JPH1186251A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH1186251A JPH1186251A JP9265153A JP26515397A JPH1186251A JP H1186251 A JPH1186251 A JP H1186251A JP 9265153 A JP9265153 A JP 9265153A JP 26515397 A JP26515397 A JP 26515397A JP H1186251 A JPH1186251 A JP H1186251A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
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- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- Y10T29/49002—Electrical device making
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- Y10T29/49055—Fabricating head structure or component thereof with bond/laminating preformed parts, at least two magnetic
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レール及び負圧発生部の形成時にＡＢＳ面の
高平坦度を維持でき、その結果、高精度の微細で複雑な
形状のレール及び負圧発生部を形成できる磁気ヘッドの
製造方法を提供する。 【解決手段】 ＡＢＳ面を有するスライダを備えた磁気
ヘッドの製造方法は、エージング工程と、最終ラッピン
グ処理を含むラッピング工程と、最終ラッピング処理の
後に行われるレール形成工程と、レール形成工程の後に
行われ、バーから個々のスライダに分離する切り出し工
程とを含み、エージング工程が、最終ラッピング処理の
前及び／又は最終ラッピング処理と同時に行われ、レー
ル形成工程が、フォトリソグラフィを用いたエッチング
処理を含んでいる。
高平坦度を維持でき、その結果、高精度の微細で複雑な
形状のレール及び負圧発生部を形成できる磁気ヘッドの
製造方法を提供する。 【解決手段】 ＡＢＳ面を有するスライダを備えた磁気
ヘッドの製造方法は、エージング工程と、最終ラッピン
グ処理を含むラッピング工程と、最終ラッピング処理の
後に行われるレール形成工程と、レール形成工程の後に
行われ、バーから個々のスライダに分離する切り出し工
程とを含み、エージング工程が、最終ラッピング処理の
前及び／又は最終ラッピング処理と同時に行われ、レー
ル形成工程が、フォトリソグラフィを用いたエッチング
処理を含んでいる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エアベアリング面
（以下ＡＢＳ面と称する）を有するスライダを備えた浮
上型磁気ヘッドの製造方法に関する。
（以下ＡＢＳ面と称する）を有するスライダを備えた浮
上型磁気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】浮上型磁気ヘッドを製造する際のスライ
ダ加工方法としては、次の方法が最も一般的である。ま
ず、多数の磁気変換素子がマトリクス状に形成されたウ
エハを切断して、複数のスライダが一列状又は複数列状
に配列されたバー（ヘッドスライダブロック）を切り出
し、このバーを加工治具に装着して、ＡＢＳ面となる側
に溝を研削加工することによりレールを形成する。次い
で、加工治具に装着した状態でバーを個々のスライダピ
ースに分離切断し、加工治具に装着したままレール面を
ラッピング処理してＡＢＳ面を仕上げ、その後、加工治
具から個々のスライダピースを剥離することによって磁
気ヘッドを得る。
ダ加工方法としては、次の方法が最も一般的である。ま
ず、多数の磁気変換素子がマトリクス状に形成されたウ
エハを切断して、複数のスライダが一列状又は複数列状
に配列されたバー（ヘッドスライダブロック）を切り出
し、このバーを加工治具に装着して、ＡＢＳ面となる側
に溝を研削加工することによりレールを形成する。次い
で、加工治具に装着した状態でバーを個々のスライダピ
ースに分離切断し、加工治具に装着したままレール面を
ラッピング処理してＡＢＳ面を仕上げ、その後、加工治
具から個々のスライダピースを剥離することによって磁
気ヘッドを得る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
大容量ディスクドライブに対応する磁気抵抗効果型（Ｍ
Ｒ）ヘッド等の磁気ヘッドは、そのＡＢＳ面を構成する
レール形状が負圧エアベアリング（ＮＰＡＢ）形状と称
される複雑なものとなっていることが多いので、上述の
ような研削加工ではレール形成を行うことができず、フ
ォトリソグラフィ技術を利用したエッチング処理によっ
てレール及び負圧発生部が形成される（例えば、特公平
５−８４８８号公報）。
大容量ディスクドライブに対応する磁気抵抗効果型（Ｍ
Ｒ）ヘッド等の磁気ヘッドは、そのＡＢＳ面を構成する
レール形状が負圧エアベアリング（ＮＰＡＢ）形状と称
される複雑なものとなっていることが多いので、上述の
ような研削加工ではレール形成を行うことができず、フ
ォトリソグラフィ技術を利用したエッチング処理によっ
てレール及び負圧発生部が形成される（例えば、特公平
５−８４８８号公報）。
【０００４】このようなＮＰＡＢ形状の磁気ヘッドで
は、超低浮上量（２０〜６０ｎｍ）が要求されるため、
その精度を確保するべくＡＢＳ面それ自体のみでなくレ
ール深さ（負圧発生部深さ）をも精度良くコントロール
する必要があり、従って基準面であるＡＢＳ面の平坦化
を高度に保つことが要求される。
は、超低浮上量（２０〜６０ｎｍ）が要求されるため、
その精度を確保するべくＡＢＳ面それ自体のみでなくレ
ール深さ（負圧発生部深さ）をも精度良くコントロール
する必要があり、従って基準面であるＡＢＳ面の平坦化
を高度に保つことが要求される。
【０００５】ＡＢＳ面の平面度を向上させる目的で、バ
ーに溝を研削加工することによってレールを形成し、加
工治具に装着した状態でバーを個々のスライダピースに
分離切断し、次いで、加工治具に装着したまま各スライ
ダピースにエージング処理を行った後、レール面をラッ
ピング処理してＡＢＳ面を仕上げ、その後、加工治具か
ら個々のスライダピースを剥離することによって磁気ヘ
ッドを得る方法が公知である（特開昭６３−１９１３０
９号公報、特開平３−２９５０１７号公報、特開平４−
１３４７１７号公報）。
ーに溝を研削加工することによってレールを形成し、加
工治具に装着した状態でバーを個々のスライダピースに
分離切断し、次いで、加工治具に装着したまま各スライ
ダピースにエージング処理を行った後、レール面をラッ
ピング処理してＡＢＳ面を仕上げ、その後、加工治具か
ら個々のスライダピースを剥離することによって磁気ヘ
ッドを得る方法が公知である（特開昭６３−１９１３０
９号公報、特開平３−２９５０１７号公報、特開平４−
１３４７１７号公報）。
【０００６】この公知の方法によれば、エージング処理
によって内部応力が解放されるのである程度の平坦度は
得られる。しかしながら、加工治具に装着した状態では
あるものの個々のスライダピースに分離切断した後にＡ
ＢＳ面のラッピング処理が行われるため、そのラッピン
グ処理にスライダピースの側面から受ける応力によって
スライダピース自体が動き易く、高平坦度の確保には限
界がある。
によって内部応力が解放されるのである程度の平坦度は
得られる。しかしながら、加工治具に装着した状態では
あるものの個々のスライダピースに分離切断した後にＡ
ＢＳ面のラッピング処理が行われるため、そのラッピン
グ処理にスライダピースの側面から受ける応力によって
スライダピース自体が動き易く、高平坦度の確保には限
界がある。
【０００７】従って本発明の目的は、レール及び負圧発
生部の形成時にＡＢＳ面の高平坦度を維持でき、その結
果、高精度の微細で複雑な形状のレール及び負圧発生部
を形成できる磁気ヘッドの製造方法を提供することにあ
る。
生部の形成時にＡＢＳ面の高平坦度を維持でき、その結
果、高精度の微細で複雑な形状のレール及び負圧発生部
を形成できる磁気ヘッドの製造方法を提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ＡＢＳ
面を有するスライダを備えた磁気ヘッドの製造方法は、
エージング工程と、最終ラッピング処理を含むラッピン
グ工程と、最終ラッピング処理の後に行われるレール形
成工程と、レール形成工程の後に行われ、バーから個々
のスライダに分離する切り出し工程とを含み、エージン
グ工程が、最終ラッピング処理の前及び／又は最終ラッ
ピング処理と同時に行われ、レール形成工程が、フォト
リソグラフィを用いたエッチング処理を含んでいる。
面を有するスライダを備えた磁気ヘッドの製造方法は、
エージング工程と、最終ラッピング処理を含むラッピン
グ工程と、最終ラッピング処理の後に行われるレール形
成工程と、レール形成工程の後に行われ、バーから個々
のスライダに分離する切り出し工程とを含み、エージン
グ工程が、最終ラッピング処理の前及び／又は最終ラッ
ピング処理と同時に行われ、レール形成工程が、フォト
リソグラフィを用いたエッチング処理を含んでいる。
【０００９】最終ラッピング処理の前及び／又は最終ラ
ッピング処理と同時にバーの内部応力を解放するエージ
ング処理が行われ、次いで、各スライダのレール及び負
圧発生部が形成される。このように、レール及び負圧発
生部の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が
行われるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バ
ーは内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されて
いることとなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。そ
の結果、高精度のＮＰＡＢ形状を形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。し
かも、エージング処理を伴うラッピング処理がバー状態
のままで行われるので、ラッピング処理時のバーの変形
及び位置ずれが発生しにくくなり、その意味からもＡＢ
Ｓ面の高平坦度を確保できる。
ッピング処理と同時にバーの内部応力を解放するエージ
ング処理が行われ、次いで、各スライダのレール及び負
圧発生部が形成される。このように、レール及び負圧発
生部の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が
行われるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バ
ーは内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されて
いることとなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。そ
の結果、高精度のＮＰＡＢ形状を形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。し
かも、エージング処理を伴うラッピング処理がバー状態
のままで行われるので、ラッピング処理時のバーの変形
及び位置ずれが発生しにくくなり、その意味からもＡＢ
Ｓ面の高平坦度を確保できる。
【００１０】フォトリソグラフィが、レジストフィルム
を用いたパターニングであることが好ましい。また、エ
ッチング処理が、ドライエッチングであることも好まし
い。
を用いたパターニングであることが好ましい。また、エ
ッチング処理が、ドライエッチングであることも好まし
い。
【００１１】本発明の一実施態様によれば、ラッピング
工程が、最終ラッピング処理のみからなる。また、本発
明の他の実施態様によれば、ラッピング工程が、最終ラ
ッピング処理を含む複数のラッピング処理からなる。
工程が、最終ラッピング処理のみからなる。また、本発
明の他の実施態様によれば、ラッピング工程が、最終ラ
ッピング処理を含む複数のラッピング処理からなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の製造方法の一実施
形態における各工程を概略的に示す工程図であり、図２
は図１に示すレールエッチング工程の詳細を示す工程図
である。
形態における各工程を概略的に示す工程図であり、図２
は図１に示すレールエッチング工程の詳細を示す工程図
である。
【００１３】図１に示すように、まず、多数の磁気変換
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すごと
く、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー（ヘッドスライダブロック）３３を切り出す（ス
テップＳ１）。
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すごと
く、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー（ヘッドスライダブロック）３３を切り出す（ス
テップＳ１）。
【００１４】次いで、図４に示すように、このバー３３
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ２）。この場
合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３５
の上方に向くように接着する。
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ２）。この場
合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３５
の上方に向くように接着する。
【００１５】次いで、エージング処理を行う（ステップ
Ｓ３）。このエージング処理は、例えば、バー３３が接
着された加工治具３５をホットプレート３６上に置いて
加熱することによって行う。加熱により、バー３３はそ
れ自身の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪から
解放される。エージング温度は、基本的には用いる接着
樹脂の軟化点より低い温度であれば良く、具体的には、
３０〜１００℃、好ましくは３０〜５０℃であり、特に
好ましくは４０℃である。エージング時間は１〜１０時
間であり、好ましくは１〜３時間である。この加熱に
は、ホットプレートの他にオーブンを用いても良い。
Ｓ３）。このエージング処理は、例えば、バー３３が接
着された加工治具３５をホットプレート３６上に置いて
加熱することによって行う。加熱により、バー３３はそ
れ自身の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪から
解放される。エージング温度は、基本的には用いる接着
樹脂の軟化点より低い温度であれば良く、具体的には、
３０〜１００℃、好ましくは３０〜５０℃であり、特に
好ましくは４０℃である。エージング時間は１〜１０時
間であり、好ましくは１〜３時間である。この加熱に
は、ホットプレートの他にオーブンを用いても良い。
【００１６】エージング処理の後、図６に示すように、
ラッピング処理が行われる（ステップＳ４）。このラッ
ピング処理は、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回
転する研磨部材３７に押し当てることによってなされ
る。研磨部材３７は、例えば錫等の軟質金属材料とダイ
アモンド砥粒とから構成される。また、異なる研磨部材
として、セラミックを用いても良い。エージング処理
（ステップＳ３）に続くこのラッピング処理（ステップ
Ｓ４）により、バー３３の内部歪及び接着剤３４の内部
応力による歪から解放された状態でラッピングが行える
ので、ＡＢＳ面の平坦度を非常に高い値とすることがで
きる。
ラッピング処理が行われる（ステップＳ４）。このラッ
ピング処理は、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回
転する研磨部材３７に押し当てることによってなされ
る。研磨部材３７は、例えば錫等の軟質金属材料とダイ
アモンド砥粒とから構成される。また、異なる研磨部材
として、セラミックを用いても良い。エージング処理
（ステップＳ３）に続くこのラッピング処理（ステップ
Ｓ４）により、バー３３の内部歪及び接着剤３４の内部
応力による歪から解放された状態でラッピングが行える
ので、ＡＢＳ面の平坦度を非常に高い値とすることがで
きる。
【００１７】ラッピング処理が終了した後、バー３３を
加工治具３５から剥離し（ステップＳ５）、次のフォト
リソグラフィを用いたエッチング処理を含むレールエッ
チング工程（ステップＳ６）を実施する。
加工治具３５から剥離し（ステップＳ５）、次のフォト
リソグラフィを用いたエッチング処理を含むレールエッ
チング工程（ステップＳ６）を実施する。
【００１８】このレールエッチング工程では、まず、ダ
イアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜をバー３３のＡ
ＢＳ面３３ａに被着する（図２のステップＳ６１）。次
いで、図７に示すように、同様に形成した複数のバー３
３を、このレールエッチング工程専用の加工治具３８に
接着する（ステップＳ６２）。この場合、加工治具３８
に接着した各バーのＡＢＳ面の高さのバラツキが１０μ
ｍ以下となるように接着する。
イアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜をバー３３のＡ
ＢＳ面３３ａに被着する（図２のステップＳ６１）。次
いで、図７に示すように、同様に形成した複数のバー３
３を、このレールエッチング工程専用の加工治具３８に
接着する（ステップＳ６２）。この場合、加工治具３８
に接着した各バーのＡＢＳ面の高さのバラツキが１０μ
ｍ以下となるように接着する。
【００１９】次いで、治具３８上に配列された複数のバ
ー３３のＡＢＳ面３３ａ上に２０〜３０μｍ厚のドライ
フィルムをラミネートしてフォトレジスト膜（この例で
はネガタイプ）を被着する（ステップＳ６３）。このフ
ォトレジスト膜の被着工程は、図８に示すように、ポリ
エチレン・テレフタレート等の可撓性フィルム３９によ
って支持されている有機質のフォトレジスト膜４０を熱
ロール４１を用いて熱圧着により転写するものである。
この場合、ＡＢＳ面が高平坦度を有していないと、フォ
トレジスト膜４０にしわが生じ易くなり、高精度のパタ
ーニングが期待できなくなる。本実施形態では、エージ
ング処理（ステップＳ３）及びこれに続くラッピング処
理（ステップＳ４）により、ＡＢＳ面の平坦度を非常に
高い値に維持できるので、正確なパターニングを行うこ
とができる。
ー３３のＡＢＳ面３３ａ上に２０〜３０μｍ厚のドライ
フィルムをラミネートしてフォトレジスト膜（この例で
はネガタイプ）を被着する（ステップＳ６３）。このフ
ォトレジスト膜の被着工程は、図８に示すように、ポリ
エチレン・テレフタレート等の可撓性フィルム３９によ
って支持されている有機質のフォトレジスト膜４０を熱
ロール４１を用いて熱圧着により転写するものである。
この場合、ＡＢＳ面が高平坦度を有していないと、フォ
トレジスト膜４０にしわが生じ易くなり、高精度のパタ
ーニングが期待できなくなる。本実施形態では、エージ
ング処理（ステップＳ３）及びこれに続くラッピング処
理（ステップＳ４）により、ＡＢＳ面の平坦度を非常に
高い値に維持できるので、正確なパターニングを行うこ
とができる。
【００２０】次いで、被着されたフォトレジスト膜の上
に露光用のマスク（図示なし）を配置して（ステップＳ
６４）、露光する（ステップＳ６５）。その後、アルカ
リ現像液により未露光部分をエッチングして、フォトレ
ジスト膜のレール形成に不要な部分を除去する（ステッ
プＳ６６）ことによりパターニングを終了する。
に露光用のマスク（図示なし）を配置して（ステップＳ
６４）、露光する（ステップＳ６５）。その後、アルカ
リ現像液により未露光部分をエッチングして、フォトレ
ジスト膜のレール形成に不要な部分を除去する（ステッ
プＳ６６）ことによりパターニングを終了する。
【００２１】その後、図９に示すように、反応性イオン
エッチング等のパターンエッチング工程によって残され
たレジスト膜４０ａ上からＡＢＳ面にイオンミリングを
施し、レール部３３ｂ及び負圧発生部３３ｃの形成を行
う（ステップＳ６７）。この場合、エッチングの深さ
を、近い将来要求される３μｍ±０．０９μｍの規格公
差内に制御するためには、ＡＢＳ面が高平坦度を有して
いる必要がある。本実施形態では、エージング処理（ス
テップＳ３）及びこれに続くラッピング処理（ステップ
Ｓ４）により、ＡＢＳ面の平坦度を非常に高い値に維持
できるので、この規格公差内に制御することが可能であ
る。
エッチング等のパターンエッチング工程によって残され
たレジスト膜４０ａ上からＡＢＳ面にイオンミリングを
施し、レール部３３ｂ及び負圧発生部３３ｃの形成を行
う（ステップＳ６７）。この場合、エッチングの深さ
を、近い将来要求される３μｍ±０．０９μｍの規格公
差内に制御するためには、ＡＢＳ面が高平坦度を有して
いる必要がある。本実施形態では、エージング処理（ス
テップＳ３）及びこれに続くラッピング処理（ステップ
Ｓ４）により、ＡＢＳ面の平坦度を非常に高い値に維持
できるので、この規格公差内に制御することが可能であ
る。
【００２２】次いで、各バー３３を治具３８から剥離し
（ステップＳ６８）、アセトン等で残ったレジスト膜を
除去する（ステップＳ６９）。
（ステップＳ６８）、アセトン等で残ったレジスト膜を
除去する（ステップＳ６９）。
【００２３】以上のレールエッチング工程（ステップＳ
６）を実施した後、マシニングによって、バー３３を切
断し、個々のスライダピースに分割する（図１のステッ
プＳ７）。
６）を実施した後、マシニングによって、バー３３を切
断し、個々のスライダピースに分割する（図１のステッ
プＳ７）。
【００２４】図１０は、このようにして製造された例え
ばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以下の微細で複雑な
形状のレールを有するスライダピースの一例を示してい
る。同図において、４２はこのような微細で複雑な形状
のレールのＡＢＳ面、４３は負圧発生部、３０は磁気変
換素子、３１はリード、３２は入出力端子をそれぞれ示
している。
ばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以下の微細で複雑な
形状のレールを有するスライダピースの一例を示してい
る。同図において、４２はこのような微細で複雑な形状
のレールのＡＢＳ面、４３は負圧発生部、３０は磁気変
換素子、３１はリード、３２は入出力端子をそれぞれ示
している。
【００２５】このように本実施形態では、ラッピング処
理の前にバーの内部応力を解放するためのエージング処
理が行われ、次いで、各スライダのレール及び負圧発生
部が形成される。このように、レール及び負圧発生部の
形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が行われ
るので、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは内
部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されているこ
ととなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結
果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以
下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。因
に、エージング処理を行わずラッピング処理のみを行っ
てレールエッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ
面の平坦度は、そのツイスト値のσが４．６（ｎｍ）で
あり、本実施形態のごとく、ラッピング処理の前にバー
のＡＢＳ面を平坦化するエージング処理を行ってレール
エッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦
度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎｍ）以下であっ
た。
理の前にバーの内部応力を解放するためのエージング処
理が行われ、次いで、各スライダのレール及び負圧発生
部が形成される。このように、レール及び負圧発生部の
形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が行われ
るので、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは内
部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されているこ
ととなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結
果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以
下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。因
に、エージング処理を行わずラッピング処理のみを行っ
てレールエッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ
面の平坦度は、そのツイスト値のσが４．６（ｎｍ）で
あり、本実施形態のごとく、ラッピング処理の前にバー
のＡＢＳ面を平坦化するエージング処理を行ってレール
エッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦
度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎｍ）以下であっ
た。
【００２６】さらに本実施形態では、エージング処理を
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
【００２７】ここで、平坦度を表わすツイスト値につい
て、簡単に説明する。図１１（Ａ）に示すスライダの２
つのレール１１１及び１１２の各々について最小自乗平
面を算出し、４点Ａ〜Ｄを決定する。ここで、点Ａ及び
Ｂは、レール１１１の最小自乗平面の両端部近傍の所定
位置の点であり、点Ｃ及びＤは、レール１１２の最小自
乗平面の両端部近傍の所定位置の点である。同図（Ｂ）
に示すように、このようにして定めた点Ａ、Ｃ及びＤに
よって形成される平面１１３と、点Ｂとの距離がツイス
ト値である。ただし、点Ｂが平面１１３に対してＺ軸の
正の側にある場合はツイスト値を正とし、逆の場合は負
とする。なお、このようなツイスト値の測定は、東京精
密株式会社製の「Ｌ−ＦＴ−１０Ｂ」等によって測定で
きる。
て、簡単に説明する。図１１（Ａ）に示すスライダの２
つのレール１１１及び１１２の各々について最小自乗平
面を算出し、４点Ａ〜Ｄを決定する。ここで、点Ａ及び
Ｂは、レール１１１の最小自乗平面の両端部近傍の所定
位置の点であり、点Ｃ及びＤは、レール１１２の最小自
乗平面の両端部近傍の所定位置の点である。同図（Ｂ）
に示すように、このようにして定めた点Ａ、Ｃ及びＤに
よって形成される平面１１３と、点Ｂとの距離がツイス
ト値である。ただし、点Ｂが平面１１３に対してＺ軸の
正の側にある場合はツイスト値を正とし、逆の場合は負
とする。なお、このようなツイスト値の測定は、東京精
密株式会社製の「Ｌ−ＦＴ−１０Ｂ」等によって測定で
きる。
【００２８】図１２は本発明の製造方法の他の実施形態
における各工程を概略的に示す工程図である。なお、図
１の実施形態の場合と同様の工程については、図１の実
施形態の説明と同じ図面及び同じ参照符号を用いること
とする。
における各工程を概略的に示す工程図である。なお、図
１の実施形態の場合と同様の工程については、図１の実
施形態の説明と同じ図面及び同じ参照符号を用いること
とする。
【００２９】同図に示すように、まず、多数の磁気変換
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すよう
な、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー３３を切り出す（ステップＳ１２１）。
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すよう
な、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー３３を切り出す（ステップＳ１２１）。
【００３０】次いで、図４に示すように、このバー３３
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ１２２）。この
場合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３
５の上方に向くように接着する。
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ１２２）。この
場合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３
５の上方に向くように接着する。
【００３１】次いで、図６に示すように、バー３３の第
１のラッピング処理が行われる（ステップＳ１２３）。
このラッピング処理は、比較的粗い研磨処理であり、バ
ー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３
７に押し当てることによってなされる。研磨部材３７
は、例えば錫等の軟質金属材料とダイアモンド砥粒とか
ら構成される。また、異なる研磨部材として、セラミッ
クを用いても良い。
１のラッピング処理が行われる（ステップＳ１２３）。
このラッピング処理は、比較的粗い研磨処理であり、バ
ー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３
７に押し当てることによってなされる。研磨部材３７
は、例えば錫等の軟質金属材料とダイアモンド砥粒とか
ら構成される。また、異なる研磨部材として、セラミッ
クを用いても良い。
【００３２】次いで、エージング処理を行う（ステップ
Ｓ１２４）。このエージング処理は、例えば、バー３３
が接着された加工治具３５をホットプレート３６上に置
いて加熱することによって行う。加熱により、バー３３
はそれ自身の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪
から解放される。エージング温度は、基本的には用いる
接着樹脂の軟化点より低い温度であれば良く、具体的に
は、３０〜１００℃、好ましくは３０〜５０℃であり、
特に好ましくは４０℃である。エージング時間は１〜１
０時間であり、好ましくは１〜３時間である。この加熱
には、ホットプレートの他にオーブンを用いても良い。
Ｓ１２４）。このエージング処理は、例えば、バー３３
が接着された加工治具３５をホットプレート３６上に置
いて加熱することによって行う。加熱により、バー３３
はそれ自身の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪
から解放される。エージング温度は、基本的には用いる
接着樹脂の軟化点より低い温度であれば良く、具体的に
は、３０〜１００℃、好ましくは３０〜５０℃であり、
特に好ましくは４０℃である。エージング時間は１〜１
０時間であり、好ましくは１〜３時間である。この加熱
には、ホットプレートの他にオーブンを用いても良い。
【００３３】エージング処理の後、第２のラッピング処
理が行われる（ステップＳ１２５）。このラッピング処
理は、比較的細かい研磨処理であり、バー３３のＡＢＳ
面となる面３３ａを回転する研磨部材３７に押し当てる
ことによってなされる。研磨部材３７は、例えば錫等の
軟質金属材料とダイアモンド砥粒とから構成される。ま
た、異なる研磨部材として、セラミックを用いても良
い。エージング処理（ステップＳ１２４）に続くこのラ
ッピング処理（ステップＳ１２５）により、バー３３の
内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪から解放され
た状態でラッピングが行えるので、ＡＢＳ面の平坦度を
非常に高い値とすることができる。
理が行われる（ステップＳ１２５）。このラッピング処
理は、比較的細かい研磨処理であり、バー３３のＡＢＳ
面となる面３３ａを回転する研磨部材３７に押し当てる
ことによってなされる。研磨部材３７は、例えば錫等の
軟質金属材料とダイアモンド砥粒とから構成される。ま
た、異なる研磨部材として、セラミックを用いても良
い。エージング処理（ステップＳ１２４）に続くこのラ
ッピング処理（ステップＳ１２５）により、バー３３の
内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪から解放され
た状態でラッピングが行えるので、ＡＢＳ面の平坦度を
非常に高い値とすることができる。
【００３４】ラッピング処理が終了した後、バー３３を
加工治具３５から剥離し（ステップＳ１２６）、次のレ
ールエッチング工程（ステップＳ１２７）を実施する。
このレールエッチング工程は、図１の実施形態において
図２に基づいて説明したものと同様であるため、ここで
は説明を省略する。
加工治具３５から剥離し（ステップＳ１２６）、次のレ
ールエッチング工程（ステップＳ１２７）を実施する。
このレールエッチング工程は、図１の実施形態において
図２に基づいて説明したものと同様であるため、ここで
は説明を省略する。
【００３５】レールエッチング工程を実施した後、マシ
ニングによって、バー３３を切断し、個々のスライダピ
ースに分割する（ステップＳ１２８）。
ニングによって、バー３３を切断し、個々のスライダピ
ースに分割する（ステップＳ１２８）。
【００３６】このように本実施形態では、第２のラッピ
ング処理の前にバーの内部応力を解放するためのエージ
ング処理が行われ、次いで、各スライダにレール及び負
圧発生部が形成される。このように、レール及び負圧発
生部の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が
行われるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バ
ーは内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されて
いることとなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。そ
の結果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオー
ダ以下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、
超低浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られ
る。因に、本実施形態のごとく第２のラッピング処理の
前にバーのバーの内部応力を解放するエージング処理を
行ってレールエッチングした場合と、エージング処理を
行わずラッピング処理のみを行ってレールエッチングし
た場合との各々の場合において、各工程後のＡＢＳ面の
平坦度の実測値を次の表１及び表２にそれぞれ示す。た
だし、本実施形態の場合は、サンプル数を１００とし
た。
ング処理の前にバーの内部応力を解放するためのエージ
ング処理が行われ、次いで、各スライダにレール及び負
圧発生部が形成される。このように、レール及び負圧発
生部の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が
行われるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バ
ーは内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されて
いることとなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。そ
の結果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオー
ダ以下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、
超低浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られ
る。因に、本実施形態のごとく第２のラッピング処理の
前にバーのバーの内部応力を解放するエージング処理を
行ってレールエッチングした場合と、エージング処理を
行わずラッピング処理のみを行ってレールエッチングし
た場合との各々の場合において、各工程後のＡＢＳ面の
平坦度の実測値を次の表１及び表２にそれぞれ示す。た
だし、本実施形態の場合は、サンプル数を１００とし
た。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【表２】
【００３９】さらに本実施形態では、エージング処理を
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
【００４０】図１３は本発明の製造方法の他の実施形態
における各工程を概略的に示す工程図である。なお、図
１の実施形態の場合と同様の工程については、図１の実
施形態の説明と同じ図面及び同じ参照符号を用いること
とする。
における各工程を概略的に示す工程図である。なお、図
１の実施形態の場合と同様の工程については、図１の実
施形態の説明と同じ図面及び同じ参照符号を用いること
とする。
【００４１】同図に示すように、まず、多数の磁気変換
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すよう
な、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー３３を切り出す（ステップＳ１３１）。
素子、リード及び入出力端子等がマトリクス状に形成さ
れたウエハ（図示なし）を切断して、図３に示すよう
な、磁気変換素子３０、リード３１及び入出力端子３２
等をそれぞれ有する複数のスライダが一列状に配列され
たバー３３を切り出す（ステップＳ１３１）。
【００４２】次いで、図４に示すように、このバー３３
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ１３２）。この
場合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３
５の上方に向くように接着する。
を、加熱により軟化する特性を有する接着剤３４により
加工治具３５上に固着する（ステップＳ１３２）。この
場合、バー３３のＡＢＳ面となる面３３ａが加工治具３
５の上方に向くように接着する。
【００４３】次いで、図６に示すように、バー３３の第
１のラッピング処理が行われる（ステップＳ１３３）。
このラッピング処理は、比較的粗い研磨処理であり、バ
ー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３
７に押し当てることによってなされる。研磨部材３７
は、例えば錫等の軟質金属材料とダイアモンド砥粒とか
ら構成される。また、異なる研磨部材として、セラミッ
クを用いても良い。
１のラッピング処理が行われる（ステップＳ１３３）。
このラッピング処理は、比較的粗い研磨処理であり、バ
ー３３のＡＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３
７に押し当てることによってなされる。研磨部材３７
は、例えば錫等の軟質金属材料とダイアモンド砥粒とか
ら構成される。また、異なる研磨部材として、セラミッ
クを用いても良い。
【００４４】次いで、エージング処理及び第２のラッピ
ング処理を同時に行う（ステップＳ１３４）。この処理
は、例えば、バー３３を加熱しながらこのバー３３のＡ
ＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３７に押し当
てることによって比較的細かい研磨処理を行う。加熱に
より、バー３３はそれ自身の内部歪及び接着剤３４の内
部応力による歪から解放される。エージング温度は、基
本的には用いる接着樹脂の軟化点より低い温度であれば
良く、具体的には、３０〜１００℃、好ましくは３０〜
５０℃であり、特に好ましくは４０℃である。エージン
グ時間は１〜１０時間であり、好ましくは１〜３時間で
ある。この加熱には、ホットプレートの他にオーブンを
用いても良い。研磨部材３７は、例えば錫等の軟質金属
材料とダイアモンド砥粒とから構成される。また、異な
る研磨部材として、セラミックを用いても良い。エージ
ング処理とラッピング処理とを同時に行うことにより、
バー３３の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪か
ら解放された状態でラッピングが行えるので、ＡＢＳ面
の平坦度を非常に高い値とすることができる。しかも、
同時に行えば、処理時間がその分短縮化される。
ング処理を同時に行う（ステップＳ１３４）。この処理
は、例えば、バー３３を加熱しながらこのバー３３のＡ
ＢＳ面となる面３３ａを回転する研磨部材３７に押し当
てることによって比較的細かい研磨処理を行う。加熱に
より、バー３３はそれ自身の内部歪及び接着剤３４の内
部応力による歪から解放される。エージング温度は、基
本的には用いる接着樹脂の軟化点より低い温度であれば
良く、具体的には、３０〜１００℃、好ましくは３０〜
５０℃であり、特に好ましくは４０℃である。エージン
グ時間は１〜１０時間であり、好ましくは１〜３時間で
ある。この加熱には、ホットプレートの他にオーブンを
用いても良い。研磨部材３７は、例えば錫等の軟質金属
材料とダイアモンド砥粒とから構成される。また、異な
る研磨部材として、セラミックを用いても良い。エージ
ング処理とラッピング処理とを同時に行うことにより、
バー３３の内部歪及び接着剤３４の内部応力による歪か
ら解放された状態でラッピングが行えるので、ＡＢＳ面
の平坦度を非常に高い値とすることができる。しかも、
同時に行えば、処理時間がその分短縮化される。
【００４５】エージング処理及び第２のラッピング処理
が終了した後、バー３３を加工治具３５から剥離し（ス
テップＳ１３５）、次のレールエッチング工程（ステッ
プＳ１３６）を実施する。このレールエッチング工程
は、図１の実施形態において図２に基づいて説明したも
のと同様であるため、ここでは説明を省略する。
が終了した後、バー３３を加工治具３５から剥離し（ス
テップＳ１３５）、次のレールエッチング工程（ステッ
プＳ１３６）を実施する。このレールエッチング工程
は、図１の実施形態において図２に基づいて説明したも
のと同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００４６】レールエッチング工程を実施した後、マシ
ニングによって、バー３３を切断し、個々のスライダピ
ースに分割する（ステップＳ１３７）。
ニングによって、バー３３を切断し、個々のスライダピ
ースに分割する（ステップＳ１３７）。
【００４７】このように本実施形態では、ラッピング処
理と同時にバーの内部応力を解放するためのエージング
処理が行われ、次いで、各スライダにレール及び負圧発
生部が形成される。このように、レール及び負圧発生部
の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が行わ
れるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは
内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されている
こととなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結
果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以
下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。因
に、エージング処理を行わずラッピング処理のみを行っ
てレールエッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ
面の平坦度は、そのツイスト値のσが４．６（ｎｍ）で
あり、本実施形態のごとく、ラッピング処理の前にバー
のＡＢＳ面を平坦化するエージング処理を行ってレール
エッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦
度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎｍ）以下であっ
た。
理と同時にバーの内部応力を解放するためのエージング
処理が行われ、次いで、各スライダにレール及び負圧発
生部が形成される。このように、レール及び負圧発生部
の形成前にエージング処理を伴うラッピング処理が行わ
れるので、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは
内部の残留歪及び接着剤の内部応力から解放されている
こととなり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結
果、高精度の例えばＮＰＡＢ形状等のミクロンオーダ以
下の微細で複雑な形状のレールを形成できるので、超低
浮上量を安定して提供できる磁気ヘッドが得られる。因
に、エージング処理を行わずラッピング処理のみを行っ
てレールエッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ
面の平坦度は、そのツイスト値のσが４．６（ｎｍ）で
あり、本実施形態のごとく、ラッピング処理の前にバー
のＡＢＳ面を平坦化するエージング処理を行ってレール
エッチングした場合に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦
度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎｍ）以下であっ
た。
【００４８】さらに本実施形態では、エージング処理を
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
伴うラッピング処理がバー状態のままで行われるので、
ラッピング処理時のバーの変形及び位置ずれが発生しに
くくなり、この点でもＡＢＳ面の高平坦度を確保でき
る。因に、エージング処理を伴うラッピング処理をスラ
イダピースに分割後に行ってレールエッチングした場合
に最終的に得られるＡＢＳ面の平坦度は、そのツイスト
値のσが１０〜２０（ｎｍ）であり、本実施形態のごと
く、エージング処理を伴うラッピング処理をバー状態で
行ってレールエッチングした場合に最終的に得られるＡ
ＢＳ面の平坦度は、そのツイスト値のσが２．０（ｎ
ｍ）以下であった。
【００４９】以上述べた実施形態は全て本発明を例示的
に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明
は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することがで
きる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均
等範囲によってのみ規定されるものである。
に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明
は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することがで
きる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均
等範囲によってのみ規定されるものである。
【００５０】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、ラッピング処理の前及び／又はラッピング処理と同
時にバーの内部応力を解放するためのエージング処理が
行われ、次いで、各スライダにレール及び負圧発生部が
形成される。このように、レール及び負圧発生部の形成
前にエージング処理を伴うラッピング処理が行われるの
で、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは内部の
残留歪及び接着剤の内部応力から解放されていることと
なり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結果、高
精度の微細で複雑な形状のレール及び負圧発生部を形成
できるので、超低浮上量を安定して提供できる磁気ヘッ
ドが得られる。しかも、エージング処理を伴うラッピン
グ処理がバー状態のままで行われるので、ラッピング処
理時のバーの変形及び位置ずれが発生しにくくなり、そ
の意味からもＡＢＳ面の高平坦度を確保できる。
ば、ラッピング処理の前及び／又はラッピング処理と同
時にバーの内部応力を解放するためのエージング処理が
行われ、次いで、各スライダにレール及び負圧発生部が
形成される。このように、レール及び負圧発生部の形成
前にエージング処理を伴うラッピング処理が行われるの
で、レール及び負圧発生部の形成時には、バーは内部の
残留歪及び接着剤の内部応力から解放されていることと
なり、高平坦度のＡＢＳ面を維持できる。その結果、高
精度の微細で複雑な形状のレール及び負圧発生部を形成
できるので、超低浮上量を安定して提供できる磁気ヘッ
ドが得られる。しかも、エージング処理を伴うラッピン
グ処理がバー状態のままで行われるので、ラッピング処
理時のバーの変形及び位置ずれが発生しにくくなり、そ
の意味からもＡＢＳ面の高平坦度を確保できる。
【図１】本発明の製造方法の一実施形態における各工程
を概略的に示す工程図である。
を概略的に示す工程図である。
【図２】図１に示すレールエッチング工程の詳細を示す
工程図である。
工程図である。
【図３】図１の実施形態における切り出されたバーの斜
視図である。
視図である。
【図４】図１の実施形態におけるバーを加工治具に接着
した様子を示す斜視図である。
した様子を示す斜視図である。
【図５】図１の実施形態におけるバーのエージング処理
の様子を示す斜視図である。
の様子を示す斜視図である。
【図６】図１の実施形態におけるバーのラッピング処理
の様子を示す斜視図である。
の様子を示す斜視図である。
【図７】図１の実施形態における複数のバーをレールエ
ッチング工程用の加工治具に接着した様子を示す斜視図
である。
ッチング工程用の加工治具に接着した様子を示す斜視図
である。
【図８】図１の実施形態におけるフォトレジスト膜の被
着処理の様子を示す図である。
着処理の様子を示す図である。
【図９】図１の実施形態におけるレールエッチング工程
の様子を示す断面図である。
の様子を示す断面図である。
【図１０】図１の実施形態により形成されたスライダピ
ース例を示す斜視図である。
ース例を示す斜視図である。
【図１１】ツイスト値の概念を説明するための図であ
る。
る。
【図１２】本発明の製造方法の他の実施形態における各
工程を概略的に示す工程図である。
工程を概略的に示す工程図である。
【図１３】本発明の製造方法のさらに他の実施形態にお
ける各工程を概略的に示す工程図である。
ける各工程を概略的に示す工程図である。
３０ 磁気変換素子 ３１ リード ３２ 入出力端子 ３３ バー ３３ａ ＡＢＳ面となる面、ＡＢＳ面 ３３ｂ レール部 ３３ｃ、４３ 負圧発生部 ３４ 接着剤 ３５、３８ 加工治具 ３６ ホットプレート ３７ 研磨部材 ３９ 可撓性フィルム ４０ フォトレジスト膜 ４０ａ 残されたレジスト膜 ４１ 熱ロール ４２ ＮＰＡＢ形状のレールのＡＢＳ面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鷹野 卓見 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティー ディーケイ株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 エアベアリング面を有するスライダを備
えた磁気ヘッドの製造方法であって、 エージング工程と、 最終ラッピング処理を含むラッピング工程と、 該最終ラッピング処理の後に行われるレール形成工程
と、 該レール形成工程の後に行われ、前記バーから個々のス
ライダに分離する切り出し工程とを含み、 前記エージング工程が、前記最終ラッピング処理の前及
び／又は前記最終ラッピング処理と同時に行われ、 前記レール形成工程が、フォトリソグラフィを用いたエ
ッチング処理を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項２】 前記フォトリソグラフィが、レジストフ
ィルムを用いたパターニングであることを特徴とする請
求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 前記エッチング処理が、ドライエッチン
グであることを特徴とする請求項１又は２に記載の製造
方法。 - 【請求項４】 前記ラッピング工程が、前記最終ラッピ
ング処理のみからなることを特徴とする請求項１から３
のいずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項５】 前記ラッピング工程が、前記最終ラッピ
ング処理を含む複数のラッピング処理からなることを特
徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の製造方
法。
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP9265153A JPH1186251A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 磁気ヘッドの製造方法 |
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| JP9265153A JPH1186251A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 磁気ヘッドの製造方法 |
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| JPH1186251A true JPH1186251A (ja) | 1999-03-30 |
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Family Applications (1)
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-
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- 1998-09-10 US US09/150,732 patent/US6081991A/en not_active Expired - Lifetime
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