JPS60177834A - 圧電手段によつて駆動される変形可能なチヤツク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景及び重要〕 マイクロリトグラフィー装置（ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏ　
−ｇｒａｐｂｉｃ　ｓｙｓｔｅｍ）が、半導体装置の処
理中に半導体ウェーハ上のミクロン単位及び１ミクロン
より小さい幅のパターンを創成可能にするために使用さ
れる。そのような装置、特にＸ線及び光学的リトグラフ
ィー装置で、ウェーハの平坦度を制御することが、所望
の幅を達成するために重要である。１ミクロン又はそれ
より優れたウェーハの平坦度が、１ミクロンより小さい
リトグラフィーのために所望される。

在米の半導体ウェーハが、直径対厚さの大きな比（およ
そ１５０：１）のため比較的可撓性を示す傾向がある。

従って、１０ミクロン又はそれより優れたウェーハの平
坦度を達成するためには、非常に特殊な研摩技術を使用
することが必要となる。しかし、そのような技術を使用
しても、高温処理中での平坦度の偏差がよく起こる。

従来技術で非常に平坦で剛体の真空チャックを使用して
、ウェーハのリトグラフィー露光中にウェーハを押えて
平坦にする技術が周知である。しかしながら、チャック
を必要な平坦度まで研摩して必要な一様な厚さのウェー
ハを創成し、所望のウェーハの平坦度を達成することは
、困難である。

本発明の図示した好適実施例に従って、変形可能な真空
チャックが、多数の圧電スタック（Ｐ　Ｚ　Ｔ　）によ
って剛体基板に取り付けられる。

電位がチャックを変形させるために選択されたＰＺＴに
亘って印加されで、ウェーハでの平坦度偏差を補償し得
る。

〔好適実施例の説明〕

第１図は、本発明の好適実施例で使用されるチャック１
を示す。チャック１は、単一のシリコンウェーハがら製
造される。このことは、１９８３年１１月１日出願の米
国特許出願第５４７．８１１号（本出願人による特許出
願昭和５９年特許願第２１７４４８号）で説明されてい
る。ビーク３が、チャック１の上に位置づけられるウェ
ーハ１７を支持する（第２図参照）。

谷７が空気の通路を画成して、マニホルド１５（第２図
参照）を通してもたらされる真空が、チャック１の上に
ウェーハ１７を保持すべく使用され得る。チャック１は
、直径３インチ（７，６２ｃｍ）（３インチ（７，６２
ｃｍ）の直径のウェーハ１７に関して）であり、厚さ２
ミリメートルである。従って、チャック１は、はぼ４ｏ
：１の直径対厚さの比を有し、チャック１の表面に垂直
に加えられる力によって変形され得る。

第２図は、本発明の好適実施例に従って構成される装置
の断面図を示す。チャック１は、１９個の一様に分布し
たＰＺＴ９の上に取り付けられている。ＰＺＴ９は、剛
体基板１１の上に取り付けられている。選択されたＰＺ
Ｔ９に亘って電位を印加することによってその選択され
たＰＺＴ９の変位を生じる。代表的にＰＺＴ９は、１０
００ボルトの印加電位について１０ミクロンの変位を生
じる 使用する場合、ウェーハ１７は、マニホルド１５を通し
て真空をもたらすことによってチャック１と緊密な真空
接触で保持される。ウェーハ１７あ平坦な外形を得るた
めに、光学干渉を用いて基準平坦部１３に対して比較測
定がなされ、或いは変形的に、分離容量性ゲージ（ｄｉ
ｓｃｒｅｔｅ　ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ　ｇａｕ［？ｅ）
又は他の変位ゲージを用いて平坦度が測定され得る。適
切な電圧が、選択されたＰＺＴ９に印加されて、ウェー
ハ１７の表面の平坦度を最良にする。更に、ウェーハ１
７の表面は、マスク（例えばＸ＃ｉｔリトグラフィー中
のＸ線マスク）の表面に比較されて、マスクが十分、に
平坦でない場合に正確なギャップ間隔を達成してもよい
。ストレンゲージ又は変位変換器のような適切なセンサ
ーがチャック１に組み込まれて、チャック１の変形が測
定され、後に繰り返され得る。この装置は、周期的にウ
ェー／）１７の平坦度を閉ループ制御することを可能に
する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の好適実施例で使用される真空チャッ
クを示す。 第２図は、本発明の好適実施例に従って構成される装置
を示す。 〔主要符号の説明〕 １・・・チャック　３・・・ピーク ７・・・谷　９・・・圧電スタック（Ｐ　Ｚ　Ｔ　）１
１・・・剛体基板　１３・・・基準平坦部１５・・・マ
ニホルド　１７・・・ウェーハ特許出願人　パリアン・
アソシエイツ・図面の浄１ｒ（内容に変更なし１ ＦＩＧ、　１ １コ ＦＩＧ、２ 手　続　補　正　を：　（方式・自発）昭和６０年２月
ｌｃ（日 特許庁長官　志　賀　学　殿 １、　事件の表示　昭和５９年特許願第２７５０６５号
２、　発明の名称　圧電手段によって駆動される変形可
能なチャック ３、　補正をする者 事件との関係　特許出願人 名　称　パリアン・アソシエイッ・ インコーホレイテッド ４、代理人 住　所　東京都港区西ｆｆｆｔ橋１丁目６番２１号大和
銀行虎）門ビルディング ６、　補正の対象　図　面（企　図）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ウェーハを支持するための装置であって：変形可能
   なチャック； 剛体基板；並びに 前記剛体基板の上に取り付けられ且つ前記変形可能なチ
   ャックに付着された、前記変形可能なチャックを部分的
   且つ選択的に変位させるための複数の変位手段； から成るところの装置。 ２、特許請求の範囲ｊ＠１項に記載された装置であって
   ： 前記各変位手段が圧電変換器から成るところの装置。 ３、特許請求の範囲第２項に記載された装置であって： 前記変形可能なチャックが４０：１に等しい又はより大
   きい直径対厚さの比を有するところの装置。 ４、特許請求の範囲第３項に記載された装置であって： 前記変形可能なチャックが一体の結晶物質から成るとこ
   ろの装Ｍ、。 ５、特許請求の範囲ＩＩ＆４項に記載された装置であっ
   て： 前記変形可能なチャックが更に、複数の谷を画成する、
   被加工物を支持するための複数のピーク；並びに 前記各を通して真空をもたらし、前記ピーク上に前記被
   加工物を保持するためのマニホルド； から成る、ところの装置。 ６、特許請求の範囲第５項に記載された装置であって： 更に、前記変形可能なチャックに結合された、該チャッ
   クの平坦度を測定するための平坦度手段から成るところ
   の装置。 ７、特許請求の範囲第５項に記載された装置であって： 前記変形可能なチャックが更に、該チャックの変形度を
   測定し且つ記録するための測淀手段から成る、ところの
   装置。