Ｓ ｔの上記キレートｆｔ２
当量のヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウムと反応さ
せて対応するビス−へキサフルオロアンチモン酸塩キレ
ートを得た０７部の上記ジカルボニルキレートを約７０
０部の実施例１記載のエポキシ樹脂に加え、さらに均質
溶液をつくるのに十分な食のア七トンを加えて硬化性組
成物を製造した。 かくして得た硬化性組成物をセラミ
ック基体に塗布し、この被覆組成物に実施例／の手順に
従って紫外線を照射した◇露出３分後に不粘着性フィル
ムが得られた〇実施例 ７〜ｌり 上述した手順に従って他のジカルボニルキレートを製造
した。 ジカルボニルキレートそれぞれを実施例１記載
のジエポキシドと混合して、約１重量−のジカルボニル
キレートヲ含有する硬化性混合物をつくった０ 製造し
たジカルボニルキレートを次表に示す◇ なお、Ｊ、Ｘ
および札は式Ｉで定義されたものである。
／、ｊｆのトロポロンを塩化メチレンに溶解した溶液と
を混合して燐のトリスートロボロキレートジクロリドキ
レートをつくった。 Ｏ，Ｓ ｔの上記キレートｆｔ２
当量のヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウムと反応さ
せて対応するビス−へキサフルオロアンチモン酸塩キレ
ートを得た０７部の上記ジカルボニルキレートを約７０
０部の実施例１記載のエポキシ樹脂に加え、さらに均質
溶液をつくるのに十分な食のア七トンを加えて硬化性組
成物を製造した。 かくして得た硬化性組成物をセラミ
ック基体に塗布し、この被覆組成物に実施例／の手順に
従って紫外線を照射した◇露出３分後に不粘着性フィル
ムが得られた〇実施例 ７〜ｌり 上述した手順に従って他のジカルボニルキレートを製造
した。 ジカルボニルキレートそれぞれを実施例１記載
のジエポキシドと混合して、約１重量−のジカルボニル
キレートヲ含有する硬化性混合物をつくった０ 製造し
たジカルボニルキレートを次表に示す◇ なお、Ｊ、Ｘ
および札は式Ｉで定義されたものである。
ノーエチル−１−シクロへキセ ８ ｉ ８ｂＦ
ｓンーλ−イル ／、２−シクロヘブター−２，４’、Ａ −Ｇｅ
８ｂＦｓトリエニル ｌ−エチル−ｌ−シクロペンテ ５ｉＳｂＦｓンーコ
ーイル ／、３−ジフェニルプロペニル Ｂ ＳｂＦ’
６ｊ−エトキシ−２，≠−ペンテー ８１８ｂＦ ａ
λ−エニル λ１μｍペンテーλ−エニル ８ ＊ Ｃ１
０４１，２−シクロへブタ−１，≠、乙−Ｓ ｔ
Ｓ ｂＦｓトリエニル ｌτエチル−７−シクロペンテ Ｓ ｔ Ｃ１０
４ンー２−イル ／、３−ジフェニルプロペニル Ｇｅ ５ｂＦ
６３−クロロ−２，４ｔ−ペンテ−，２ＳｉＳｂＦ６−
エニル 上記硬化性組成物は、スチール基体上に厚さ約ｌミルに
塗布し、ＧＥ社製ＨＪＴ７放電灯にて距離約φインチか
ら７０分間照射を行うと、硬い不粘着性フィルムに硬化
することを確かめた。
ｓンーλ−イル ／、２−シクロヘブター−２，４’、Ａ −Ｇｅ
８ｂＦｓトリエニル ｌ−エチル−ｌ−シクロペンテ ５ｉＳｂＦｓンーコ
ーイル ／、３−ジフェニルプロペニル Ｂ ＳｂＦ’
６ｊ−エトキシ−２，≠−ペンテー ８１８ｂＦ ａ
λ−エニル λ１μｍペンテーλ−エニル ８ ＊ Ｃ１
０４１，２−シクロへブタ−１，≠、乙−Ｓ ｔ
Ｓ ｂＦｓトリエニル ｌτエチル−７−シクロペンテ Ｓ ｔ Ｃ１０
４ンー２−イル ／、３−ジフェニルプロペニル Ｇｅ ５ｂＦ
６３−クロロ−２，４ｔ−ペンテ−，２ＳｉＳｂＦ６−
エニル 上記硬化性組成物は、スチール基体上に厚さ約ｌミルに
塗布し、ＧＥ社製ＨＪＴ７放電灯にて距離約φインチか
ら７０分間照射を行うと、硬い不粘着性フィルムに硬化
することを確かめた。
実施例 ２０
２部のトリス−アセチルアセトナト珪素（ｍＶ）ヘキサ
フルオロアンチモン酸塩を２部のクロロホルムおよび１
００部のビスフェノールＡのジグリシジルエーテルの形
態のエポキシ樹脂に溶解して紫外線硬化性組成物を調製
した０ この硬化性混合物を銅基体上に塗布し、被覆基
体上に電子部品用にパターン化された形状を有するマス
クを載置した。 かくして得られた複合構造体を、実施
例１記載の手順に従って紫外線［１分間霧出した。
フルオロアンチモン酸塩を２部のクロロホルムおよび１
００部のビスフェノールＡのジグリシジルエーテルの形
態のエポキシ樹脂に溶解して紫外線硬化性組成物を調製
した０ この硬化性混合物を銅基体上に塗布し、被覆基
体上に電子部品用にパターン化された形状を有するマス
クを載置した。 かくして得られた複合構造体を、実施
例１記載の手順に従って紫外線［１分間霧出した。
次にマスクを取り去り、基体をア七トンで現像して被覆
基体の未露光部分を洗い流した。 かくして基体上にマ
スクのネガホトレジストを得た。
基体の未露光部分を洗い流した。 かくして基体上にマ
スクのネガホトレジストを得た。
この実施例から明らかなように、本発明の紫外線硬化性
組成物は電子部品や集積回路を製造する際のホトレジス
トとして利用できる。
組成物は電子部品や集積回路を製造する際のホトレジス
トとして利用できる。
上記実施例は本発明の方法に包含される極めて多数の変
更例のごく一部を示したものであって、本発明の方法忙
は前述した極めて広範な式■のジカルボニルキレートお
よびエポキシ樹脂が包含される。
更例のごく一部を示したものであって、本発明の方法忙
は前述した極めて広範な式■のジカルボニルキレートお
よびエポキシ樹脂が包含される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（Ａ）エポキシモノマー、エポキシプレポリマー、
オキシラン含有有機ポリマーおよびこれらの混合物の中
から選択される高分子量に重合可能なエポキシ樹脂およ
び （Ｂ）有効量の次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中のＸはIIIａ、IVａおよびＶａ族の中から選択さ
れる主族元素、Ｊは炭素原子数３〜４２個の二価の有機
基、ＭはＳｂ、Ａｓ、Ｐ、ＢおよびＣｌの中から選択さ
れる元素、Ｑはハロゲンまたは酸素を示し、ｎは２また
は３の整数、ｙは１または２の整数、ａは４〜６または
Ｍの原子価に等しい整数である）のジカルボニルキレー
トよりなる紫外線硬化性組成物。 ２、１，３−ジカルボニルキレートのＸが珪素である特
許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 ３、１，３−ジカルボニルキレートのＸが硼素である特
許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 ４、１，３−ジカルボニルキレートのＸが燐である特許
請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 ５、１，３−ジカルボニルキレートのＸがゲルマニウム
である特許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 ６、ジカルボニルキレートがトリス−アセチルアセトア
ト珪素（IV）ヘキサフルオロ燐酸塩である特許請求の範
囲第１項記載の硬化性組成物。 ７、ジカルボニルキレートがトリス−アセチルアセトア
ト珪素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸塩である特許
請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 ８、ジカルボニルキレートがトリス−アセチルアセトア
ト珪素（IV）ヘキサフルオロ砒素酸塩である特許請求の
範囲第１項記載の硬化性組成物。 ９、ジカルボニルキレートがトリス−アセチルアセトア
ト珪素（IV）テトラフルオロ硼酸塩である特許請求の範
囲第１項記載の硬化性組成物。 １０、ジカルボニルキレートがトリス−アセチルアセト
アト珪素（IV）過塩素酸塩である特許請求の範囲第１項
記載の硬化性組成物。 １１、ジカルボニルキレートがトリス−トロポロナト珪
素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸塩である特許請求
の範囲第１項記載の硬化性組成物。 １２、ジカルボニルキレートがトリス−ジベンゾイルメ
タナト珪素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸塩である
特許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 １３、ジカルボニルキレートがトリス−２−アセチルシ
クロヘキサアト珪素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸
塩である特許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 １４、ジカルボニルキレートがトリス−２−アセチルシ
クロペンタアト珪素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸
塩である特許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。 １５、ジカルボニルキレートがトリス−エチルベンゾイ
ルアセタト珪素（IV）ヘキサフルオロアンチモン酸塩で
ある特許請求の範囲第１項記載の硬化性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/798,784 US4086091A (en) | 1977-05-20 | 1977-05-20 | Method of applying and curing epoxy coating compositions using dicarbonyl chelate of group IIIa-Va element and UV irradiation |
| US798784 | 1985-11-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61203122A true JPS61203122A (ja) | 1986-09-09 |
| JPS6261218B2 JPS6261218B2 (ja) | 1987-12-21 |
Family
ID=25174267
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP91178A Granted JPS53144935A (en) | 1977-05-20 | 1978-01-10 | Composition*coating process and articles |
| JP61006581A Granted JPS61203122A (ja) | 1977-05-20 | 1986-01-17 | 硬化性組成物 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP91178A Granted JPS53144935A (en) | 1977-05-20 | 1978-01-10 | Composition*coating process and articles |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4086091A (ja) |
| JP (2) | JPS53144935A (ja) |
| AU (1) | AU528581B2 (ja) |
| CA (1) | CA1102277A (ja) |
| DE (1) | DE2759158A1 (ja) |
| ES (1) | ES466432A1 (ja) |
| FR (1) | FR2391255A1 (ja) |
| GB (1) | GB1578674A (ja) |
| NL (1) | NL7800035A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008260933A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-30 | Konishi Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| JP2009166831A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-30 | Webasto Ag | スタイリング縁を有する幌布 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4196138A (en) * | 1977-05-20 | 1980-04-01 | General Electric Company | Dicarbonyl chelate salts |
| US4362263A (en) * | 1980-04-24 | 1982-12-07 | Westinghouse Electric Corp. | Solderable solventless UV curable enamel |
| JPS57125212A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-04 | Toshiba Corp | Photo-polymerizable composition |
| US5191101A (en) * | 1982-11-22 | 1993-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polymerizable compositions containing organometallic initiators |
| US5089536A (en) * | 1982-11-22 | 1992-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polmerizable compositions containing organometallic initiators |
| US4517276A (en) * | 1982-11-29 | 1985-05-14 | Varian Associates, Inc. | Metal-containing organic photoresists |
| US4414059A (en) * | 1982-12-09 | 1983-11-08 | International Business Machines Corporation | Far UV patterning of resist materials |
| CA1305823C (en) * | 1986-08-29 | 1992-07-28 | Union Carbide Corporation | Photocurable blends of cyclic ethers and cycloaliphatic epoxides |
| JPS63143879A (ja) * | 1986-12-08 | 1988-06-16 | Hitachi Ltd | 太陽電池装置 |
| US4950696A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
| US5147900A (en) * | 1987-08-28 | 1992-09-15 | Minnesosta Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
| US5086086A (en) * | 1987-08-28 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced curable compositions |
| US4952612A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced curable compositions |
| US4814391A (en) * | 1988-05-09 | 1989-03-21 | General Electric Company | Heat curable epoxy compositions, and amine adducts of cobalt (II) complexes |
| US4985340A (en) * | 1988-06-01 | 1991-01-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy curable compositions: two component curing agents |
| JPH0812485B2 (ja) * | 1990-03-27 | 1996-02-07 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用トナー |
| US5086192A (en) * | 1990-12-14 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions and photoinitiators therefor |
| DE10144531B4 (de) * | 2001-09-11 | 2006-01-19 | Henkel Kgaa | UV-härtende anti-fingerprint Beschichtungen, Verfahren zum Beschichten und Verwendung eines lösmittelfreien Überzugsmittels |
| WO2007074813A1 (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
| US7829340B2 (en) * | 2007-08-06 | 2010-11-09 | Oft Labs, Llc | Oral fluid assays for the detection of heavy metal exposure |
| KR101800015B1 (ko) | 2007-12-10 | 2017-11-21 | 카네카 코포레이션 | 알칼리 현상성을 갖는 경화성 조성물 및 그것을 사용한 절연성 박막 및 박막 트랜지스터 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616582A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | ア−ク炉設備 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3624121A (en) * | 1969-01-03 | 1971-11-30 | Gen Electric | New chelates of silicon |
| US3720634A (en) * | 1971-01-19 | 1973-03-13 | Atlantic Richfield Co | Organic hexafluorophosphates,arsenates or antimonates as accelerators for curing epoxy resins |
| GB1402899A (en) * | 1971-10-28 | 1975-08-13 | Gen Electric | Curable epoxy resin compositons |
| US3960684A (en) * | 1973-04-30 | 1976-06-01 | American Can Company | Sulfones as solvents in catalysts of U.V. curable systems |
| US3956241A (en) * | 1974-06-07 | 1976-05-11 | Aerojet-General Corporation | Latent catalysts for epoxy resins |
-
1977
- 1977-05-20 US US05/798,784 patent/US4086091A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-31 DE DE19772759158 patent/DE2759158A1/de not_active Withdrawn
-
1978
- 1978-01-02 NL NL7800035A patent/NL7800035A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-01-10 JP JP91178A patent/JPS53144935A/ja active Granted
- 1978-01-11 FR FR7800634A patent/FR2391255A1/fr active Granted
- 1978-01-27 ES ES466432A patent/ES466432A1/es not_active Expired
- 1978-03-07 GB GB8941/78A patent/GB1578674A/en not_active Expired
- 1978-04-28 CA CA302,290A patent/CA1102277A/en not_active Expired
- 1978-05-22 AU AU36339/78A patent/AU528581B2/en not_active Expired
-
1986
- 1986-01-17 JP JP61006581A patent/JPS61203122A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616582A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | ア−ク炉設備 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008260933A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-30 | Konishi Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| JP2009166831A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-30 | Webasto Ag | スタイリング縁を有する幌布 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53144935A (en) | 1978-12-16 |
| AU3633978A (en) | 1979-11-29 |
| ES466432A1 (es) | 1978-10-16 |
| AU528581B2 (en) | 1983-05-05 |
| FR2391255B1 (ja) | 1984-12-07 |
| CA1102277A (en) | 1981-06-02 |
| FR2391255A1 (fr) | 1978-12-15 |
| US4086091A (en) | 1978-04-25 |
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