JPS60199898A - ロジウム−ホスフイン錯体 - Google Patents

ロジウム−ホスフイン錯体

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JPS60199898A
JPS60199898A JP59053600A JP5360084A JPS60199898A JP S60199898 A JPS60199898 A JP S60199898A JP 59053600 A JP59053600 A JP 59053600A JP 5360084 A JP5360084 A JP 5360084A JP S60199898 A JPS60199898 A JP S60199898A
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    • C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0073—Rhodium compounds
    • C07F15/008—Rhodium compounds without a metal-carbon linkage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/68—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
    • C07C45/516—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of nitrogen-containing compounds to >C = O groups

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は、各棟有機合成ならびに不斎合成すなわち不斉
異性化反応、不斉水素化反応により、プロキラルな化合
物からキラルな化合物を製造する工業的触媒として用い
られるロジウム−ホスフィン錯体に関するものである。
〔従来技術〕
従来から、多くの遷移金属錯体が有機合成反応の触媒と
して使用されている。特忙貴金属錯体は高価であるが安
定で取扱いが容易であるため、これを触媒として使用す
る多くの合成研究がなされてお）、とくに、不斉合成す
なわち不斉異性化反応、不斉水素化反応などに用いられ
る不斉触媒について多くの報告がなされている。
一般的にはロジウム、パラジウム、ニッケル触媒に、光
学活性な配位子として第３級ホスフィンを供与したもの
が良い結果を与え、たとえば、不斉水添触媒として、キ
ラルなホスフィンをロジウムに配位させたロジウム−ホ
スフィン触媒〔特開昭５５−６１９５７号公報〕が知ら
れている。
本発明者らは、さきに特開昭５８−４７４８号公報に不
斉異性化触媒を開示した。すなわち、これには （Ｒｈ（オレフィン）Ｌ″）＋Ｘ−（Ｉ［、）（式中、
オレフィンは、エチレン、１，３−ブタジェン、ノルボ
ルナジェン、シクロオクタ−１゜５−ジエンのいずれか
を意味し、ＸはＣＺＯ，、ＢＦ４、ＰＦ、のいずれかを
意味し、Ｌは２個のトリアリールホスンインであるか、
まだは次式 ％式％（） （式中、２は−（ＣＨ２）３−５−　（ＣＨ２）、−１
（ＣＨ２）！−５を示す）で示される３価リン化合物の
誘導体をあられす）で表わされるロジウム錯体を用いて
アリルアミン誘導体を異性化して、エナミン又はイミン
を得る方法たとえば、ネリルジエチルアミンの異性化を
行い、得られたエナミンを加水分解して光学活性シトロ
洋う−ルを得る方法などが記載されている。しかしなが
ら、これらの触媒は、用いる金属が高価であシ、製造工
程も煩雑であるため触媒の製造原価が高くな）、ひいて
は目的物の製造原価が高いものになる。そのほか、工業
的使用を考慮した場合、活性度は高いが、活性の持続性
がないとか、活性の持続性のあるものは活性度が比較的
低いなどの欠点を有している。かかる欠点の少い゛触媒
として、特願昭５８−１６９２８３号明細書に次のロジ
ウム−ホスフィン錯体が記載されている。すなわち次式 ％式％（） （式中、ＢＩＮＡＰは２，２′−ビス（ジフェニルホス
フィノ）−１，１’−ビナフチルを意味し、ＱはＣＸＯ
，、ＰＦ、、ＢＰ、、ｐｃｌｌｅ又はＢ　（ＣｅＨｉ）
４を意味する）で表わされるものである。しかしながら
、工業界に於ては、以上に述べたごとき欠点のない、す
なわち、安価で、活性度が高く、かつ持続性のある触媒
が要求されるところでるる。
〔発明の目的〕
本発明は新規なロジウム−ホスフィン錯体に関し、その
目的とするところは各捕有機合成ならびに不斉合成に有
用な活性が高く持続性のある触媒を提供することにある
。
〔本発明の構成Ｊ 本発明者はこのような工業界の要請にこたえるべく研究
を重ねた結果、触媒中の配位子に光学活性をもたないも
のを用いれば一般合成触媒として用いられ、同一の配位
子で光学活性を有するものを用いれば不斉合成触媒とし
て用いることのできる、しかも活性度の高い新規な触媒
を見出し、その合成法を確立し、こ＼に本発明を完成し
たものである。
すなわち、本発明は、触媒として有用な一般式％式％（
） （式中、ｐ−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰは、ラセミ体また
は光学活性体である２、２′−ビス（ジ−パン−トリル
ホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを意味し、ＹはＣ
ＺＯ４、ＰＦ、、ＢＦ、、ｐｃｌｌ、のいずれかを意味
する）で表わされる新規なロジウム−ホスフィン錯体に
関するものである。
〔錯体の製法〕
本発明の新規ロジウム−ホスフィン錯体は、一般式 ％式％（） 〔式中、オレフィンはエチレン、１，６−ブタジェン、
シクロヘキサジエン、ノルボルナジェン、シクロオクタ
１，５−ジエンのいずれかを意味し、ｐ−Ｔｏ　１　ｙ
　ｌ　Ｂ　ＩＮＡＰは、ラセミ体または光学活性体であ
る２、２′−ビス（ジ−パラ−トリルホスフィン）−１
，１’−ビナフチルを意味し、Ｙ′はＣＺＯ，、ＰＦ６
、ＢＰ、、ＰＣＡ、のいずれかを意味する」で表わされ
るロジウム錯体に、更にもう１分子のｐ−ＴｏｌｙｌＢ
　Ｉ　ＮＡＰをテトラヒドロフラノあるいはアセトンな
どの可溶性溶媒中で反応させることにより高収率で得る
ことができる。
具体的には、例えば式（■で示されるロジウム錯体を適
当な可溶性溶媒にとかしておき、これに更に等モルまた
は過剰の、ｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰを加えて均−
溶液としてから常圧水素添加装置において水素化を行う
。水素化の条件としては温度１０〜５０℃、水素化に要
する時間は１〜１０時間であって、水素吸収の終りをも
って反応終了とする。水素圧が常圧の場合は、ロジウム
のモル数に等しいモル数の水素が吸収されて反応が終了
するが、例えば５に９／Ｃｄ程度の水素圧の場合はロジ
ウムに対し２倍モルの水素を吸収して反応を終了する場
合もある。
本反応溶液より溶媒を留去して、結晶として本発明の新
規錯体（Ｉ＋を得る。工業的には溶媒を留去せず、反応
溶液をそのまま使用することもできる。
この反応に用いることのできる可溶性溶媒としては、テ
トラヒドロフラン、アセトン、ジクロロメタンなどがあ
る。
本発明の新規錯体（Ｉ）は、また以下の方法でも製造す
ることができる。即ち、ロジウム錯体Ｍを、テトラヒド
ロフラン、アセトンなどの可溶性溶媒にとかしておき、
更に錯体（至）と等モル、あるいは過剰のｐ−Ｔｏｌｙ
ｌ　ＢＩＮＡＰを加えて５０〜６０℃に加熱して反応さ
せ、反応終了後、減圧下に溶媒を留去する。次に再び溶
媒を加えて均一溶液を形成し、同様に加熱反応を行って
減圧下に溶媒を留去する。この操作を２〜４回繰返すこ
とにょシ錯体（Ｉ）を得るものである。
〔出発原料の製法〕
本発明の錯体（Ｉ＋を製造するために必要なｐ−Ｔｏｌ
ｙｌ　ＢＩＮＡＰのラセミ体及び光学活性体はトリフェ
ニルホスフィンを反応助剤とし、１，１′−ビー２−ナ
フトールにブロムを反応せしめて、２．２−ジブロモ−
１，１′−ビナフチルを得る。これに一般的なグリニヤ
ー試薬の調整法により、例えばマグネシウムを使用し、
グリニヤー試薬をつくる。
これにジ−パラ−トリルホスフィニルクロライドを縮合
せしめ（±）　−２、２’−ビス（ジ−パラ−トリルホ
スフィニル）−１，１’−ビナフチルヲ得ル。
これをトリクロルシランと加熱して、還元して（±）−
２、２’−ビス（：）−パラ−トリルホスフィノ）−１
，１’−ビナフチル（（±）’ｐ−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮ
ＡＰ）を得る。
光学活性体のｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰを得る場合
は、Ｈｅｎｒｉ　Ｂｒｕｎｎｅｒ　：　Ａｎｇｗ、　Ｃ
ｈｅ＋ｎ、　Ｉｎｔ、　Ｅｄｔ、　Ｅｎｇｌ・１８．６
２０　（１９７９）　に記載の方法を利用し、（±）−
２，２’−ヒス（）　−ハラ−トリルホスフィニル）−
１，１’−ビナフチルをジベンゾイル酒石酸を用すて分
割を行い、光学活性なものを分離した後、トリクロルシ
ランで還元を行えば光学活性なｐ−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮ
ＡＰを得ることができる。必要に応じて分割剤であるジ
ベンゾイル酒石酸のｆｄｔ体、或は（／？）体を選択す
ることによって光学活性の一方のみを選択的に取得でき
る。
一方、錯体（１）は、メタノール、エタノールなどの溶
媒中で三塩化ロジウムにシクロオクタ−１゜５−ジエン
などのオレフィンを作用させて得られるロジウム、オレ
フィン錯体に三価のリン化合物としてラセミ体または光
学活性体のｐ−ＴｏｌｙｌＢＩＮＡＩ）を反応させて容
易に得ることができる。
〔用途〕
本発明に係るロジウム−ホスフィン錯体は各種有機合成
ならびに不斉異性化反応、不斉水素化反応などの触媒と
して用いられる。
〔効果〕
本発明のロジウム−ホスフィン錯体触媒は、従来用いら
れている触媒たとえば、 （Ｒｈ（ＢＩＮＡＰ）２　〕＋（ＶＯ４−や　〔Ｒｈ（
ＢＩＮＡＰ）２）＋ＰＦａ−などに比し約１．２〜１，
４倍の活性を有するので、製品原価の引き下げに貢献す
ると共に、光学活性な配位子を用いて同様に製造した錯
体は、不斉合成触媒としても好適に作用するものである
。
この効果を、例えば、アリルアミンの異性化反応に適用
した場合について説明すると、アリルミンの６．０００
分の１〜８，０００分の１モルの本発明の錯体触媒を用
いて異性化を行い、２回目以降の異性化反応は最初に加
えた触媒量の７〜８重量％を追加するのみでよく、本操
作を繰返すことによシ、錯体１世に対し、約１３０，０
００倍量のアリルアミンをエナミンに異性化することが
できる。
また生成物の光学純度は、十分満足できる高いものを得
ることができる。
〔実施例〕
次に実施例および使用例によって本発明を説明する。
実施例１ （Ｒｈ（シクロオクタ−１，５−ジエン）（Ｈ−ｐ−Ｔ
ｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ））＋ＣｌＯ４１４，８ｇをテト
ラヒドロフラン７５０　ｍｌに懸濁させ、この中に（へ
）−ｐ−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　（ｍｐ　２５７〜８
℃、〔α〕習−１６９．４９°（Ｃ＝１．０’５２、ベ
ンゼン））ｉｏ、１７ｇを加えて均一とした後、常圧水
素添加装置にて２５〜３０℃で水素化を行い、約１３時
間後に水素の級収が認められなくなったとき反応終了と
した。次に溶媒として用いたテトラヒドロフランを減圧
下に留去し、目的とする （Ｒｈ　（Ｈ（ｐ−Ｔｏｌｙｌ　’ＢＩＮＡＰ　）２　
〕”　ＣＩＯ；　ノ赤褐色の結晶２３．４ｇを得た。こ
のものの元系分析値は次のとおシである。
ＣＨＰ　ＣＡ？　Ｒｈ 実測値　７３．７５　５．３５　８．１０　２．０５　
６．４５計算値　７３．９２　５，１３　７．９６　２
．２８　６．６０錯体（Ｒｈ　（Ｈ−ｐ　−Ｔｏｌｙｌ
　ＢＩＮＡＰ　）２　）”ｃＡｏ、−中のｐ　−Ｔｏｌ
ｙｌ　ＢＩＮＡＰの部分のプロトンＮＭＲの数値は次の
とおシである。
ＣＨｓｆｉ） ＮＭＲ（８ｐｐｍ　）： （ａ）５．９５　（４Ｈ，ｄ）　（ｂ）６．６　（４Ｈ
，ｄ）　（ｃ）７．７０　（２Ｈ，ｄ）（ｄ）７．５．
　（２Ｈ，ｄ）　（ｅ１７．６５（２Ｈ，ｄ）　（ｆ）
７．３８（２Ｈ，ｔ）（ｇ１７．０５（２Ｈ，ｔ）　（
ｈ１６．７２（２Ｈ，ｄ）（、（）６．６５（４Ｈ，ｄ
）（印７．６１　（４Ｈ，ｄ）　’ｆｉ）１．８０　（
６Ｈ，ｓ）　（ｊ）２．１７　（６Ｈ，ｓ）叡 上のＮＭ几スはクトルは日本電子株式会社ＶＪ。
Ｎ、Ｍ−ＧＸ−４００型装置（４００ＭＨｚ）を用いて
測定した。
スペクトルは第１図に示した。
実施例２ （Ｒｈ　（シクロヘキサ−１，３−ジエン）（（ト）−
ｐ−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　）　）”　ＰＦ６”−１
５，０９ｊｉをアセトン７５０ゴに懸濁させ、この中に
←Ｈ−ｐ　−ＴｏｌｙｌＢＩＮＡＰ　（ｍｐ　２５７〜
８℃、〔α〕ｊ’＋１７４．０４゜（Ｃ＝０．８８６７
ベンゼン））１０．１７．９を加えて均一とした後、常
圧水素添加装置にて２５〜６０℃で水素化を行い、約１
５時間後に水素の吸収が認められなくなったとき反応を
終了とした。次に溶媒として用いたアセトンを減圧下に
留去し、目的とする（　Ｒｈ　（Ｈ−ｐ−Ｔｏｌｙｌ　
ＢＩＮＡＰ　）ｔ　）＋　ＰＦａ−の褐色の結晶２４ｇ
を得た。本錯体の元素分析の結果は次のとお）である。
ＣＨＰ　’Ｆ　几り 実測値　７２．１１　５．０３　９．８２　６．９８　
６．２７計算値　７１．８３　４．９８　９．６６　７
．１０　６．４２実施例６ 実施例１と同様にして、［ｈ（ノルボルナジェン）　（
１＋３−１）　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　））”ＢＦ
４　９．６　ｊＪをテトラヒドロフラン中で、（４３−
ｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ６、７８　ｇと水素化を
行い、（Ｒｈ（（＋ｌ　−ｐ−ＴｏｌｙｌＢ’ＩＮＡＰ
　）２　）　＋ＢＦ４−の褐色の結晶１ｓ、４７．！ｉ
ｌを得た。
本錯体の元素分析の結果は次のとおりである。
ＣＨＰＦ　几り 実測値　７４．８１　５，５４　８．１３　４，７１　
６．３５計算値　７４．５３　５，１８　８．０２　４
．９２　６．６６実施例４ 実施例１と同様にして、（Ｒｈ（１，５シクロオクタジ
エン）　（Ｈ−ｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　））＋
ＰＣｊ？６−１１．３．！ｉ’をアセトン中でＨ−ｐ　
−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ６７８ｇと水素化を行い、〔
Ｒｈ　（Ｈ−ｐ−ＴｏｌｙｌＢ　ＩＮＡＰ　）２）　”
　ＰＣＪｌｉａ−の赤褐色の結晶１７．１３　ｇを得た
。本錯体の元素分析の結果は次のとおりである。
ＣｌＩ　Ｐ　ＣｌＲｈ 央測値　６７．８１　４．９３　５，９７　８．９８　
１２．１４計算値　６７．６６　４．７０　６．０４　
、　９．０９　１２．５１実施例５ 実施例１と同様にして〔ＲＩＩ（１，５シクロオクタジ
エン）（（±）　−ｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　）
　）　”　Ｃ１０４−１４，８ｇをテトラヒドロフラン
７５０１１Ｌ７！に懸濁させ、この中に（±）　−ｐ　
−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　１０．１７　ｇを加え、均
一とした後、常圧水素添加装置にて５０℃で水素化を行
い、約１５時間後に水素化を終了した、次に溶媒として
用いたテトラヒドロフランを減圧下に留去し、目的とす
る（Ｒｈ（（−１−１−１）−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ
　）２　）”　ｃｌｏ、−の赤褐色結晶２３．５．！？
を得た。本錯体の元素分析の結果は次の通シである。
ＣＨＰ　ＣＩ　ＦＬｈ 実測値　７２，６８　５，４８　７．５４　２，１３　
６．８５計算値　７３．９２　５，１３　７．９６　２
．２８　６．６０使用例１ １１の耐圧容器をあらかじめ窒素置換しておき。
窒素雰囲気下に実施例１で調製した（ＲｈＨ（ｐ−Ｔｏ
ｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　）２　）”　ＣＡ’０４−のテト
ラヒドロフラン溶液１０ｒＬｌ（０，２ミリモル）、テ
トラヒドロフラン２００ｄおよびＮ、Ｎ〜ジエチルゲラ
ニルアミン３３４　ｇ（ｉ、　６モル）を加え、１００
℃にて１５時間反応させる。反応終了後、別に用意した
蒸留器に反応溶液を移し、テトラヒドロフランを留去し
た後、減圧蒸留して異性化生成物であるシトロネラール
ジエチルエナミン３３０ｇ（純度９９％）を得た。
蒸留残渣中にｎ−へブタン１０ＷＬｌを加え充分に撹拌
し、高沸魚介及び副生分ｋｎ−へブタンに溶解させ、ｎ
−へブタン可溶部を炉別し、更にｎ−へブタン１０ｒ／
Ｌｌを加えて同様の操作を行ってから、テトラヒドロフ
ラン２００ゴを蒸留器に加えて残留触媒を均一溶液とし
てから再び耐圧容器に戻す。
次に新しい触媒溶液０．７１＋１１１（０，０１４ミリ
モル）を追加し、Ｎ、Ｎ−ジエチルゲラニルアミン５６
４Ｉを刃口えて２回目の反応を行い、１回目と同様の純
度のシトロネラールジエチルエナミン約同量を得た。同
様の操作を２５回繰りかえしてもなお同様の成果を得た
。
異性化して得たシトロネラールエナミンを同量のトルエ
ンに溶解し、０°Ｃ〜５℃にて、エナミンに対し０５５
モル倍の１０％硫酸を加えて加水分解し、常法にて処理
し、刀日水分解物を減圧蒸留して純度９９８％のｄ−シ
トロネラールが得られた。
なお、このものの旋光度は〔α）’７＋１６．５７°で
あシ、これは文献値〔α〕ゎ＋１６゜５°よシみて光学
純度９９７チであった。
使用例２ １１の耐圧反応容器をあらかじめ窒素置換しておき、窒
素雰囲気下に実施例２で調製した（　Ｒｈ（（ト）−ｐ
　Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　）２　〕＋ＰＦａ−のテト
ラヒドロフラン溶液２０　ｍｌ　（０，２ミリモル）と
、テトラヒドロ７ラン２００ｄおよびＮ、Ｎ−ジエチル
ネリルアミン２５１　ｇ（１，２モル）を加え、１１０
℃にて１５時間反応させる。反応終了後、別に用意した
蒸留器に反応溶液を移し、テトラヒドロフランを留去し
た後、減圧蒸留器にて異性化生成物であるシトロネラー
ルジエチルエナミン２４９ｇ（純ｉ９８．３％）を得た
。蒸留残渣中にｎ−へブタン１０ゴを加えて充分撹拌す
ることによシ高沸魚介および副生分をｎ−へブタンに溶
解させ、ｎ−へブタン可溶部を戸別し、更にもう一度ｎ
−へブタンＩＤｄを加えて同様な操作を行ってからテト
ラヒドロ７ラン２００ゴを蒸留器に加えて残留触媒を均
一溶液としてから再び耐圧容器にもどし、新しい触媒０
．８ｍ７（０，０１６ミリモル）を追加し、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルネリルアミン２５１ｇを加えて２回目の反応を行
い、１回目と同様の純度のシトロネラールジエチルエナ
ミンを釣同量得た。同様な操作を１２回繰）返してもな
お同様な成果を得ることができた。なお、異性化反応で
得たシトロネラールジエチルエナミンを使用例１と同様
にして、硫酸を用いて加水分解し、純度９９．７　％の
ｄ−シトロネラールを得た。このものの旋光度は〔α）
’ｊ＋１６．２８°であり、文献値〔α：）、＋１６．
５゜よりみて光学純度は９８．７％であった。
使用例６ あらかじめ窒素↑α換したオートクレーブに窒素雰囲気
下に、実施例５で調整したＣＲｈ（（：）−ｐ　−Ｔｏ
ｌｙｌ　ＢＩＮＡＰ　）ｚ　）”　ｃｌｏ４−のテトラ
ヒドロフラン溶液１０，７１７（０，１６６ミリモル）
、テトラヒドロフラン３６０ｄおよび７−ヒドロキシ−
Ｎ、Ｎ−ジエチルゲラニルアミン１８１！ｙ（０，８モ
ル）を加えて、１００℃にて１０時間反応させ、反応終
了後、別に用意した蒸留器に反応溶液を移し、テトラヒ
ドロフランを留去後、蒸留器内の温度が１００℃を越え
ないように注意深く減圧蒸留し、異性化生成物である７
−ヒトロキシシトロネラールジエチルエナミン１８０！
９（純度９８．５％）を得た。蒸留残渣中にｎ−へブタ
ン７μを加えて充分撹拌し、筒沸魚介および副生分子　
Ｉ＋−ヘプタンに俗解させ、ｎ−へブタン可溶部を戸別
し、更にｎ−ヘプタン７Ｔｆｄｌを加えて同様な操作を
行ってから、テトラヒドロフラン６６ＯＮを加えて残留
触媒を均一溶液としてから再び耐圧容器に戻し、次に新
しい触媒０．７１．ｄ（０，００９ミリモル）を追加シ
、７〜ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ−ジエチルゲラニルアミン１
８１９を加えて２回目の反応を行い、１回目と同様の純
度の７−ヒトロキシシトロイ・ンールジエチルエナミン
を約同量得た。同様な操作を１０回繰シ返しても同様の
成果を得た。
【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１で得られた（ＲｈＨ（ｐ−Ｔｏｌｙｌ
ＢＩＮＡＰ　）２　）　”　ＣＡＯ４−−のＮ　Ｍ　Ｒ
スペクトルである。 特許出願人高砂香料工業株式会社 代理人　弁理士　井　坂　實　夫 手続補正書 昭和５９年５月２９日 特許庁長官　若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭ａ５９年特許願第０５３６００号 ２、発明の名称 ロジウム−ホスフィン錯体 ６、補正をする者 事件との関係　特許出願人 名称　高砂香料工業株式会社 ４、代　理　人 住　所　東京都港区西新橋１丁目２１番１１号小野ビル
内 ６補正によシ増加する発明の数　Ｏ Ｚ補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ８、補正の内容 １、　明細ＩＦ第６頁第１１行目の「Ｙ′」をｆｋ’Ｊ
と補正する。 ２、同書第１２頁を別紙のとおシ補正する。 ３、　同書第１７頁第１３行目の「旋光度」を「旋光度
」と補正する。 錯体（Ｒｈ（（−１−ｆ）　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮ＆Ｐ
　）２　）”　ｃｚｏ４−中のｐ　−ＴｏｌｙＪ　ＢＩ
ＮムＰの部分のプロトンＮＭＲの数値は次のとおりであ
る。 ＣＨｓ　（ｊ　１ ｃＨ，（ｉ）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ％式％（） （式中、ｐ　−Ｔｏｌｙｌ　ＢＩＮＡＰはラセミ体また
    は光学活性体である２、２′−ビス（ジ−パラ−トリル
    ホスフィノ）−１’、ｉ’−ビナフチルを意味し、Ｙは
    ＣｌＯ４、ＰＦ、ｌ、ＢＦ、、ＰＣノ、のいずれかを意
    味する）で表わされるロジウム−ホスフィン錯体。
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