JPS60181066A - 含フツ素及び含イオウα,β−不飽和カルボニル化合物及びその製造方法 - Google Patents

含フツ素及び含イオウα,β−不飽和カルボニル化合物及びその製造方法

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JPS60181066A
JPS60181066A JP3838084A JP3838084A JPS60181066A JP S60181066 A JPS60181066 A JP S60181066A JP 3838084 A JP3838084 A JP 3838084A JP 3838084 A JP3838084 A JP 3838084A JP S60181066 A JPS60181066 A JP S60181066A
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compound
carbonyl compound
sulfur
formula
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Nobuo Ishikawa
延男 石川
Tomoya Kitatsume
智哉 北爪
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Daikin Industries Ltd
Daikin Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は含フッ素及び含イオウα、β−不飽和カルボニ
ル化合物及びその製造方法に関するものである。
近年、含フツ素化合物は医薬、農薬、各種表面処理剤等
として様々な分野で非常に注目されている。 しかしな
がら、1つの重大な問題点として、どのようにしてフッ
素を分子内の目的とする位置へ選択的に導入するかであ
るが、これまでそうしたフッ素の選択的導入を容易かつ
高収率で行なえる方法は殆んど知られていない。
本発明の目的は、上記の問題点を解消し、フッ素を目的
とする位置に有し、かつフッ素を他の化合物の分子中に
組込むことを可能ならしめるビルディングブロックとし
て有用なα、β−不飽和カルボニル化合物及びその製造
方法を提供することKある。
即ち、本発明は、 (但、R1及びR2は置換基を有していてもよい脂肪族
又は芳香族基である。) で表わされることを特徴とする含フッ素及び含イオウα
、β−不飽和カルボニル化合物に係るものである。
本発明はまた、上記不飽和カルボニル化合物を収率良く
得る方法として、 一般式: %式% (但、R1は置換基を有していてもよい脂肪族又は芳香
族基、Xは塩素原子等のハロゲン原子である。) で表わされる含フツ素カルボニル化合物のハロケン化物
と、 一般式: (但、R2は置換基を有していてもよい脂肪族又は芳香
族基である。) で表わされるメルカプタンとを反応させることによって
、 (但、R”及びR2は前記したものと同じである。) で表わされる含フッ素及び含イオウカルボニル化合物を
得、この含フッ素及び含イオウカルボニル化合物からフ
ッ化水素を脱離せしめて、(但、R1及びR2は前記し
たものと同じである。) で表わされる含フッ素及び含イオウα、β−不飽和カル
ボニル化合物を得ることを特徴とする含フッ素及び含イ
オウα、β−不飽和カルボニル化合物の製造方法も提供
するものである。
本発明において、上記含フッ素及び含イオウα。
β−不飽和カルボニル化合物の一般式中、R”、R2と
してはメチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基
、ブチル基及びイソブチル基等のアルキル基等が挙げら
れるが、いずれも炭素原子数8以下の直鎖アルキル基が
望ましい。 R2は更に、アルキル基以外にフェニル基
等の芳香族基であってよい。 また、R”、R”にはハ
ロゲン原子等の置換基が導入されていてもよい0 この含フッ素及び含イオウα、β−不飽和カルボニル化
合物は、後記する如く、モノフルオロ化合物のビルディ
ングブロックとして有用なα−フルオロ−α、β−不飽
和カルボン酸チオエステル、β−フルオロアリルアルコ
ール等の含フツ素化合物を得るのに有効なものである。
また、この不飽和カルボニル化合物を得るだめの本発明
の方法において、上記含フツ素カルボニル化合物のハロ
ゲン化物と上記メルカプタンとの各一般式中、R1及び
R2は上記したものと同じである。 これらのハロゲン
化物とメルカプタンとの反応はトリエチルアミン等の塩
基の存在下で行なうと、好収率(例えば96チの単離収
率)で上記した含フッ素及び含イオウカルボニル化合物
を得ることができる。
更に1このカルボニル化合物から脱フツ化水素によって
目的とする含フッ素及び含イオウα、β−不飽和カルポ
ニル化合物に導びくには、トリエチルアミン等の塩基を
メタノール、エタノール、プロパツール、インプロパツ
ール等のアルコール溶媒中で作用させる仁とが望ましい
。 これは、脱離するフッ化物イオン(Fo)がアルコ
ールの水酸基による溶媒和で安定化され、HFの脱離が
効率良く生じるからであると考えられる。 これに反し
、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中で
トリエチルアミンを作用させると全く脱HFが起らず、
また塩基としてNaOH水溶液やNaHCOs水溶液を
用いると対応する不飽和カルボニル化合物は低収率でし
か得られない(不飽和カルボニル化合物が更に加水分解
されてβ−ケトカルボン酸が生成するためと考えられる
。)ことが確認されている。
次に、本発明を更に具体的に説明する。
まず、下記の公知の方法に従って、トリフルオロエテン
のフリーテルク2フッアシル化によシ4−クロロ−3,
4,4−)リフルオロ−2−ブタノン(CH5C(0)
 CHFCFs CJ−) ”を合成する。
CH,C(0)(J CP*=CHF AJCJn CHsC(0)CHFC
Fs(Jこのブタノン1を次式に従って、トリエチルア
ミンの存在下、ジクロルエタン中でチオフェノール(P
hSH)2と反応させ、付加体である4−フェニルチオ
−3,4,4−)リフルオロ−2−ブタンンユを合成す
る。
CHsC(0) CHFCF2 cz + Ph SH
土 互 (単離収率96チ) + CHsC(0) CF = CFSPh^ この反応においては、上が一旦次の中間生成物島となシ
、これにPh SHが速やかに付加して互が得られ、同
時に脱HFによp4も副生される。
CHs C(0) CHFCF2= C2口 2十Ph5H−→4+− この反応は次式の如くに一般的に表わせる。
R”C(0)CHFCFs(J + R”SHユ 正西社ヱヨ些へR’C(0)CHFCF、SR”旦 + R” C(0) CF = CFSR”土 上記に得られた付加体王を下記表−1にまとめて示す。
表−1 CtHs−Ph5H903>99% −95〜9610
.7*未単離 とれらの付加体のNMR及びIRスペクトルを下記表−
2に示す。
次に、上記の付加体3i対しアルコール溶媒(例えばイ
ンプロパツール)中でトリエチルアミンを作用させ、次
式の如くに2−フェニルチオー12−ジフルオロエチニ
ルケトン土′を合成する。
CHsC(0) CHFCF2 SPh且 1′ とのfは、上記した土と同じ構造を有するものであるが
、上記至が且の合成と同時に脱HF化して得られるのに
対し、ここでは王から更に効率良く脱HF化によh 4
/を合成することができる。
この脱HF反応は次式で一般的に表わせる。
R”C(0)CHFCF2 SR” 旦 この反応では、旦から脱離するF0アニオンがアルコー
ルの水酸基による溶媒和で安定化されるので、HFの脱
離が充分に生じるものと考えられる。 アルコールとし
てメチルアルコールを用いた場合もfが好収率で得られ
る。
上記に得られたケトン(ビニルケトン) 4/を下記表
−3に示す。
表−3 CHs Ph 96 25/75 B1へ9510.2
CJs Ph 98 30/70 90〜10510.
5なお、上記ユから土(又はf)を合成する一連のプロ
セスは中間生成吻合取出すことなくワンポット(one
 −pot )で進行させることができる。
例えば、1に対し主を等量使用すればよい。
次に、上記のケトン土(又はf)から種々の含フツ素有
機化合物を誘導する例を説明する。
まず、このケトンをグリニヤール試薬(R”MgX)と
次のように反応させると、対応する各°カルビノール互
が下記表−4の如くに収率良く得られる。
R’C(0)CF=CFSR”+R”MgX表−4 CHs Ph −CL (CJa)*0 98CHs 
Ph −CJs (CJs)*0 98CHs Ph−
C2H11−テトラヒトセフラン 48CHs Ph 
−i C5Ht (C*Hs)to 58CHs Ph
−Ph−テトラヒトしηア′ラン 96CtHm Ph
−CHs (CJs)*0 98C*Hs Ph−CJ
s (CJs)io 98*”FNMR収率(外部標準
: PhCFs )また、ケトン土は水素化ホウ素ナト
リウムによシ次式のように還元され、カルビノールΣ′
が好収率で得られる(R”=H)。
R”C(0) CF = CFSR” h 旦′ 得られた各カルビノール旦′を下記表−5に示す。
表−5 CHa Ph−95) 98 CJs Ph−90〉98 上記に得られた各種のカルビノール互及びΣ′の分析デ
ータを下記表−6、表−7にまとめて示す。
表−6 表−7 二]] □ ・1 次に、上記のカルビノール!及び旦′を用い、α−フル
オロ−α、β−不飽和カルボン酸チオールエステルを合
成できる。 即ち、カルビノールを100〜200°C
(例えば130〜150°C) K加熱するか、或いは
触媒量の鉱酸(例えば濃硫酸)を加えると、次式の如く
にα−フルオロ−α、β−不飽和カルボン酸チオエステ
ル旦が副生成物ユと共に得られる。
得られた各種チオエステル!及び副生成物ヱを下記表−
8にまとめに示す。
(以下余白、次頁に続く) 表−8 *単離状s、0内は”F NMR収率(外部標準:Ph
CFi)また、各種チオエステル見及び副生成物ヱの分
析データを下記表−9及び表−9′に示す。
(以下余白、次頁に続く) 次に、上記のチオールエステル亙を水素化ホウ素ナトリ
ウムで還元すると、次式のように対応す得られた種々の
アリルアルコール見を下記表−=10、表−11にまと
めて示す。 1 表−1011■ CHa CHs 36(85) −62〜72/48C
Hs i CsL 57(82) 32/68 70〜
73/21CHs Ph ’ 81 (97) 11 
/89*単離収率、()内は”FNMR収率 (外部標準: PhCFs ) 上記したチオールエステル且はまた、上記のアリルアル
コール旦以外にも他の有用な含フツ素化金物に導びくこ
とができる。
例えば、次式のように、アルコキシドと反応させると、
容易にエステル交換を生じ、対応するエステル旦が好収
率で得られる。
旦 (単離収率80%) 更に、チオールエステル旦は、その分子内の不飽和結合
の存在によって対応する環状化合物、特にヘテロ環化合
物に導ひくとともできる。
次に、本発明の具体的な実施例を説明するが、下記の実
施例は本発明を限定するものではなく、その技術的思想
に基いて種々に変形することができる。 なお、以下の
実施例においては、1HNMR性トリメチルシランを内
部標準とし、かつCCtaを溶媒として用いた。 ”F
NMRはトリフルオロ酢唆を外部標準とし、通常の場合
は無溶媒で測定し先。
〈実施例〉 200−のナス屋フラスコに4−クロロ−3,4゜4−
トリフルオロ−2−ブタノン803り(sommol)
、チオフェノール5.51f (50n11rDl)及
び塩化メチレン70tntを入れ、水浴を用いて冷却し
ながらトリエチルアミンs、o6f(sommol)を
塩化メチレン30−でうすめて滴下した。 滴下後、水
浴をはずし、室甚で30分間攪拌したのち水を加え、分
液した。
汁液した塩化メチレンをIN塩酸で洗い、さらに水で2
〜3回洗ったのち硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した
。 塩化メチレンを除去したのち蒸留して、4−フェニ
ルチオ−3,4,4−トリフルオロ−2−ブタノンCH
sC(0)CHFCF*SP h 11.1? ?(4
smmol )を得た。これは、収率96チ、沸点Bp
78〜80°C10,6mmHg %質量分析234(
親ピーク)であった。 NMR1IRスペクトルは既述
した通シであった。
上の方法に準じた。 生成物の質量分析は248(親ピ
ーク)であった。
100−のナス型フラスコに4−フェニルチオ−3,4
,4−トリフルオロ−2−ブタノン7.02f(30、
Ommol)及び2−グロパノール50rntを入れ、
水浴を用いて冷却しながらトリエチルアミン3.03f
(30mmol)を加えた。水浴をはずして室温で3時
間攪拌したのち、反応溶液を水にあけ、エーテルで抽出
した。 さらにIN塩酸、水(2回)で洗りたのち硫酸
iグネシウム(無水)で乾燥し、溶媒を除去したのち蒸
留して、1,2−ジフルオロ−1−フェニルチオ−1−
ブテン−3−オン6.14F(28,7mmol)を得
た。 この収率は96%、Bp81〜95°C10,2
mmHg (E/Z =2/3) 、質量分析214(
親ピーク)であった。 NMR1IRスペクトルは既述
した通シであった。
上の方法に準じた。 生成物の質量分析は228(親ピ
ーク)であった。
〈応用例〉 ここでは例として、1,2−ジフルオロ−1−フェニル
チオー1−ブテン−3−オンとヨウ化メチルマグネシウ
ムとの反応について示すが、他のものについても同様な
実験を行なっ゛た。 ミードメタン4.26f (30
mmol) 、金属マグネシウム0.80f(3317
1g −atom)、乾燥エーテル50−から合成した
MeMgIに、水浴を用いて冷却しなから1,2−ジフ
ルオロ−1−フェニルチオ−1−ブテン−3−オy 4
.28f (20,Ommol )をエーテル10−で
うすめてゆっくシ滴下した。 滴下後、水浴中で30頒
攪拌したのち、反応溶液を飽和の塩化アンモニウム溶液
にあけ、エーテルで抽出した。 硫酸マグネシウム(無
水)で乾燥したのち工=チルを除去し、カラムクロマト
グラフ法(展開溶媒は1チのトリエチルアミンを加えた
n−ヘキサン−エーテル)によシ単離し、カルビノール
(CHs)z C−(OH)CF=CFSPh 4.5
1 f (19,6mmol )を得た(収率98%)
0 ここでは例として、CH3CH2C(CHI) =CF
C(0)SPhの合成について示すが、他のものについ
ても同様な実験を行なった。 方法については、既述し
た加熱によるものと濃硫酸添加によるものとの2つの方
法のいずれかを用いた。
方法(11: 50mAナス型フラスコにカルビノール
EtMeC(OH)CF=CFSPh 2.44 f 
(10,0mmo l)を入れ、空冷管をつけ、無溶媒
で、油浴を用いて120〜140’Cまで加熱した(反
応が起こると、HFが発生し、数秒間で完結し溶液は黒
色になった。)。
マグネシウム(無水)で乾燥した。 これをカラムクロ
マトグラフ法(展開溶媒は1チのトリエチルアミンを加
えたn−ヘキサン−エーテル)によ −シ単離し、純粋
なEtMeC=CFC(0)SPh 1.9t ?(8
,5mmo l )を得た(収率85%、E /z= 
31 /69)。
方法(2):50tn1.ナス型フラスコにカルビノー
ルEtMeC(OH) CF=CFSPh 2.44 
f (tO,Ommo l)を入れ、無溶媒のままこれ
に濃硫酸を1滴加えた(瞬時に反応は完結し、黒色とな
、9、HFが発生した)。
これにトリエチルアミy3.0j(30mmol)、n
−ヘキサン30tdを加えたのち、塩を濃過し、硫酸マ
グネシウム(無水)で乾燥した。n−ヘキサンを留去し
たのち、カラムクロマトグラフ法によシ単離し、純粋な
EtMeC=CFC(0) SPh 1.57 f (
7,Ommol)を得た(収率70%、E/Z=39/
61)。
NMR,IRスペクトルは既述した通シであった。
質量分析(親ピーク)は、Me−C= CFC(0) 
5Ph210、PhMeC=CFC(0)SPh 27
2、EtMeC=CFC(0) SPh 224、i 
−PrMeC=CFC(0) SPh 23B、i −
PrMeC(OH) CF=C(SPh)Pr −i 
264 、PhMeC”=CFCFzSPh 294で
あった。
よる還元 50−ナス型フラスコにNa−BH,0,19f(5m
mol)、エタノール10−を入れ、水浴を用いて冷却
しながら1.2−ジフルオロ−1−フェニルチオ−1−
プテンー3−オy 2.14 y (10,Ommol
)を加えた。
そのまま水浴で1時間攪拌したのち、IN塩酸を加え、
反応を停止させた。 エーテルで抽出し、硫酸マグネシ
ウム(無水)で乾燥したのち溶媒を除去し、カラムクロ
マトグラフ法(1チのトリエチルアミンを加えたn−ヘ
キサン−エーテルを展開溶媒とした)によ)単離し、純
粋なCHs CH(OH)−−CF−CFSPh 2.
12 f (9,8mmol)を得た(収率98%)0 による還元 上の方法に準じた。
水素化ナトリウム0.29 t (12mmol)、乾
燥メタノールo、asr (12mmol)及び乾燥エ
ーテル2〇−よジナトリウムメトキシドをつ<シ、これ
に水浴を用いて冷却しなから2−フルオロセネシオン酸
チオールエステル(Me*C=CFC(0)SPh) 
2.10 f(to、ommol)を乾燥エーテル5−
でうすめて滴下した。 滴下後、水浴をはずし、室温で
1時間攪拌したのち、IN塩酸にあけてエーテルで抽出
した。 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥し、エーテル
を除去したのち、カラムクロマトグラフ法によ多単離し
て、純粋な2−フルオロセネシオン酸メチル1.12f
 (8,5mmol)を得た(収率85チ)。
上の方法に準じた。
11虹 ここでは2−フルオロセネシオン酸チオールエステル(
MesC=CFC(0) 5Ph)の場合について示す
が、他の2渚についても同様に実験を行なった。
501n1.ナス型フラスコに水素化ホウ素ナトリウム
0.45 f (12mmol)及びエタノール1om
tを入れ、水浴で冷却しながらMe*C=CFC(0)
SPh z、1o f(io、ommol)を加えた。
 そのまま水浴で2時間攪拌したのち、IN塩酸を加え
、反応を停止させた。 これをエーテルで抽出し硫酸マ
グネシウム(無水)で乾燥し、溶媒を除去したのち蒸留
して(CHs)zc = CFCH20HO,37t 
(3,6mmo l )を得た(Bp−69〜72°c
、/ssmmHgs収率36チ)。
また、この生成物のNMRスペクトルは既述した通シで
あり、IR(シo−H)はMe i −Pr C=CF
CH*OH: 3350、PhMe C= CFCHx
OH3400、Me* C=CFCHzOH: 335
0 ((Ml ”)でh−vた0ここではアセトンのエ
ルレートの場合について示すが、アセトフェノンのニレ
ノートについても同様に実験を行なった。
ジイソプロピルアミン4.2mA (3,03F、3o
mmol)と1.fi Mn −BuLi /ヘキサン
180−よジリチウムN、 N−ジイソプロピルアミド
を合成し、これに乾燥テトラヒドロフラン40m1を加
えてアセトン−ドライアイス浴を用いて冷却した。 こ
れに乾燥アセトy 2.20m (1,7:14f、 
30mmol)をゆツ<シ加え、そのまま−78°Cで
30分間攪拌した0 この溶液に一78°Cで1,2−
ジフルオロ−1−フェニルチオ−1−ブテン−3−オフ
 4.2B? (20,Ommol)全乾燥テトラヒド
ロ72ン5−でうすめてゆつくシ加えた。 そのまま、
アセトンードライアイス浴中で5時間攪拌したのち、ク
ロロトリメチルシ塩を取シ除いたのち、溶媒を除去し、
カラムクロマトグラフ法(展開溶媒は1%のトリエチル
アミンを加えたn−ヘキサン−エーテル)によシ生成物
を単離し、純粋なCHsC(0) CHzC(O8i 
Me s )CHsCF=CFSPh 6.02F (
17,5mmol)を得た(収率88%)0の反応 100td 3ツロフラスコに水素化ナトリウム1.0
69(44mmol)及び乾燥テトラヒドロンラン40
tdを入れ、水浴を用いて冷却しながらマロン酸ジエチ
ル6.70m6(7,05グ、44mmol)を加え、
ソジオマロン酸ジエチルを合成した。 とれに、水浴を
用いて冷却しながら、CHaC(0)CF ’= CF
SP h 4.28 f(zo、ommol)を10m
eの乾燥テトラヒドロフランでうすめてゆりくシ加えた
のち、そのまま水浴中で3時間攪拌した。 この反応溶
液をIN塩酸にあけ、エーテルで抽出し、硫酸マグネシ
ウム(無水)で乾燥し、溶媒を除去したのち力2ムクロ
マトグラフ法によシ単離し、純粋なCHs C(0) 
CF =C(SPh)CH(COzEt)t 6.36
 y (18,0mmol)を得た(収率90%)。
の反応 乾燥ヘキサン10コ、ジインプロピルアミン4.5m7
!(3,25r132mmol)と1.t5 M n 
−BuLi /ヘキサン19.0−よジリチウムN、 
N−ジイソプロピルアミドを合成したのち、溶媒交換し
て乾燥テトラヒドロフラン30mgを入れた。これに、
水浴中、マロン酸ジエチル4.6O−(4,ssr、3
0 mmo l )を加え、リチオマロン酸ジエチルを
合成した。 これに、水浴中、CHsC(0)CF=C
FSPh4.2sり(20,0mrnol)を乾燥テト
ラヒドロンラン5−でうすめて加え、そのまま水浴中で
3時間攪拌した。 この反応溶液をIN塩酸にあけ、エ
ーテルで抽出し、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥し、
溶媒を除去したのち、カラムクロマトグラフ法によシ単
離し、純粋なCHaC(0)CF=C(SPh)CH(
Co□Et)、 4.94 f (13,9mmol、
収率70チ)を得た。さらに未反応CHsC(0)−−
CF=CFSPh O,66f (3,1mmol、収
率169J、8体のみ)を回収した。
50−ナス型フラスコに2−プロパツール20−、チオ
7xノー# 2.20 f (20,0mmo l )
及びCHaC(0)CF=CFSPh 4.28f (
20,0mmol)を入れ、室温でトリエチルアミン3
.o4y (30mmol)をゆっくり加えた。
室温で30分間攪拌したのち、水にあけ、エーテルで抽
出した。 IN塩酸、水で洗ったのち、硫酸マグネシウ
ム(無水)で乾燥し、溶媒を除去した0このとき析出し
た結晶を再結晶(n−ヘキサン:エーテル=10:1)
して、純粋な1,1−ビス(フェニルチオ)−2−フル
オロ−1−ブテン−3−オン4.69 t (1s、4
mmol)を得た(収率77チ、融点rap、 72〜
75°C)。
1、 2−ジフルオロ−1−フェニルチオ−1−プテン
ー3−オンhn−プロピルアミンとの反応ここてはn−
プロピルアミンとの反応について示すが、ジエチルアミ
ンとの反応も同様の実験を行なった。
50−ナス型フラスコにCH,C(0)CF=CFSP
h4.2st (26mmol)及び2−プロパツール
20−を入れ、水浴を用いて冷却しながられ一プロピル
アミン2.60 t (44mmol)をゆっくシ加え
た。 そのまま水浴中で30分間攪拌したのち、反応溶
液を5チ炭酸水素ナトリウム溶液にあけてエーテルで抽
出した。 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥し、溶媒を
除去したのち、カラムクロマトグラフ法(展開溶媒は1
%のトリエチルアミンを加えたn−ヘキサン−エーテル
)によシ単離し、純粋なCHsC−−Co)CF=C(
SPh)NHPr−n 4.85 f (’19.1m
mol)を得た。 生成物はエナミンCH,C(0)C
F=C(SPh)−−NHPr−nフ5チ、イミンCH
,C(0)CHFC(SPh)=NPr −n 25チ
の混合物であった。
1.2−ジフルオロ−1−フェニルチオ−1−ブテン−
3−オンとメタノールとの反応50tdナス型フラスコ
にCHaC(0)CF=CFSPh4.28 f (2
0,0mmo l) 、メタノール2〇−及びトリエチ
ルアミン3.o4t (30mmol)を入れ、ジムロ
ート冷却管をつけ、5時間還流させた。 反応溶液を、
室温にもどしてから水にあけ、エーテルで抽出した。 
さらにIN塩酸、水で洗ったのち、硫酸マグネシウム(
無水)で乾燥し、溶媒を除去したのち、カラムクロマト
グラフ法(展開溶媒は2%のトリエチルアミンを含むn
−ヘキサン−エーテル)によシ単離し、純粋なCH=C
(0)CF=C(OMe)SPh2.34 y (10
,4mmol)を得た(収率52チ)。
上記に得られた各生成物をまとめて示すと、下記表−1
2の如くであった。
(以下余白、次頁に続く)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式: %式% (但、R1及びR2は置換基を有していてもよい脂肪族
    又は芳香族基である。) で表わされることを特徴とする含フッ素及び含イオウα
    、β−不飽和カルボニル化合物。 2、R1が炭素原子数8以下のアルキル基である、特許
    請求の範囲第1項に記載した化合物。 3、R2が炭素原子数8以下のアルキル基又はフェニル
    基である、特許請求の範囲第1項に記載した化合物。 4、一般式二〇 1 R” −C−CHF CFzX (但、R1は置換基を有していてもよい脂肪族又は芳香
    族基、Xはハロゲン原子である。)で表わされる含フツ
    素カルボニル化合物のノ・ロゲン化物と、 一般式: %式% (但、R2は置換基を有していてもよい脂肪族又は芳香
    族基である。) で表わされるメルカプタンとを反応させることによって
    、 (但、R1及びR2は前記したものと同じである。) で表わされる含フッ素及び含イオウカルボニル化合物を
    得、この含フッ素及び含イオウカルボニル化合物からフ
    ッ化水素を脱離せしめて、(但、R1及びR2は前記し
    たものと同じである。) で表わされる含フッ素及び含イオウ不飽和カルボニル化
    合物を得ることを特徴とする含フッ素及び含イオウα、
    β−不飽和カルポニル化合物の製造方法。 5、R1を炭素原子数8以下のアルキル基とする、特許
    請求の範囲第4項に記載した方法。 6、R2を炭素原子数8以下のアルキル基又はフェニル
    基とする、特許請求の範囲第4項に記載した方法。 7、 含フツ素カルボニル化合物のノ・ロゲン化物とメ
    ルカプタ/との反応を塩基の存在下で行なわせる、特許
    請求の範囲第4項に記載した方法。 8 含フッ素及び含イオウカルボニル化合物にアルコー
    ル溶媒の存在下で塩基を作用させることによって、フッ
    化水素の脱離を行なわせる、特許請求の範囲第4項に記
    載した方法。
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