JPS60178893A - デカメチルシクロペンタシランの分離法 - Google Patents
デカメチルシクロペンタシランの分離法Info
- Publication number
- JPS60178893A JPS60178893A JP3256284A JP3256284A JPS60178893A JP S60178893 A JPS60178893 A JP S60178893A JP 3256284 A JP3256284 A JP 3256284A JP 3256284 A JP3256284 A JP 3256284A JP S60178893 A JPS60178893 A JP S60178893A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molecular weight
- organosilicon compound
- decamethylcyclopentasilane
- low molecular
- weight organosilicon
- Prior art date
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明（はデカメチルシクロペンタンラ／の分離法に関
するものである。さらに詳しくは直鎖状ポリジメチルシ
ランを熱分解して得られる低分子量有機ケイ素化合物中
よりデカメチルシクロペンタシランを分離する方法に関
する。
するものである。さらに詳しくは直鎖状ポリジメチルシ
ランを熱分解して得られる低分子量有機ケイ素化合物中
よりデカメチルシクロペンタシランを分離する方法に関
する。
デカメチルシクロペンタ／ランは無機工業材料。
特に炭化ケイ素連続繊維の製造原料として有用なもので
ある。
ある。
従来デカメチルシクロペンタンランを製造スる方法とし
ては、ジメチルジクロルンランをテトラヒドロフラン中
でＮ ａ／に合金で処理することによりドデカメチルシ
クロへキサシランとともに得られていたが、はとんどが
トチカメチルシクロへキサシランであり、デカメチルシ
クロペンタシランの収率は１７％にすぎなかった。（Ｒ
、Ｗｅｓｔ ｅｔａ、］ ：Ａｎｇｅｗ、Ｃ！ｈｅｍ、
１０２２−６（１９７９） ）。またＷｅｓｔらは（Ｊ
、 Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 ５４４０（１９
６９） ）ポリジメチルシランの熱分解により生成する
液状低沸点留分中にデカメチルシクロペンタシランが多
く生成していることを報告している。
ては、ジメチルジクロルンランをテトラヒドロフラン中
でＮ ａ／に合金で処理することによりドデカメチルシ
クロへキサシランとともに得られていたが、はとんどが
トチカメチルシクロへキサシランであり、デカメチルシ
クロペンタシランの収率は１７％にすぎなかった。（Ｒ
、Ｗｅｓｔ ｅｔａ、］ ：Ａｎｇｅｗ、Ｃ！ｈｅｍ、
１０２２−６（１９７９） ）。またＷｅｓｔらは（Ｊ
、 Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 ５４４０（１９
６９） ）ポリジメチルシランの熱分解により生成する
液状低沸点留分中にデカメチルシクロペンタシランが多
く生成していることを報告している。
しかしながら、この熱分解生成物中にはデカメチルシク
ロペンタシランと似かよった沸点をもつ有機ケイ素化合
物が多数存在するだめ簡単にデカメチルシクロペンタシ
ランを分離することができなかった。
ロペンタシランと似かよった沸点をもつ有機ケイ素化合
物が多数存在するだめ簡単にデカメチルシクロペンタシ
ランを分離することができなかった。
本発明者は、上記のポリジメチル７ランの熱分解生成物
中に多く存在するデカメチルシクロペンタシランを分離
する方法について鋭意検討の結果本発明を完成するに至
った。
中に多く存在するデカメチルシクロペンタシランを分離
する方法について鋭意検討の結果本発明を完成するに至
った。
すなわち１本発明は、下記式で示される繰返し単位を有
する。
する。
ポリジメチル７ランを不活性ガス雰囲気中で３０’０〜
５００℃に加熱することにより熱分解生成する低分子量
有機ケイ素化合物を系外に留出させ、ついで不活性ガス
雰囲気中で１５０〜６００℃に加熱処理し、デカメチル
７クロペンタシランを蒸留分離する方法に関する。
５００℃に加熱することにより熱分解生成する低分子量
有機ケイ素化合物を系外に留出させ、ついで不活性ガス
雰囲気中で１５０〜６００℃に加熱処理し、デカメチル
７クロペンタシランを蒸留分離する方法に関する。
低分子量有機ケイ素化合物の留出物のうち、主鎖が全て
５ｉ−８ｉ結合で、且つ側鎖が全てメチル基である化合
物は加熱処理により安定で何ら変化しないが、他の化合
物１例えは （ＯＨ３）２ Ｓ ｉ −Ｓ ｉ （ＣＨ３）２のよう
に主鎖にＳｉ −Ｓｉ結合および５ｉ−Ｃ結合を含み、
側鎖にメチル基以外に水素を含むような化合物は加熱処
理により、変化する。この変化は加熱処理により分子量
の増大が認められることから１重合反応に帰因すること
が確認された。
５ｉ−８ｉ結合で、且つ側鎖が全てメチル基である化合
物は加熱処理により安定で何ら変化しないが、他の化合
物１例えは （ＯＨ３）２ Ｓ ｉ −Ｓ ｉ （ＣＨ３）２のよう
に主鎖にＳｉ −Ｓｉ結合および５ｉ−Ｃ結合を含み、
側鎖にメチル基以外に水素を含むような化合物は加熱処
理により、変化する。この変化は加熱処理により分子量
の増大が認められることから１重合反応に帰因すること
が確認された。
その結果、系外に留出させた低分子量有機ケイ素化合物
中より蒸留により、簡単にテカメチルシクロペンタンラ
／を分肉体できることになった。
中より蒸留により、簡単にテカメチルシクロペンタンラ
／を分肉体できることになった。
本発明で用いられるポリジメチルシランは、公知の方法
で容易に製造することができる。たとえば、キシレン中
で金属ナトリウムとジメチルジクロル／ランを反応させ
ることにより得ることができる。
で容易に製造することができる。たとえば、キシレン中
で金属ナトリウムとジメチルジクロル／ランを反応させ
ることにより得ることができる。
ポリジメチルシランの熱分解は２００℃以上ではじまる
が熱分解が良好に起るのは３００℃以上である。また加
熱温度を５００℃以上にするとケイ素原子１〜４程度の
低分子量有機ケイ素化合物が多くなりデカメチルシクロ
ペンタシランの収率が低下するので好ましくない。好ま
しい加熱温度は３００〜５００℃の範囲である。
が熱分解が良好に起るのは３００℃以上である。また加
熱温度を５００℃以上にするとケイ素原子１〜４程度の
低分子量有機ケイ素化合物が多くなりデカメチルシクロ
ペンタシランの収率が低下するので好ましくない。好ま
しい加熱温度は３００〜５００℃の範囲である。
またこの熱分解反応は窒素、アルゴンなどの不活性ガス
雰囲気中で行う必要がある。
雰囲気中で行う必要がある。
本発明において系外に留出してくる低分子量有機ケイ素
化合物は常温において液状を呈し、主鎖にケイ素原子２
個以上を有する鎖状または環状の５ｉ−８ｉ結合または
５ｉ−０結合を含む有機ケイ素化合物である。
化合物は常温において液状を呈し、主鎖にケイ素原子２
個以上を有する鎖状または環状の５ｉ−８ｉ結合または
５ｉ−０結合を含む有機ケイ素化合物である。
との低分子量有機ケイ素化合物の留出物を加熱処理する
温度は１５０〜６５０℃の間が好ましい。
温度は１５０〜６５０℃の間が好ましい。
１５０℃以下では重合が進みに＜＜、３５０℃以」二で
は還流が激しく起るため経済的に好ましくない。加熱時
間は留出物の重合が充分進む時間で−あればよい。加熱
処理する際にポリボロフェニル／ロキサンまたはホウ酸
を添加して実施すれば１重合が容易に進行し、加熱処理
時間を半分以下に短縮できる。添加量は１〜５ ｗｔ％
程度で充分である。
は還流が激しく起るため経済的に好ましくない。加熱時
間は留出物の重合が充分進む時間で−あればよい。加熱
処理する際にポリボロフェニル／ロキサンまたはホウ酸
を添加して実施すれば１重合が容易に進行し、加熱処理
時間を半分以下に短縮できる。添加量は１〜５ ｗｔ％
程度で充分である。
雰囲気は有機ケイ素化合物の酸化を防ぐため窒素、アル
ゴン々と不活性ガス雰囲気下で行なうのが好ましい。
ゴン々と不活性ガス雰囲気下で行なうのが好ましい。
このようにして加熱処理された留出物中に含まれるデカ
メチルシクロペンタシランを分離するだめの蒸留は、一
般に常圧まだは減圧蒸留が適用される。また場合により
再結晶してもよく再結晶溶媒としてアルコール−水まだ
はケトン−水の混合溶媒系が用いられる。好ましくは、
メタノール−水、エタノール−水、アセトン−水である
。
メチルシクロペンタシランを分離するだめの蒸留は、一
般に常圧まだは減圧蒸留が適用される。また場合により
再結晶してもよく再結晶溶媒としてアルコール−水まだ
はケトン−水の混合溶媒系が用いられる。好ましくは、
メタノール−水、エタノール−水、アセトン−水である
。
第１図に熱分解生成した低分子量有機ケイ素化合物のガ
スクロマトグラフィー分析の結果を示した。保持時間１
６分にデカメチル／りロペンタンラン、２０分にドデカ
メチルシクロへキザシランがそれぞれのピークが確認さ
れ、デカメチルシクロペ、７タンランの前、ドデカメチ
ルシクロヘキサ７ランの後にも多数のピークが確認され
た。デカメチルシクロペンタシランに隣接するピークは
ケイ素数５の有機ケイ素化合物であることが、ガスクロ
−マススペクトルより確認された。
スクロマトグラフィー分析の結果を示した。保持時間１
６分にデカメチル／りロペンタンラン、２０分にドデカ
メチルシクロへキザシランがそれぞれのピークが確認さ
れ、デカメチルシクロペ、７タンランの前、ドデカメチ
ルシクロヘキサ７ランの後にも多数のピークが確認され
た。デカメチルシクロペンタシランに隣接するピークは
ケイ素数５の有機ケイ素化合物であることが、ガスクロ
−マススペクトルより確認された。
第２図に、２００℃でろ時間加熱処理した低分子量有機
ケイ素化合物のガスクロマトグラフィー分析の結果を示
した。
ケイ素化合物のガスクロマトグラフィー分析の結果を示
した。
第１図と比較して、保持時間１３分、２０分にデカメチ
ルシクロペンタシラン、ドデカメチルシクロヘキサ７ラ
ンのピークのみがそれぞれ認められた。これら２つ以外
の低分子量有機ケイ素化合物は分子量の増大がゲルパー
ミエーンヨンクロマトグラフィーにより測定され１重合
反応が起っていることが確認された。
ルシクロペンタシラン、ドデカメチルシクロヘキサ７ラ
ンのピークのみがそれぞれ認められた。これら２つ以外
の低分子量有機ケイ素化合物は分子量の増大がゲルパー
ミエーンヨンクロマトグラフィーにより測定され１重合
反応が起っていることが確認された。
以下実施例について本発明の詳細な説明する。
参考例
滴下ロート、還流冷却器、温度計および攪拌機を取り付
けたらｔの四つロフラスコに、金属ナトリウム４１０グ
とキシレン２ｔを加えて１１０℃に加熱し、激しい攪拌
下にジメチルジクロロシラン１０８０４Ｆを徐々に滴下
した。滴下に約２時間を要し７滴下後、攪拌下に徐々に
加熱温度を上げキシレンの還流温度まで昇温し、更に５
時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、メタノー
ルを加えて、過剰の金属す） ＩＪウムを分解し、暗紫
色の固体をろ過した。この固体を水中に投入して５副生
ずる塩化ナトリウムを溶解除去すると白色粉末としてポ
リジメチルシラン４１０７を得だ。
けたらｔの四つロフラスコに、金属ナトリウム４１０グ
とキシレン２ｔを加えて１１０℃に加熱し、激しい攪拌
下にジメチルジクロロシラン１０８０４Ｆを徐々に滴下
した。滴下に約２時間を要し７滴下後、攪拌下に徐々に
加熱温度を上げキシレンの還流温度まで昇温し、更に５
時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、メタノー
ルを加えて、過剰の金属す） ＩＪウムを分解し、暗紫
色の固体をろ過した。この固体を水中に投入して５副生
ずる塩化ナトリウムを溶解除去すると白色粉末としてポ
リジメチルシラン４１０７を得だ。
実施例１
参考例で得られたポリジメチル７ラン１００７を５００
ｍ１容量のガス導入管、攪拌機、冷却器を接続し、かつ
留出管を取り付けた三つロフラスコに仕込み、窒素流通
下に４２０℃で加熱処理することにより留出受器に８７
７のほとんど無色の少し粘性を有する低分子量有機ケイ
素化合物を得だ。
ｍ１容量のガス導入管、攪拌機、冷却器を接続し、かつ
留出管を取り付けた三つロフラスコに仕込み、窒素流通
下に４２０℃で加熱処理することにより留出受器に８７
７のほとんど無色の少し粘性を有する低分子量有機ケイ
素化合物を得だ。
得られた低分子量有機ケイ素化合物をガスクロマトグラ
フィー分析の結果を第１図に示した。
フィー分析の結果を第１図に示した。
（カラム：０Ｖ−１７５チ ガラスカラム２ｍ ７・０
℃より２５０℃まで５℃／分の速度で昇温 キャリアガ
スＨｅ ５０ｍ／＋ ／ ｍｉｎ ）次に低分子量有機
ケイ素化合物２５グをガス導入管、攪拌機、温度計、還
流冷却器を取り付けだ四つロフラスコに仕込み、２００
℃に６時間加熱処理した。加熱処理して得られた低分子
量有機ケイ素化合物のガスクロマトグラフィー分析結果
を第２図に示した。加熱処理して得られた低分子量有機
ケイ素化合物を５０ｒｔｔｌの２つロナス型フラスコに
仕込み、減圧蒸留を行なったところ、留出温度１１１０
〜ｂ メチルシクロペンタシランを得ることができた。
℃より２５０℃まで５℃／分の速度で昇温 キャリアガ
スＨｅ ５０ｍ／＋ ／ ｍｉｎ ）次に低分子量有機
ケイ素化合物２５グをガス導入管、攪拌機、温度計、還
流冷却器を取り付けだ四つロフラスコに仕込み、２００
℃に６時間加熱処理した。加熱処理して得られた低分子
量有機ケイ素化合物のガスクロマトグラフィー分析結果
を第２図に示した。加熱処理して得られた低分子量有機
ケイ素化合物を５０ｒｔｔｌの２つロナス型フラスコに
仕込み、減圧蒸留を行なったところ、留出温度１１１０
〜ｂ メチルシクロペンタシランを得ることができた。
これをエタノール（７０％）−水（ｓｏ％）の混合溶解
に加熱溶解させて水冷下に結晶を析出させた。この結晶
をろ過して白色粉末結晶としてデカメチルシクロペンタ
シラン１２１を得ることができだ。
に加熱溶解させて水冷下に結晶を析出させた。この結晶
をろ過して白色粉末結晶としてデカメチルシクロペンタ
シラン１２１を得ることができだ。
このものの物性値は以下に示す通りである。
融点 １８９℃
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ錠剤）
２９５０ ２８８５ １４００ｃｍ”−’（Ｃ！−Ｈ）
１２５０１２４０ ８４５ ８３０ ８００ ７３５
６９０ｃｍ−’（Ｓｉ−ＯＨ３） ＵＶスペクトル（イソオクタン） λｍａｘ２２０（ε
２２０００）実施例２ 実施例１で得られた低分子量有機ケイ素化合物の２５
ｆ？ｒにポリボロフェニルシロキサン０．７ｉ７を添加
して加熱処理温度６３０℃、加熱処理時間１．５時間と
した以外は実施例１と同様に行なってデカメチルシクロ
ペンタシラン１１ｇを得た。
１２５０１２４０ ８４５ ８３０ ８００ ７３５
６９０ｃｍ−’（Ｓｉ−ＯＨ３） ＵＶスペクトル（イソオクタン） λｍａｘ２２０（ε
２２０００）実施例２ 実施例１で得られた低分子量有機ケイ素化合物の２５
ｆ？ｒにポリボロフェニルシロキサン０．７ｉ７を添加
して加熱処理温度６３０℃、加熱処理時間１．５時間と
した以外は実施例１と同様に行なってデカメチルシクロ
ペンタシラン１１ｇを得た。
実施例乙
実施例１で得られた低分子量有機ケイ素化合物の２５１
ｒにホウ酸（Ｈ２ＢＯ３） ０．３ Ｙを添加して加熱
処理温度６００℃、加熱処理時間２時間とした以外は実
施例１と同様に行なって、デカメチルシクロペンタシラ
ン１１１ｉ＋を得た。
ｒにホウ酸（Ｈ２ＢＯ３） ０．３ Ｙを添加して加熱
処理温度６００℃、加熱処理時間２時間とした以外は実
施例１と同様に行なって、デカメチルシクロペンタシラ
ン１１１ｉ＋を得た。
第１図は加熱分解して得られた低分子量有機ケイ素化合
物のガスクロマトグラフィー、第２図は加熱処理して得
られた低分子量有機ケイ素化合物のガスクロマトグラフ
ィーをそれぞれ示す。
物のガスクロマトグラフィー、第２図は加熱処理して得
られた低分子量有機ケイ素化合物のガスクロマトグラフ
ィーをそれぞれ示す。
Claims (2)
- （１） 下記式で示される繰返し単位を有する、ポリジ
メチルシランを不活性ガス雰囲気中で３００〜５００℃
に加熱することにより熱分解生成する低分子量有機ケイ
素化合物を系外に留出させ１ついで前記留出物を１５０
〜３００℃で加熱処理し、デカメチルシクロペンタ／ラ
ンを蒸留分離することを特徴とするデカメチルシクロペ
ンタシランの分離法。 - （２）低分子量有機ケイ素化合物の留出物を加熱処理す
る際に、ポリボロフェニルシロキサンまたはホウ酸を添
加することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3256284A JPS60178893A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | デカメチルシクロペンタシランの分離法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3256284A JPS60178893A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | デカメチルシクロペンタシランの分離法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60178893A true JPS60178893A (ja) | 1985-09-12 |
| JPS6320835B2 JPS6320835B2 (ja) | 1988-04-30 |
Family
ID=12362345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3256284A Granted JPS60178893A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | デカメチルシクロペンタシランの分離法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60178893A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119825A1 (ja) * | 2009-04-13 | 2010-10-21 | 日本曹達株式会社 | 環状シラン化合物および／または環状カルボシラン化合物の製造方法 |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP3256284A patent/JPS60178893A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119825A1 (ja) * | 2009-04-13 | 2010-10-21 | 日本曹達株式会社 | 環状シラン化合物および／または環状カルボシラン化合物の製造方法 |
| CN102388057A (zh) * | 2009-04-13 | 2012-03-21 | 日本曹达株式会社 | 环状硅烷化合物和/或环状碳硅烷化合物的制备方法 |
| US8669390B2 (en) | 2009-04-13 | 2014-03-11 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for production of cyclic silane compound and/or cyclic carbosilane compound |
| JP5481649B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2014-04-23 | 日本曹達株式会社 | 環状シラン化合物の製造方法 |
| CN104086588A (zh) * | 2009-04-13 | 2014-10-08 | 日本曹达株式会社 | 环状硅烷化合物和/或环状碳硅烷化合物的制备方法 |
| US9029585B2 (en) | 2009-04-13 | 2015-05-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for production of cyclic silane compound and/or cyclic carbosilane compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6320835B2 (ja) | 1988-04-30 |
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