JPS60177672A - ヘテロ接合バイポ−ラ半導体装置 - Google Patents
ヘテロ接合バイポ−ラ半導体装置Info
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- JPS60177672A JPS60177672A JP3246584A JP3246584A JPS60177672A JP S60177672 A JPS60177672 A JP S60177672A JP 3246584 A JP3246584 A JP 3246584A JP 3246584 A JP3246584 A JP 3246584A JP S60177672 A JPS60177672 A JP S60177672A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、エミッタに於けるバンド・ギャップがベース
に於けるそれよりも広くなっているヘテロ接合バイポー
ラ半導体装置に関する。
に於けるそれよりも広くなっているヘテロ接合バイポー
ラ半導体装置に関する。
従来技術と問題点
一般に、エミッタに於けるバンド・ギャップがベースに
於けるそれに比較して広くなっているヘテロ接合バイポ
ーラ半導体装置はエミッタの注入効率が極めて大きいこ
とが知られている。
於けるそれに比較して広くなっているヘテロ接合バイポ
ーラ半導体装置はエミッタの注入効率が極めて大きいこ
とが知られている。
第１図はへテロ接合バイポーラ半導体装置の従来例を表
す要部切断側面図である。
す要部切断側面図である。
図に於いて、■は半絶縁性ＧａＡｓ基板、２はｎ＋型Ｇ
ａＡｓコレクタ・コンタクト層、３はｎ型Ｇ ’ａ Ａ
ｓコレクタ層、４はｐ＋型ＧａＡｓベース層、５はｎ
型ＡｌＧａＡｓエミツタ層、６はｎ＋型ＧａＡｓエミッ
タ・コンタクト層、７は例えばイオン注入法で形成され
たｐ＋型ベース・コンタクト層域（外部ベースＮ域）、
８はｎ１型コレクタ・コンタクト領域、９はメサ・エツ
チングで形成した素子間分離部分、１ｏはベース電極、
１１はエミッタ電極、１２はコレクタ電極をそれぞれ示
している。
ａＡｓコレクタ・コンタクト層、３はｎ型Ｇ ’ａ Ａ
ｓコレクタ層、４はｐ＋型ＧａＡｓベース層、５はｎ
型ＡｌＧａＡｓエミツタ層、６はｎ＋型ＧａＡｓエミッ
タ・コンタクト層、７は例えばイオン注入法で形成され
たｐ＋型ベース・コンタクト層域（外部ベースＮ域）、
８はｎ１型コレクタ・コンタクト領域、９はメサ・エツ
チングで形成した素子間分離部分、１ｏはベース電極、
１１はエミッタ電極、１２はコレクタ電極をそれぞれ示
している。
このヘテロ接合バイポーラ半導体装置を製造するには、
例えば、分子ビーム・エピタキシャル成長（ｍｏｌｅｃ
ｕｌａｒ ｂｅａｍ ｅｐｉＬａｘｙ：ＭＢＥ）法を適
用し、半絶縁性ＧａＡｓ基板１上にｎ＋型ＧａＡｓコレ
クタ・コンタクト層２−ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３−ｐ
＋型ＧａＡｓベース層４−ｎ型ＡｌｌＧａＡｓエミツタ
層５−ｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６を順に
エピタキシャル成長させ、その後は、適当なパターニン
グ、イオン注入、電極形成など通常のウェハ・プロセス
工程を経て完成される。
例えば、分子ビーム・エピタキシャル成長（ｍｏｌｅｃ
ｕｌａｒ ｂｅａｍ ｅｐｉＬａｘｙ：ＭＢＥ）法を適
用し、半絶縁性ＧａＡｓ基板１上にｎ＋型ＧａＡｓコレ
クタ・コンタクト層２−ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３−ｐ
＋型ＧａＡｓベース層４−ｎ型ＡｌｌＧａＡｓエミツタ
層５−ｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６を順に
エピタキシャル成長させ、その後は、適当なパターニン
グ、イオン注入、電極形成など通常のウェハ・プロセス
工程を経て完成される。
ところで、このヘテロ接合バイポーラ半導体装置におい
ては、ｐ＋型ベース・コンタクト領域７を形成すると、
その底面はｎ＋型ＧａＡｓコレクタ・コンタクト層２に
近接するので、その間の耐圧は低いものとなる。
ては、ｐ＋型ベース・コンタクト領域７を形成すると、
その底面はｎ＋型ＧａＡｓコレクタ・コンタクト層２に
近接するので、その間の耐圧は低いものとなる。
これとは、別に、この種のへテロ接合バイポーラ半導体
装置では、ベース・コレクタ接合或いはベース・エミッ
タ接合に於ける寄生容量が問題になっている。
装置では、ベース・コレクタ接合或いはベース・エミッ
タ接合に於ける寄生容量が問題になっている。
第２図はへテロ接合バイポーラ半導体装置を第１図とは
別の切断面で表した要部切断側面図であり、第１図に関
して説明した部分と同部分は同記号で指示しである。
別の切断面で表した要部切断側面図であり、第１図に関
して説明した部分と同部分は同記号で指示しである。
第２図では、ｐ＋型ＧａＡｓベース層４の下にｎ型Ｇａ
Ａｓコレクタ層３が形成され且つ上にｎ型ＡｌｌＧａＡ
ｓエミツタ層５が形成された構成になっているが、これ
は、ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３とｎ型ＡｆＧａＡｓエミ
ッタ層５の配置を逆にした、所謂、反転形へテロ接合バ
イポーラ半導体装置としたもの、或いは、ｎ型Ａｊ！Ｇ
ａＡｓ半導体層−ｐ型ＧａＡｓエミッタ−ｎ型ＡＪＧａ
Ａｓ半導体層の順に成長させたダブル・ヘテロ接合バイ
ポーラ半導体装置の構造を採ったものも存在する。
Ａｓコレクタ層３が形成され且つ上にｎ型ＡｌｌＧａＡ
ｓエミツタ層５が形成された構成になっているが、これ
は、ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３とｎ型ＡｆＧａＡｓエミ
ッタ層５の配置を逆にした、所謂、反転形へテロ接合バ
イポーラ半導体装置としたもの、或いは、ｎ型Ａｊ！Ｇ
ａＡｓ半導体層−ｐ型ＧａＡｓエミッタ−ｎ型ＡＪＧａ
Ａｓ半導体層の順に成長させたダブル・ヘテロ接合バイ
ポーラ半導体装置の構造を採ったものも存在する。
従って、便宜上、ｐ＋型ＧａＡｓベース層４を第２層と
し、これを基準にして第２層の下側にある半導体層を第
１層、上側にある半導体層を第３層とすると、第１層と
第２層の接合面積（太線）は第２層と第３層の接合面積
に比較し、かなり大きくなり、その分、寄生容量も大に
なる。
し、これを基準にして第２層の下側にある半導体層を第
１層、上側にある半導体層を第３層とすると、第１層と
第２層の接合面積（太線）は第２層と第３層の接合面積
に比較し、かなり大きくなり、その分、寄生容量も大に
なる。
このように寄生容量が大であれば、半導体装置のスイッ
チング時間を速くすることができず、また、カット・オ
フ周波数も低くなる。
チング時間を速くすることができず、また、カット・オ
フ周波数も低くなる。
発明の目的
本発明は、エミッタに於けるバンド・ギャップがベース
に於けるそれ依りも広くなっているヘテロ接合バイポー
ラ半導体装置の耐圧を向上すると共に寄生容量を少なく
してスイッチング速度及びカット・オフ周波数を向上す
る。
に於けるそれ依りも広くなっているヘテロ接合バイポー
ラ半導体装置の耐圧を向上すると共に寄生容量を少なく
してスイッチング速度及びカット・オフ周波数を向上す
る。
発明の構成
本発明のへテロ接合バイポーラ半導体装置は、基板表°
面に選択的に形成された一導電型不純物導入領域と、該
基板上に形成されたコレクタ（或いはエミッタ）層及び
ベース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層と、前記−
導電型不純物導入領域上を避は前記ベース層を貫通して
形成された反対導電型ベース・コンタクト領域とを備え
てなり、且つ、エミッタに於けるバンド・ギャップがベ
ースに於けるそれよりも広くなっている構成を採り、或
いは、前記構成に加えて、前記反対導電型ベース・コン
タクト領域が前記ベース層を貫通して前記基板に到達す
るよう形成された構成を採っている。
面に選択的に形成された一導電型不純物導入領域と、該
基板上に形成されたコレクタ（或いはエミッタ）層及び
ベース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層と、前記−
導電型不純物導入領域上を避は前記ベース層を貫通して
形成された反対導電型ベース・コンタクト領域とを備え
てなり、且つ、エミッタに於けるバンド・ギャップがベ
ースに於けるそれよりも広くなっている構成を採り、或
いは、前記構成に加えて、前記反対導電型ベース・コン
タクト領域が前記ベース層を貫通して前記基板に到達す
るよう形成された構成を採っている。
この構成に依れば、従来のような、高濃度の一導電型コ
レクタ（或いはエミッタ）層と反対導電型ベース・コン
タクト層域（外部ベース領域）と近接は回避されて耐圧
が向上し、また、反対導電型ベース・コンタクト領域と
コレクタ（或いはエミッタ）層とで生成される接合の面
積は少なくなる′ので、その結果、寄生容量も小さくな
り、スイッチング速度及びカット・オフ周波数は共に向
上する。
レクタ（或いはエミッタ）層と反対導電型ベース・コン
タクト層域（外部ベース領域）と近接は回避されて耐圧
が向上し、また、反対導電型ベース・コンタクト領域と
コレクタ（或いはエミッタ）層とで生成される接合の面
積は少なくなる′ので、その結果、寄生容量も小さくな
り、スイッチング速度及びカット・オフ周波数は共に向
上する。
発明の実施例
第３図は本発明一実施例の要部切断側面図を表し、第１
図及び第２図に関して説明した部分と同部分は同記号で
指示しである。
図及び第２図に関して説明した部分と同部分は同記号で
指示しである。
図示の実施例が従来例と相違する点は、ｎ＋型コレクタ
・コンタクト層２に相当するｎ＋型コレクタ・コンタク
ト層２′は、半絶縁性ＧａＡｓ基板１の表面に選択的に
形成されていて、ｐ＋型ベース・コンタクト領域７は、
ｎ＋型゛コレクタ・コンタクト層２′を避けて形成され
ていることである。
・コンタクト層２に相当するｎ＋型コレクタ・コンタク
ト層２′は、半絶縁性ＧａＡｓ基板１の表面に選択的に
形成されていて、ｐ＋型ベース・コンタクト領域７は、
ｎ＋型゛コレクタ・コンタクト層２′を避けて形成され
ていることである。
この実施例を製造するには、半絶縁性ＧａＡｓ基板１に
イオン注入法を適用することに依ってｎ４型コレクタ・
コンタクト層２′を選択的に形成し、次いで、例えば、
ＭＢＥ法を適用することに依って半絶縁性ＧａＡｓ基板
１上にｎ型ＧａＡｓコレクタ層３を厚さ例えば４０００
（人〕に、その上にｐ＋型ＧａＡｓベース層４を厚さ
例えば５００〔人〕に、その上にｎ型Ａ Ｉｌｏ、＋
Ｇ ａ ６．７ Ａ ｓエミッタ層を厚さ例えば２００
０ （人〕に、その上にｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コン
タクト層６を厚さ例えば１０００ （人〕に、それぞれ
エピタキシャル成長させ、その後は、適当な六ターニン
グ、イオン注入、電極形成など通常のウェハ・プロセス
工程を経て完成すれば良い。因に、ｐ＋型ＧａＡｓベー
ス・コンタクト領域７を形成する場合に用いた不純物は
ベリリウム（Ｂｅ）、そして、その濃度はＩ Ｘ １０
” （ａｍ−”）程度である。また、ｎ＋型コレクタ
・コンタクト領域８を形成する場合に用いた不純物はシ
リコン、そして、その濃度は６×１０１１０１１１（ｃ
１程度である。更にまた、ベース電極ＩＯはチタン／白
金／金（Ｔｉ／Ｐｔ／Ａｕ）で、エミッタ電極１１は金
・ゲルマニウム／金（Ａｕ−Ｇｅ／Ａｕ）で、コレクタ
電極は金・ゲルマニウム・金（Ａｕ−Ｇｅ−Ａｕ）でそ
れぞれ構成されている。
イオン注入法を適用することに依ってｎ４型コレクタ・
コンタクト層２′を選択的に形成し、次いで、例えば、
ＭＢＥ法を適用することに依って半絶縁性ＧａＡｓ基板
１上にｎ型ＧａＡｓコレクタ層３を厚さ例えば４０００
（人〕に、その上にｐ＋型ＧａＡｓベース層４を厚さ
例えば５００〔人〕に、その上にｎ型Ａ Ｉｌｏ、＋
Ｇ ａ ６．７ Ａ ｓエミッタ層を厚さ例えば２００
０ （人〕に、その上にｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コン
タクト層６を厚さ例えば１０００ （人〕に、それぞれ
エピタキシャル成長させ、その後は、適当な六ターニン
グ、イオン注入、電極形成など通常のウェハ・プロセス
工程を経て完成すれば良い。因に、ｐ＋型ＧａＡｓベー
ス・コンタクト領域７を形成する場合に用いた不純物は
ベリリウム（Ｂｅ）、そして、その濃度はＩ Ｘ １０
” （ａｍ−”）程度である。また、ｎ＋型コレクタ
・コンタクト領域８を形成する場合に用いた不純物はシ
リコン、そして、その濃度は６×１０１１０１１１（ｃ
１程度である。更にまた、ベース電極ＩＯはチタン／白
金／金（Ｔｉ／Ｐｔ／Ａｕ）で、エミッタ電極１１は金
・ゲルマニウム／金（Ａｕ−Ｇｅ／Ａｕ）で、コレクタ
電極は金・ゲルマニウム・金（Ａｕ−Ｇｅ−Ａｕ）でそ
れぞれ構成されている。
第３図に関して説明した実施例によれば、第１図・に見
られる従来例に於ける耐圧の問題は解消され、それに加
えて、各素子に於けるｎ＋型コレクタ・コンタクト層２
′を適当に接続しておけば配線として利用することが可
能である。
られる従来例に於ける耐圧の問題は解消され、それに加
えて、各素子に於けるｎ＋型コレクタ・コンタクト層２
′を適当に接続しておけば配線として利用することが可
能である。
第４図は本発明に於ける他の実施例を表す要部切断側面
図であり、第１図乃至第３図に関して説明した部分と同
部分は同記号で指示しである。
図であり、第１図乃至第３図に関して説明した部分と同
部分は同記号で指示しである。
図示の実施例が第１図及び第２図に関して説明した従来
例と相違する点は、ｎ＋型コレクタ・コンタク］・層２
′が半絶縁性ＧａＡｓ基板１の表面に選択的に形成され
且つｐ＋型ベース・コンタクト領域７がｎ＋型コレクタ
・コレクタ層２′を避けた位置に形成されていることに
あることは勿論であるが、その外に第３図に示した実施
例とも相違している。
例と相違する点は、ｎ＋型コレクタ・コンタク］・層２
′が半絶縁性ＧａＡｓ基板１の表面に選択的に形成され
且つｐ＋型ベース・コンタクト領域７がｎ＋型コレクタ
・コレクタ層２′を避けた位置に形成されていることに
あることは勿論であるが、その外に第３図に示した実施
例とも相違している。
即ち、ｐ＋型ベース・コンタクト領域７がｐ＋型ＧａΔ
Ｓベース層４を貫通し半絶縁性ＧａＡｓ恭仮１に達して
いる。
Ｓベース層４を貫通し半絶縁性ＧａＡｓ恭仮１に達して
いる。
このようにすると、第２図の従来例で説明した第１層と
第２層の接合面積に相九する部分は第４図に於いても太
線で示しであるが、かなり小さなものとなってしまい、
そして、実質的に寄生容量として作用する部分は矢印Ｓ
Ｃで指示した部分のみである。
第２層の接合面積に相九する部分は第４図に於いても太
線で示しであるが、かなり小さなものとなってしまい、
そして、実質的に寄生容量として作用する部分は矢印Ｓ
Ｃで指示した部分のみである。
第４図に関して説明した実施例によれば、第２図に見ら
れる従来例に於ける寄生容量の問題は実質的に解消され
、高速性及びカット・オフ周波数は向上する。
れる従来例に於ける寄生容量の問題は実質的に解消され
、高速性及びカット・オフ周波数は向上する。
第５図乃至第８図は第４図に見られる実施例を製造する
場合を解説する為の工程要所に於ける半導体装置の要部
切断側面図であり、次ぎに、これ等の図を参照しつつ説
明する。
場合を解説する為の工程要所に於ける半導体装置の要部
切断側面図であり、次ぎに、これ等の図を参照しつつ説
明する。
第５図参照
（ａ） 半絶縁性Ｇ ａ Ａ Ｓ基板１に適当なマスク
を形成した後、イオン注入法を適用し、例えば、シリコ
ン・イオンをドーズ量２ Ｘ １０ ” ［ｃｍ、”）
程度に打ち込み、次ぎに、例えば、温度７５０〔℃〕で
時間２０〔分〕間のアニールを行い、ｎ＋型コレクタ・
コンタクト層２′を深さ２０００〜５０００ （人〕程
度に形成する。
を形成した後、イオン注入法を適用し、例えば、シリコ
ン・イオンをドーズ量２ Ｘ １０ ” ［ｃｍ、”）
程度に打ち込み、次ぎに、例えば、温度７５０〔℃〕で
時間２０〔分〕間のアニールを行い、ｎ＋型コレクタ・
コンタクト層２′を深さ２０００〜５０００ （人〕程
度に形成する。
（ｂｌ−ＭＢＥ法を適用し、ｎ型Ｇ ａ Ａ ｓコレク
タ層３を厚さ例えば４０００ （人〕程度に形成し、引
続き、ｐ＋型ＧａＡｓペース層４、ｎ型ＡｆｆＧａＡｓ
エミツタ層５、ｎ＋型ＧａＡｓエミンタ・コンタクト層
６をそれぞれ厚さ例えば５００ 〔人）、２０００ （
人）、１０００ （人〕−程度に形成する。
タ層３を厚さ例えば４０００ （人〕程度に形成し、引
続き、ｐ＋型ＧａＡｓペース層４、ｎ型ＡｆｆＧａＡｓ
エミツタ層５、ｎ＋型ＧａＡｓエミンタ・コンタクト層
６をそれぞれ厚さ例えば５００ 〔人）、２０００ （
人）、１０００ （人〕−程度に形成する。
（Ｃ１通常のフォト・リソグラフィ技術を適用し、ｎ＋
型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６のパターニングを
行う。
型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６のパターニングを
行う。
第６図参照
（ｄｌ イオン注入法を適用し、例えば、ベリリウム（
Ｂｅ）イオンをドーズ量ｌ Ｘ Ｉ Ｑ ” （ｗ−’
）程度に打ち込み、温度７２０（”Ｃ）、時間４０〔分
〕程度のアニールを行い、ｐ＋型ベース・コンタクト領
域７を形成する。
Ｂｅ）イオンをドーズ量ｌ Ｘ Ｉ Ｑ ” （ｗ−’
）程度に打ち込み、温度７２０（”Ｃ）、時間４０〔分
〕程度のアニールを行い、ｐ＋型ベース・コンタクト領
域７を形成する。
第７図参照
（ｅｌ 通常のフォト・リソグラフィ技術を適用するこ
とに依り、ｎ型Ａｊ！ＧａＡｓエミッタ層５、ｐ＋型Ｇ
ａＡｓベース層４、ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３のそれぞ
れを選択的にエツチングし、半絶縁性ＧａＡｓ基板１の
表面を選択的に露出させ、る。
とに依り、ｎ型Ａｊ！ＧａＡｓエミッタ層５、ｐ＋型Ｇ
ａＡｓベース層４、ｎ型ＧａＡｓコレクタ層３のそれぞ
れを選択的にエツチングし、半絶縁性ＧａＡｓ基板１の
表面を選択的に露出させ、る。
第８図参照
（ｆｌ 第３図について説明した実施例と同様に電極１
０．１１．１２を形成する。
０．１１．１２を形成する。
これ等の電極１０乃至１２はそれぞれ材料が相違するの
で、別々に形成する必要がある。
で、別々に形成する必要がある。
第４図参照
（ｇｌ 通常の技法にて、素子間分離の為のエツチング
を行って完成する。
を行って完成する。
前記実施例では、ベース電極をＡｊ！ＧａＡｓ上に形成
する構造にしであるが、そのようにするとコンタクト抵
抗が高（なる場合がある。
する構造にしであるが、そのようにするとコンタクト抵
抗が高（なる場合がある。
これを回避するには、例えば、第３図及び第４図に見ら
れるベース電極ｌＯの下地になっているＡｊ！ＧａＡｓ
をエツチングに依って除去したり、或いは、ベース電極
１０の下にｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６と
同様にＧａＡｓのコンタクト層を介在させるようにして
も良く、その場合′は、ベリリウム・イオンの注入を該
ＧａＡｓのコンタクト層上から行うことができる。
れるベース電極ｌＯの下地になっているＡｊ！ＧａＡｓ
をエツチングに依って除去したり、或いは、ベース電極
１０の下にｎ＋型ＧａＡｓエミッタ・コンタクト層６と
同様にＧａＡｓのコンタクト層を介在させるようにして
も良く、その場合′は、ベリリウム・イオンの注入を該
ＧａＡｓのコンタクト層上から行うことができる。
発明の効果
本発明のへテロ接合バイポーラ半導体装置は、基板表面
に選択的に形成された一導電型不純物導入領域と、該基
板上に形成されたコレクタ（或いはエミッタ）層及びベ
ース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層と、前記−導
電型不純物導入領域上を避は前記ベース層を貫通して形
成された反対導電型ベース・コンタクト領域とを備えて
なり、且つ、エミッタに於けるバンド・ギャップがベー
スに於けるそれよりも広くなっている構成を採り、或い
は、前記構成に加えて、前記反対導電型ベース・コンタ
クト領域が前記ベース層を貫通して前記基板に到達する
よう形成さた構成になっている。
に選択的に形成された一導電型不純物導入領域と、該基
板上に形成されたコレクタ（或いはエミッタ）層及びベ
ース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層と、前記−導
電型不純物導入領域上を避は前記ベース層を貫通して形
成された反対導電型ベース・コンタクト領域とを備えて
なり、且つ、エミッタに於けるバンド・ギャップがベー
スに於けるそれよりも広くなっている構成を採り、或い
は、前記構成に加えて、前記反対導電型ベース・コンタ
クト領域が前記ベース層を貫通して前記基板に到達する
よう形成さた構成になっている。
この構成によれば、従来のこの種半導体装置に於けるよ
うな、高濃度の一導電型コレクタ（或いはエミッタ）層
と反対導電型ベース・コンタクト６ｆｆＪ！ｉ（外部ベ
ース領域）との近接は回避されるので耐圧は向上し、ま
た、反対導電型ベース・コンタクト領域とコレクタ（或
いはエミッタ）層とで生成されるｐｎ接合の面積は少な
（なり、ことに、寄生容量を生ずるｐｎ接合の面積は低
減されるので、スイッチング速度及びカット・オフ周波
数は向上する。
うな、高濃度の一導電型コレクタ（或いはエミッタ）層
と反対導電型ベース・コンタクト６ｆｆＪ！ｉ（外部ベ
ース領域）との近接は回避されるので耐圧は向上し、ま
た、反対導電型ベース・コンタクト領域とコレクタ（或
いはエミッタ）層とで生成されるｐｎ接合の面積は少な
（なり、ことに、寄生容量を生ずるｐｎ接合の面積は低
減されるので、スイッチング速度及びカット・オフ周波
数は向上する。
第１図及び第２図は従来例の要部切断側面図、第３図及
び第４図は本発明に於けるそれぞれ異なる実施例の要部
切断側面図、第５図乃至第８図は第４図に示した実施例
を製造する場合について説明する為の工程要所に於ける
半導体装置の要部切断側面図をそれぞれ表している。 図に於いて、１は半絶縁性Ｇ ａ Ａ ｓ基板、２はｎ
＋型ＧａＡｓコレクタ・コンタクト層、２′はｎ＋型Ｇ
ａＡｓコレクタ・コンタクト層、３はｎ型ＧａＡｓコン
タクト層、４はｐ＋型ＧａＡｓベース層、５はｎ型Ａβ
ＧａＡｓエミッタ層、６はｎ＋型ＧａＡｓエミンタ・コ
ンタクト層、７は例えばｐ＋型ベース・コンタクト領域
（外部ベース領域）、８はｎ＋型コレクタ・コンタクト
領域、９′は素子間分離部分、ｌＯはベース電極、１１
はエミッタ電極、１２はコレクタ電極をそれぞれ示して
いる。 第１図 第２図 １ 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 １
び第４図は本発明に於けるそれぞれ異なる実施例の要部
切断側面図、第５図乃至第８図は第４図に示した実施例
を製造する場合について説明する為の工程要所に於ける
半導体装置の要部切断側面図をそれぞれ表している。 図に於いて、１は半絶縁性Ｇ ａ Ａ ｓ基板、２はｎ
＋型ＧａＡｓコレクタ・コンタクト層、２′はｎ＋型Ｇ
ａＡｓコレクタ・コンタクト層、３はｎ型ＧａＡｓコン
タクト層、４はｐ＋型ＧａＡｓベース層、５はｎ型Ａβ
ＧａＡｓエミッタ層、６はｎ＋型ＧａＡｓエミンタ・コ
ンタクト層、７は例えばｐ＋型ベース・コンタクト領域
（外部ベース領域）、８はｎ＋型コレクタ・コンタクト
領域、９′は素子間分離部分、ｌＯはベース電極、１１
はエミッタ電極、１２はコレクタ電極をそれぞれ示して
いる。 第１図 第２図 １ 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 １
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板表面に選択的に形成された一導電型不純物導入
領域と、該基板上に形成されだコレクタ（或いはエミッ
タ）層及びベース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層
と、前記−導電型不純物導入領域上を避は前記ベース層
を貫通して形成された反対導電型ベース・コンタクト領
域とを備えてなり、且つ、エミッタに於けるバンド・ギ
ャップがベースに於けるそれよりも広くなっていること
を特徴とするヘテロ接合バイポーラ半導体装置。 ２、基板表面に選択的に形成された一導電型不純物導入
領域と、該基板上に形成されたコレクタ（或いはエミッ
タ）層及びベース層及びエミッタ（或いはコレクタ）層
と、前記−導電型不純物導入領域上を避は前記ベース層
を貫通して前記基板に到達するよう形成された反対導電
型ベース・コンタクト領域とを備えてなり、且つ、エミ
ッタに於けるバンド・ギャップがベースに於けるそれよ
りも広くなっていることを特徴とするヘテロ接合バイポ
ーラ半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3246584A JPS60177672A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | ヘテロ接合バイポ−ラ半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3246584A JPS60177672A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | ヘテロ接合バイポ−ラ半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177672A true JPS60177672A (ja) | 1985-09-11 |
| JPH0460340B2 JPH0460340B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12359714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3246584A Granted JPS60177672A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | ヘテロ接合バイポ−ラ半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60177672A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6281759A (ja) * | 1985-10-05 | 1987-04-15 | Fujitsu Ltd | ヘテロ接合型バイポ−ラ・トランジスタ構造 |
| JPS62295459A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP3246584A patent/JPS60177672A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6281759A (ja) * | 1985-10-05 | 1987-04-15 | Fujitsu Ltd | ヘテロ接合型バイポ−ラ・トランジスタ構造 |
| JPS62295459A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460340B2 (ja) | 1992-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |