JPS60183009A - 高透過性半透性複合膜の製造方法 - Google Patents
高透過性半透性複合膜の製造方法Info
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- JPS60183009A JPS60183009A JP59035886A JP3588684A JPS60183009A JP S60183009 A JPS60183009 A JP S60183009A JP 59035886 A JP59035886 A JP 59035886A JP 3588684 A JP3588684 A JP 3588684A JP S60183009 A JPS60183009 A JP S60183009A
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- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/38—Polyalkenylalcohols; Polyalkenylesters; Polyalkenylethers; Polyalkenylaldehydes; Polyalkenylketones; Polyalkenylacetals; Polyalkenylketals
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- B01D71/383—Polyvinylacetates
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、液状混合物の成分を選択透過分離するだめの
半透膜の製造法に関するものであり、特にカン水を脱塩
して淡水化することができ、また染色廃水や、電着塗料
廃水等の公害発生原因である汚水等から、その中に含ま
れる汚染あるいは有効物質を選択的に除去又は回収し、
ひいては廃水のクローズド化に寄与し、更には、半導体
の製造に用いられる超純水の製造に用いることができる
、高透過性半透性複合膜の製造法に関するものである。
半透膜の製造法に関するものであり、特にカン水を脱塩
して淡水化することができ、また染色廃水や、電着塗料
廃水等の公害発生原因である汚水等から、その中に含ま
れる汚染あるいは有効物質を選択的に除去又は回収し、
ひいては廃水のクローズド化に寄与し、更には、半導体
の製造に用いられる超純水の製造に用いることができる
、高透過性半透性複合膜の製造法に関するものである。
従来工業的に利用されている半透膜には、酢酸セルロー
ズから作った非対称膜として、例えば米国特許Ｍ３．１
３３，１３２号及び同第３，１３３．１’３７号等に記
載されたロブ型の膜がある。
ズから作った非対称膜として、例えば米国特許Ｍ３．１
３３，１３２号及び同第３，１３３．１’３７号等に記
載されたロブ型の膜がある。
しかし、この膜は、耐加水分解性、耐微生物性、耐薬品
性などに問題があり、特に、透過性を向上しようとする
と耐圧性、耐久性を兼ねそなえた膜が製造できず、一部
使用されているが広範囲の用途に実用化されるに至って
いない。これらの酢酸セルローズ非対称膜の欠点をなく
した新しい素材に対する研究は米国、日本を中心に盛ん
に行なわれているが、芳香族ポリアミド、ポリアミドヒ
ドラジド（米国特許第３，５６７．６３２号）、ポリア
ミド酸（特公昭５０−１２１１６８号）、架橋ポリアミ
ド酸（特公昭５２−１５２８７９号）、ポリイミダゾピ
ロロン、ポリスルホンアミド、ポリベンズイミダゾール
、ポリベンズイミダシロン、ポリアリーレン〕キシドな
ど、その一部の欠点を改良する素材は得られているもの
の、選択分離性又は透過性等の面では酢酸セルローズ膜
より劣っている。
性などに問題があり、特に、透過性を向上しようとする
と耐圧性、耐久性を兼ねそなえた膜が製造できず、一部
使用されているが広範囲の用途に実用化されるに至って
いない。これらの酢酸セルローズ非対称膜の欠点をなく
した新しい素材に対する研究は米国、日本を中心に盛ん
に行なわれているが、芳香族ポリアミド、ポリアミドヒ
ドラジド（米国特許第３，５６７．６３２号）、ポリア
ミド酸（特公昭５０−１２１１６８号）、架橋ポリアミ
ド酸（特公昭５２−１５２８７９号）、ポリイミダゾピ
ロロン、ポリスルホンアミド、ポリベンズイミダゾール
、ポリベンズイミダシロン、ポリアリーレン〕キシドな
ど、その一部の欠点を改良する素材は得られているもの
の、選択分離性又は透過性等の面では酢酸セルローズ膜
より劣っている。
一方、ロブ型とは型を異にする半透膜として多孔性支持
体上に実質的に膜性能を司どる活性層を被覆した複合膜
が開・発されＣいる。複合膜においては、活性層と多孔
性支持体をそれぞれの用途に最適な素材を選ぶことが可
能となり製膜技術の自由度が増づ。また常時湿潤状態で
保存しなければならないロブ型膜とは異なり乾燥状態Ｃ
の保存が可能であるなどの利点がある。
体上に実質的に膜性能を司どる活性層を被覆した複合膜
が開・発されＣいる。複合膜においては、活性層と多孔
性支持体をそれぞれの用途に最適な素材を選ぶことが可
能となり製膜技術の自由度が増づ。また常時湿潤状態で
保存しなければならないロブ型膜とは異なり乾燥状態Ｃ
の保存が可能であるなどの利点がある。
一方、これらの複合膜には多孔性支持体上に直接活性層
を被覆した型のものと、多孔性支持体上にグル化層を介
しで活性層を被覆した型のものどの２種類がある。前者
の具体例は米国特許第３゜７４４．６４２＠、同第３，
９２６，７９８号、特開昭５５−１４７１０６号、特開
昭５３−１４０４６号などがあり、この型の複合膜は高
透過性を実現しようとすると、活性層を非常に薄く塗る
ため、多孔性支持体のきず、あるいは異物などによって
欠点を生じやすく、一般にその工業的生産において、安
定に再現性よく高性能膜を得るのが困難と言われている
。後者の具体例としては、特開昭４９−１３３２８２号
、特公昭５５−４９５２４号、特公昭５５−３８１６４
号などが知られている。これらの半透膜の特徴は、前述
のゲル化層を設けない複合膜で問題どなった工業生産塵
の製膜の困難性は解消されるものの、活性層の厚さが高
々１００人であることにより、実際に高圧下で逆浸透処
理に供する場合に、その薄さゆえに、耐久性に問題が生
じることが多い。
を被覆した型のものと、多孔性支持体上にグル化層を介
しで活性層を被覆した型のものどの２種類がある。前者
の具体例は米国特許第３゜７４４．６４２＠、同第３，
９２６，７９８号、特開昭５５−１４７１０６号、特開
昭５３−１４０４６号などがあり、この型の複合膜は高
透過性を実現しようとすると、活性層を非常に薄く塗る
ため、多孔性支持体のきず、あるいは異物などによって
欠点を生じやすく、一般にその工業的生産において、安
定に再現性よく高性能膜を得るのが困難と言われている
。後者の具体例としては、特開昭４９−１３３２８２号
、特公昭５５−４９５２４号、特公昭５５−３８１６４
号などが知られている。これらの半透膜の特徴は、前述
のゲル化層を設けない複合膜で問題どなった工業生産塵
の製膜の困難性は解消されるものの、活性層の厚さが高
々１００人であることにより、実際に高圧下で逆浸透処
理に供する場合に、その薄さゆえに、耐久性に問題が生
じることが多い。
Ｃ本発明の目的〕
本発明者らは、かかる従来技術の欠点に鑑み、活性層の
厚みを薄くすることなく、高透過性及び耐久性の優れた
半透性複合膜を得ることを目的として鋭意努力した結果
、本発明に到達したものである。
厚みを薄くすることなく、高透過性及び耐久性の優れた
半透性複合膜を得ることを目的として鋭意努力した結果
、本発明に到達したものである。
すなわら、本発明の上開口Ｏνは、
多孔性支持体の上に、
■ポリビニルアルコール及び／又はポリ酢酸ビニル部分
ケン化物、 ◎水溶性多価アルコール、 ■不溶化触媒 を主成分として含有する水及び／又は低級アルコール溶
液を塗布し、架橋反応を行ない不溶性の薄膜層を形成４
′ることを特徴と４′る高透過性半透性複合膜の製造方
法、 によって達成される。
ケン化物、 ◎水溶性多価アルコール、 ■不溶化触媒 を主成分として含有する水及び／又は低級アルコール溶
液を塗布し、架橋反応を行ない不溶性の薄膜層を形成４
′ることを特徴と４′る高透過性半透性複合膜の製造方
法、 によって達成される。
本発明において、多孔性支持体とは実質的には分離性能
を右さない層で、実質的に分離性能を右づる薄膜に強度
を与えるために用いられるものであり、均一な微細な孔
あるいは８面からもう一方の面まで徐々に大きな微細な
孔をもっていて、その微細孔の大きさはその片面の表面
が約１００〜１０００人であるような構造の支持体が好
ましい。
を右さない層で、実質的に分離性能を右づる薄膜に強度
を与えるために用いられるものであり、均一な微細な孔
あるいは８面からもう一方の面まで徐々に大きな微細な
孔をもっていて、その微細孔の大きさはその片面の表面
が約１００〜１０００人であるような構造の支持体が好
ましい。
上記の多孔性支持体は、ミリポアフィルタ（ＶＳＷＰ）
や東洋ろ紙（ＵＫｌｏ）のような各種市販材料から選択
りることもできるが、通常は゛オフィス・オブ・セイリ
ーン・つＡ−ター・リサーチ・ノ７ンド・ディベロップ
メント・プログレス・レポート” Ｎｏ 、３５９ （
１９６８）に記載されていた方法に従って製造できる。
や東洋ろ紙（ＵＫｌｏ）のような各種市販材料から選択
りることもできるが、通常は゛オフィス・オブ・セイリ
ーン・つＡ−ター・リサーチ・ノ７ンド・ディベロップ
メント・プログレス・レポート” Ｎｏ 、３５９ （
１９６８）に記載されていた方法に従って製造できる。
その素材にはポリスルホンや酢酸セルローズ、硝Ｍ ヒ
ルローズやポリ塩化ビニル等のホモポリマーあるいはブ
レンドしたものが通常使用され、例えばポリスルホンの
ジメチルホルムアミド（ＤＭに）溶液を密に織ったテト
ロン布又は不織布の上に一定の序さに注型し、それをド
デシル硫酸ソーダ０．５８１％及びＤ Ｍ Ｆ ２重量
％含む水溶液中で湿式凝固させることによって、表面の
大部分が直径″数百オングストローム以下の微細な孔を
有した多孔性支持体が得られる。
ルローズやポリ塩化ビニル等のホモポリマーあるいはブ
レンドしたものが通常使用され、例えばポリスルホンの
ジメチルホルムアミド（ＤＭに）溶液を密に織ったテト
ロン布又は不織布の上に一定の序さに注型し、それをド
デシル硫酸ソーダ０．５８１％及びＤ Ｍ Ｆ ２重量
％含む水溶液中で湿式凝固させることによって、表面の
大部分が直径″数百オングストローム以下の微細な孔を
有した多孔性支持体が得られる。
本発明において、ポリビニルアルコール及び／又はポリ
酢酸ビニル部分ケン化物は、水及び／又は低級アルコー
ルへの溶解性や多孔性支持体への漏れ性を考慮づるとポ
リビニルアルコールやポリ酢酸ビニル部分ケン化物でケ
ン化度が約７０モル％以上のものを用いることが望まし
い、。またポリビニルアルコールの重合度は特に制限さ
れるものではなく、多孔性支持体上に被覆を形成りる時
の粘性が１〜１００センチボイズ（ブルックフィールド
型粘度ｉｔ ＞の範囲のものが適している。
酢酸ビニル部分ケン化物は、水及び／又は低級アルコー
ルへの溶解性や多孔性支持体への漏れ性を考慮づるとポ
リビニルアルコールやポリ酢酸ビニル部分ケン化物でケ
ン化度が約７０モル％以上のものを用いることが望まし
い、。またポリビニルアルコールの重合度は特に制限さ
れるものではなく、多孔性支持体上に被覆を形成りる時
の粘性が１〜１００センチボイズ（ブルックフィールド
型粘度ｉｔ ＞の範囲のものが適している。
本発明でいう水溶性多価アルコールとは水酸基を２個以
上右し、かつ水溶性であるモノマ、オリゴマ及びポリマ
を総称し、例えば後述する一般式（２）で示されるもの
や、環状のイノシトールや、炭水化物の単糖類、小糖類
、多糖類やポリエチレングリコールなどから選ぶことか
できる。
上右し、かつ水溶性であるモノマ、オリゴマ及びポリマ
を総称し、例えば後述する一般式（２）で示されるもの
や、環状のイノシトールや、炭水化物の単糖類、小糖類
、多糖類やポリエチレングリコールなどから選ぶことか
できる。
Ｃ）（２−０１（
（ＣＩ−１−０１１） ｎ （２）
Ｃ１１２−ＯＨ
上式中ｎはＯ〜４であり、この水溶性多価アルコールは
組成物に単独、又は２種以上共存しても差支えない。こ
れらの中では一般式（２）のｎ＝４のソルビトール、ま
たはイノシトニルが選択分離性、透過性の良好な膜を与
えるので好ましい。
組成物に単独、又は２種以上共存しても差支えない。こ
れらの中では一般式（２）のｎ＝４のソルビトール、ま
たはイノシトニルが選択分離性、透過性の良好な膜を与
えるので好ましい。
本発明において、不溶化触媒とはｉｓ、リン酸、ｍ１１
等の無機酸及びＰ−トルエンスルボン酸等の有ｌｌＩ酸
等が用いられる。
等の無機酸及びＰ−トルエンスルボン酸等の有ｌｌＩ酸
等が用いられる。
本発明の高透過性半透性複合膜は多孔性支持体の上にポ
リビニルアルコール及び／又はポリ酢酸ビニル部分ケン
ん化物及び水溶性多価アルコール及び不溶化触媒を主成
分として含有する水及び又は低級アルコール溶液（ＩＸ
下総称して組成物と略称する。）を塗布し、ついで架橋
反応を行ない不溶性の薄膜層を形成することによって得
られる。
リビニルアルコール及び／又はポリ酢酸ビニル部分ケン
ん化物及び水溶性多価アルコール及び不溶化触媒を主成
分として含有する水及び又は低級アルコール溶液（ＩＸ
下総称して組成物と略称する。）を塗布し、ついで架橋
反応を行ない不溶性の薄膜層を形成することによって得
られる。
本発明の高透過性複合半透膜を得る組成物の各成分の濃
度はポリ酢酸ビニル部分ケン化物及び／又はポリビニル
アルコールが０．０１〜３重量％、好ましくは０．０５
〜２重母％であり、水溶性多価アルコールが０．５〜１
０ｉａｆｆｉ部、好ましくは１〜５重量％であり、また
不溶化触媒が０．０５〜１０重量％、好ましくは０．１
〜５重量％加えられる。さらに、組成物が多孔性支持体
表面に濡れ性を向上させ、均一に付着させるために界面
活性剤を加えると効果があり、中でもアニオン系の界面
活性剤が好ましい。界面活性剤としては０゜０１〜２重
量％で場合によっては除いても差支えない。これらの組
成物には多孔性支持体を劣化させない水溶性有機溶剤を
加えてもよい。
度はポリ酢酸ビニル部分ケン化物及び／又はポリビニル
アルコールが０．０１〜３重量％、好ましくは０．０５
〜２重母％であり、水溶性多価アルコールが０．５〜１
０ｉａｆｆｉ部、好ましくは１〜５重量％であり、また
不溶化触媒が０．０５〜１０重量％、好ましくは０．１
〜５重量％加えられる。さらに、組成物が多孔性支持体
表面に濡れ性を向上させ、均一に付着させるために界面
活性剤を加えると効果があり、中でもアニオン系の界面
活性剤が好ましい。界面活性剤としては０゜０１〜２重
量％で場合によっては除いても差支えない。これらの組
成物には多孔性支持体を劣化させない水溶性有機溶剤を
加えてもよい。
多孔性支持体へ組成物の被覆には公知の塗布手段いずれ
も適用可能であり、例えば、多孔性支持体の上に組成物
をコーティングする方法、多孔性支持体を組成物に浸潤
層る方法などがあげられる。
も適用可能であり、例えば、多孔性支持体の上に組成物
をコーティングする方法、多孔性支持体を組成物に浸潤
層る方法などがあげられる。
これらのうち、組成物をコーティングづる方法は多孔性
支持体の片面に均一に被覆され、また作業性も好ましい
。多孔性支持体を組成物に浸漬する方法で行なう場合に
は予め多孔性支持体の他の片面に組成物がイリ着しない
ような手段をとることが望ましい。この場合には余分な
組成物を除去づるための液切り工程を設けるのが好まし
い。液切りの方法としては例えば膜面を垂直方向に保持
して自然流化させる方法等がある。
支持体の片面に均一に被覆され、また作業性も好ましい
。多孔性支持体を組成物に浸漬する方法で行なう場合に
は予め多孔性支持体の他の片面に組成物がイリ着しない
ような手段をとることが望ましい。この場合には余分な
組成物を除去づるための液切り工程を設けるのが好まし
い。液切りの方法としては例えば膜面を垂直方向に保持
して自然流化させる方法等がある。
被覆した多孔性支持体は加熱乾燥器等を用いて、通常５
０℃〜１５０℃の範囲、時間はその方法つまり熱の導入
法又は乾燥器の形式によって、乾燥速度が異なるので、
それらに合せて１〜６０分間の範囲で選択する。この熱
処理によって組成分は不溶化し、多孔性支持体上にｌ膜
を形成する。
０℃〜１５０℃の範囲、時間はその方法つまり熱の導入
法又は乾燥器の形式によって、乾燥速度が異なるので、
それらに合せて１〜６０分間の範囲で選択する。この熱
処理によって組成分は不溶化し、多孔性支持体上にｌ膜
を形成する。
このようにして得られた高透過性複合半透膜はこのまま
でも使用できるが、後処理どして膜中に残存する不溶化
触媒の無機酸、右ｍＷの洗浄及び反応で生成した酸性基
中和等のためアルカリ性の水溶液中に浸漬し、続いて水
洗した後使用することも可能である。このようにして得
られた高透過性半透性複合膜はこのままでも使用できる
が、半透性複合膜の活性層の表面は保護ポリマフィルム
で被覆づることができ、保護フィルムを被覆することは
実用上望ましい。活性層表面上への保護フィルムの被覆
は乾燥した半透性複合膜の表面を保護フィルムでのポリ
マ溶液で塗布した後、乾燥することによって行なわれる
。このようなポリマの例としては、たとえばポリビニル
アルコール、ポリアクリル酸、ポリビニルピロリドン、
あるいはポリアクリルアミドのような水溶性ポリマが挙
げられ、中でもポリビニルアルコールが好ましい。
でも使用できるが、後処理どして膜中に残存する不溶化
触媒の無機酸、右ｍＷの洗浄及び反応で生成した酸性基
中和等のためアルカリ性の水溶液中に浸漬し、続いて水
洗した後使用することも可能である。このようにして得
られた高透過性半透性複合膜はこのままでも使用できる
が、半透性複合膜の活性層の表面は保護ポリマフィルム
で被覆づることができ、保護フィルムを被覆することは
実用上望ましい。活性層表面上への保護フィルムの被覆
は乾燥した半透性複合膜の表面を保護フィルムでのポリ
マ溶液で塗布した後、乾燥することによって行なわれる
。このようなポリマの例としては、たとえばポリビニル
アルコール、ポリアクリル酸、ポリビニルピロリドン、
あるいはポリアクリルアミドのような水溶性ポリマが挙
げられ、中でもポリビニルアルコールが好ましい。
これらのポリマは一般に０．５−１０１量％の水溶液と
して使用されるのが好ましい。また、その被覆方法は浸
漬法だけに限定されるものではなく、噴霧法やハケ塗布
した半透性複合膜を熱風乾燥機中で乾燥する。その乾燥
茶イ′４は一般に６０〜１２０℃の範囲の温度で２〜１
０分間乾燥するのが良好である。
して使用されるのが好ましい。また、その被覆方法は浸
漬法だけに限定されるものではなく、噴霧法やハケ塗布
した半透性複合膜を熱風乾燥機中で乾燥する。その乾燥
茶イ′４は一般に６０〜１２０℃の範囲の温度で２〜１
０分間乾燥するのが良好である。
本発明の高透過性複合半透膜は、液状の混合物の成分を
透過分離するだめの製造に関づるものであり、特に用途
としてカン水を脱燻し″（淡水化′することができる。
透過分離するだめの製造に関づるものであり、特に用途
としてカン水を脱燻し″（淡水化′することができる。
更には、半導体の製造で予信に使用される超純水の製造
に用いられる。
に用いられる。
主成分として水溶性多価アルコールを加えない、従来カ
ラ知うレ（’ イル方法（１：（１７ｔｌ ＩＩＦｉ
ｂ ’ｌ ９５９８２号）では低圧にＪ３ける水通過速
度が極めて低く、低圧Ｃ高゛透過性速度を（ｑることが
困難であったが、本発明においては主成分どして水溶性
多価アルコールを加えることによって、その透過性能が
飛躍的に向上した。この複合半透膜は低圧で高透過性能
を示し、耐塩素性に優れているばかりでなく、機械的強
度、耐熱性にも優れている。また、低沸点あるいは高価
な有機溶剤を用いないのでお製造工程におい−Ｃ有害な
溶剤蒸気が発生しない。
ラ知うレ（’ イル方法（１：（１７ｔｌ ＩＩＦｉ
ｂ ’ｌ ９５９８２号）では低圧にＪ３ける水通過速
度が極めて低く、低圧Ｃ高゛透過性速度を（ｑることが
困難であったが、本発明においては主成分どして水溶性
多価アルコールを加えることによって、その透過性能が
飛躍的に向上した。この複合半透膜は低圧で高透過性能
を示し、耐塩素性に優れているばかりでなく、機械的強
度、耐熱性にも優れている。また、低沸点あるいは高価
な有機溶剤を用いないのでお製造工程におい−Ｃ有害な
溶剤蒸気が発生しない。
また、熱処理温度等を厳格にコン１−１］−ルづる必要
もなく、容易に高透過性半透性複合膜を製造することか
できるものである。
もなく、容易に高透過性半透性複合膜を製造することか
できるものである。
次の実施例において、選択分離性能として、硫酸マグネ
シウムの排除率は電気伝導度の測定による通常の手段に
よって決定された。また、透過性能として、水通過速度
は単位面積、単位時間当りの水の透過量で決定した。
シウムの排除率は電気伝導度の測定による通常の手段に
よって決定された。また、透過性能として、水通過速度
は単位面積、単位時間当りの水の透過量で決定した。
参考例１
多孔性支持体の製造：
タテ３０ＣＩｌ１１ヨコ２０ＣＩ＋の大きさのポリエス
テル繊維からなるタフタ（タテ糸、ヨコ糸とも１５０デ
ニールのマルチフィラメント糸、密度タテ９０本／イン
チ、ヨコ６７本／インチ、厚さ１６０μ）をガラス板上
に固定し、その上にポリスルホン（ニ）−ＸＡン・カー
バイド社製のＵｄｅｌＰ ＝３５００ ）の’Ｉ ６
Ｕ ＦＢ％ジメチル１１＼ルムアミド（ＤＭＦ）溶液を
２００μの厚みで室温く２０℃）でキせストし、直ちに
純水中に浸漬して５分間放置づることによつ−Ｃ，繊維
補強ポリスルｉトン支持体く以上Ｆ Ｒ−Ｐ Ｓ支持体
と略？ｌ）を作成づる。このようにし’Ｃ４Ｅ１られた
Ｆ Ｒ−ＰＳ支持体く厚さ２１０−２１５μ）の純水透
過係数は、圧力ｔｋｑ／ｄ１淘度２５゛Ｃで測定しＵ、
０．００５−・０．０１ｇ ７（ｙ−ｓｅａ−ａｔｍで
あった。
テル繊維からなるタフタ（タテ糸、ヨコ糸とも１５０デ
ニールのマルチフィラメント糸、密度タテ９０本／イン
チ、ヨコ６７本／インチ、厚さ１６０μ）をガラス板上
に固定し、その上にポリスルホン（ニ）−ＸＡン・カー
バイド社製のＵｄｅｌＰ ＝３５００ ）の’Ｉ ６
Ｕ ＦＢ％ジメチル１１＼ルムアミド（ＤＭＦ）溶液を
２００μの厚みで室温く２０℃）でキせストし、直ちに
純水中に浸漬して５分間放置づることによつ−Ｃ，繊維
補強ポリスルｉトン支持体く以上Ｆ Ｒ−Ｐ Ｓ支持体
と略？ｌ）を作成づる。このようにし’Ｃ４Ｅ１られた
Ｆ Ｒ−ＰＳ支持体く厚さ２１０−２１５μ）の純水透
過係数は、圧力ｔｋｑ／ｄ１淘度２５゛Ｃで測定しＵ、
０．００５−・０．０１ｇ ７（ｙ−ｓｅａ−ａｔｍで
あった。
比較例１
ポリビニルアルコールく日本合成化学二「−業株式会社
製、Ｋ ｌ−１−２０、クン化僚７８，５〜８１゜５モ
ル％）０．２重曜％、硫ｖ３重量％を加えた水溶液を参
考例１に記載したポリスルボン支持体の上面に注ぎ２分
間含浸ざけ、室温で１分間垂直 ′に保持して液切りを
行ない、その後そのままの状態で熱風乾燥器に入れ、１
２０℃、１０分間熱処理を行なった。このようにして得
られた高透過性複合半透膜を０．２重量％硫酸マグネシ
ウム水溶液、圧力２０に’ｔ／ｃｄ、 ’／Ｑａ ２５
℃の条件下で逆浸透試験を行なったところ、２４時間後
に水通過速度は０．１ｍ’／ｍ２・日、硫酸マグネシュ
ウムの排除率は９５．５％であった。極めて透過水量が
少ない。
製、Ｋ ｌ−１−２０、クン化僚７８，５〜８１゜５モ
ル％）０．２重曜％、硫ｖ３重量％を加えた水溶液を参
考例１に記載したポリスルボン支持体の上面に注ぎ２分
間含浸ざけ、室温で１分間垂直 ′に保持して液切りを
行ない、その後そのままの状態で熱風乾燥器に入れ、１
２０℃、１０分間熱処理を行なった。このようにして得
られた高透過性複合半透膜を０．２重量％硫酸マグネシ
ウム水溶液、圧力２０に’ｔ／ｃｄ、 ’／Ｑａ ２５
℃の条件下で逆浸透試験を行なったところ、２４時間後
に水通過速度は０．１ｍ’／ｍ２・日、硫酸マグネシュ
ウムの排除率は９５．５％であった。極めて透過水量が
少ない。
実施例１
ポリビニルアルコール（Ｄ本合成化学工業株式会社製の
Ｋ Ｈ−２０、ケン化度７８．５〜８１゜５℃ル％＞０
．２ｉｕｌｉ％、イノシ＋−−ル３ｍｍ％、硫酸３重Ｍ
％を加えた組成物を参考例１に記載したポリスルホン支
持体の上面に注ぎ、２分間含浸さＵ、室温で１分間垂直
に保持した後、そのままの状態で熱風乾燥器に入れ、１
２０℃、１０分間乾燥を行なった。このようにし−τ得
られた高透過性複合半透膜に０．２重量％硫酸マグネシ
ウム水溶液、圧力２０ｋｇ／ｃ＆、温度２５°Ｃの条件
で逆浸透試験を行なったところ、２４時間後に透過速度
は１．１ＴＩ＋’／−・日、硫酸マグネシウムの排除率
は９９．５％であった。引き続き１０−０時間の連続運
転を行なったが、膜性能低下は認められなかった。
Ｋ Ｈ−２０、ケン化度７８．５〜８１゜５℃ル％＞０
．２ｉｕｌｉ％、イノシ＋−−ル３ｍｍ％、硫酸３重Ｍ
％を加えた組成物を参考例１に記載したポリスルホン支
持体の上面に注ぎ、２分間含浸さＵ、室温で１分間垂直
に保持した後、そのままの状態で熱風乾燥器に入れ、１
２０℃、１０分間乾燥を行なった。このようにし−τ得
られた高透過性複合半透膜に０．２重量％硫酸マグネシ
ウム水溶液、圧力２０ｋｇ／ｃ＆、温度２５°Ｃの条件
で逆浸透試験を行なったところ、２４時間後に透過速度
は１．１ＴＩ＋’／−・日、硫酸マグネシウムの排除率
は９９．５％であった。引き続き１０−０時間の連続運
転を行なったが、膜性能低下は認められなかった。
実施例２
実施例１で１５ノた＾透過性複合半透膜をＰ ｌ−１６
、塩素濃度（塩素濃度測定はＪＩＳ Ｋ０１０１法によ
る）１００ｐｐｍの水溶液に３１］間浸漬し、浸漬前後
の逆浸透性能を実施例１の条（’４で評価した。
、塩素濃度（塩素濃度測定はＪＩＳ Ｋ０１０１法によ
る）１００ｐｐｍの水溶液に３１］間浸漬し、浸漬前後
の逆浸透性能を実施例１の条（’４で評価した。
浸漬前の複合半透膜の水透過速度は’Ｉ 、 Ｉ Ｔｌ
１ｉ／Ｔ１１２・日、硫酸マグネシウムの排除率は９９
．３％であり、浸漬後は水透過速度は１．１ｔｎ’／ｌ
ｎ２・日、排除率は９９．２％であり、極めて耐塩素性
に優れていた。
１ｉ／Ｔ１１２・日、硫酸マグネシウムの排除率は９９
．３％であり、浸漬後は水透過速度は１．１ｔｎ’／ｌ
ｎ２・日、排除率は９９．２％であり、極めて耐塩素性
に優れていた。
実施例３
ポリビニルアルコール（日本合成化学工業株式会社製の
ＧＭ−１４−Ｌ、ケン化度８６．５〜８９モル％）０．
３重量％、ソルビトール２重量％、イノシトール２重量
％、硫酸３重量％を加えた水溶液を参考例１に記載した
ポリスルホン支持体上面に注ぎ、１分間含浸させ、室温
で１分間垂直に吊して保持した後そのままの状態で熱風
乾燥器に入れ、１３０℃、５分間乾燥を行なった。この
ようにして得られた複合半透膜を実施例１の逆浸透条件
で評価した。水透過速度は１．２ｍ’／ｍ２・日、排除
率は９８．０％であった。さらに引き続き、塩素濃度６
ｐｐｍ 、Ｐ ｌ−１６に保ち、１００時間に連続運
転を行なったが、膜性能低下は認められなかった。
ＧＭ−１４−Ｌ、ケン化度８６．５〜８９モル％）０．
３重量％、ソルビトール２重量％、イノシトール２重量
％、硫酸３重量％を加えた水溶液を参考例１に記載した
ポリスルホン支持体上面に注ぎ、１分間含浸させ、室温
で１分間垂直に吊して保持した後そのままの状態で熱風
乾燥器に入れ、１３０℃、５分間乾燥を行なった。この
ようにして得られた複合半透膜を実施例１の逆浸透条件
で評価した。水透過速度は１．２ｍ’／ｍ２・日、排除
率は９８．０％であった。さらに引き続き、塩素濃度６
ｐｐｍ 、Ｐ ｌ−１６に保ち、１００時間に連続運
転を行なったが、膜性能低下は認められなかった。
特許出願人 東 し 株 式 会 社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （リ 多孔性支持体の上に、 ■ポリビニルアルコール及び／又はポリ酢酸ビニル部分
ケン化物、 ◎水溶性多価アルコール、 ■不溶化触媒 を主成分どして含有する水及び／又は低級アルコール溶
液を塗布し、架橋反応を行ない不溶性の薄膜層を形成す
ることを特徴とする高透過性半透性複合膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035886A JPS60183009A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 高透過性半透性複合膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035886A JPS60183009A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 高透過性半透性複合膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60183009A true JPS60183009A (ja) | 1985-09-18 |
Family
ID=12454498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59035886A Pending JPS60183009A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 高透過性半透性複合膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60183009A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0274387A2 (en) * | 1987-01-08 | 1988-07-13 | Filmtec Corporation | Alkali resistant hyperfiltration membrane |
| KR100239137B1 (ko) * | 1997-05-17 | 2000-01-15 | 김충섭 | 복합막 형태의 나노필터 분리막의 제조방법 |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP59035886A patent/JPS60183009A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0274387A2 (en) * | 1987-01-08 | 1988-07-13 | Filmtec Corporation | Alkali resistant hyperfiltration membrane |
| KR100239137B1 (ko) * | 1997-05-17 | 2000-01-15 | 김충섭 | 복합막 형태의 나노필터 분리막의 제조방법 |
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