JPS6017448B2 - アミノメチル化ポリメタヒドロキシスチレン系高分子電解質の架橋物の製法 - Google Patents

アミノメチル化ポリメタヒドロキシスチレン系高分子電解質の架橋物の製法

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JPS6017448B2
JPS6017448B2 JP56152284A JP15228481A JPS6017448B2 JP S6017448 B2 JPS6017448 B2 JP S6017448B2 JP 56152284 A JP56152284 A JP 56152284A JP 15228481 A JP15228481 A JP 15228481A JP S6017448 B2 JPS6017448 B2 JP S6017448B2
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polymetahydroxystyrene
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寛 藤原
正明 関谷
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【発明の詳細な説明】 本発明は新規な高分子電解質の製法に係り、詳しくは第
3級ァミノメチル基をベンゼン該に有するポリメタヒド
ロキシスチレンおよび該重合体の第4級アンモニウムの
塩架橋物の製法に係るものである。
本発明の目的はフェノール基を有する高分子量の架薪喬
絹状構造を有する高分子電解質の製法を提供するにある
本発明の重合体の架橋される前の基本構造は下記の1ま
たは0で示され、0で表される重合体は1より誘導され
る。
上式においてR1,R2およびR3は炭素数1〜20、
好ましくは1〜4の直鎖または分枝鎖ァルキル基、シク
ロァルキル基、アルケニル基、フェニル基、置換または
未置換ペンジル基あるいはRIN< がピ。
ール、ピ。リジン、イミダゾーR2ル、インドール、ピ
ベリジン、モルホリン等の複索環構造の基あるいはジヱ
タノールアミン、ジプロバノールアミン等のジアルカノ
ールアミンあるいはィミノジ酢酸である。
Xは塩素、臭素または沃素あるいはROS03(Rはメ
チル基、エチル基などのアルキル基である)であり、P
は0より大で1.轟きの数であり、通常の反応条件では
約1であり、nは3以上である。本発明の高分子電解質
は上記1又はロで示される高分子の架橋物である一般的
に述べて、本発明方法で得られる高分子電解質は構造上
の特徴から導電性塗料剤、帯電防止剤、防雲剤、薬剤、
凝集剤、安定剤としての用途が考えられるほか殊に高分
子マトリックス材、ポリィオン鍔合体原料、イオン交換
体などに利用される有用な物質である。
従来、第3級アミノ基あるいは第4級アンモニウム基を
有するフェノール系重合体の例としてジメチルアミノメ
チルフェノールをホルマリンで縮合させた熱硬化性樹脂
が報告されているが、本発明のビニル重合によるフェノ
ール系重合体については報告されたものはない。
フェノール・ホルマリン系樹脂と〈らべて、本発明の方
法によればきわめて高い分子量の重合体が得られること
が特徴である。
すなわち、フェノール・ホルマリン系樹脂は硬化性樹脂
であるから可溶性のプレポリマーとしてはきわめて低分
子量のものしか得られない。また応用的にも、イオン交
換膜としても縮合型の樹脂は重合型の樹脂にくらべて安
定性において劣ることが知られて居り、これまで企業化
されていない。したがって、本発明方法で得られた重合
体の架橋によって得られるイオン交換膜はすぐれた性能
を示すことが予期される。更に本発明の重合体はフェノ
ール性OH基を有するために接着性が良好でありしたが
って表面処理剤、殊に導電性処理剤、としての効果が大
であることも期待される。本発明の重合体の骨格となる
ポリメタヒドロキシスチレンはメタヒドロキシスチレン
をラジカル、熱あるいはカチオン重合することによって
調製される重合条件を適当に選択することにより、重量
平均分子量が数百から25方程度の重合体を得ることが
できる。
さらに高分子量のポリメタヒドロキシスチレンを必要と
する場合にはアシルオキシスチレン、たとえばアセトオ
キシスチレン、をラジカル重合したち酸またはアルカリ
で加水分解することにより分子量100方以上の高重合
体を得るこせができる。そのほか、原料重合体を部分的
に水添して一部をシクロヘキサノール基としたものおよ
びポリヒドロキシスチレンとフェノール、エチルフェノ
ール等を部分的にホルマリンで共縮合させたものも使用
することができる。本発明においてはこれらをポリメタ
ヒドロキシスチレン変成物と称する。つぎにポリメタヒ
ドロキシスチレンまたはその変成物から本発明の高分子
電解質を合成する方法について記載する。
本発明方法の第1工程であるポリメタヒドロキシスチレ
ソの第3級アミノメチル化反応は単量体のフェノールに
ついては公知であるアルデヒドと第2級アミンを用いる
マンニツヒ反応による。溶媒として通常アルカリ水溶液
、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール
等のアルコール類あるいは酢酸、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒が用い
られる。ポリメタヒドロキシスチレンは分子量100万
以上の高重合体であっても上記溶媒に可溶であるのでマ
ンニッヒ反応は高重合体であっても円滑に進行し重合度
によって規制されることはない。この反応に用いられる
アルデヒドとしてはホルマリン(水溶液あるいはアルコ
ール溶液)、パラホルムアルデヒド、各種重合度のオキ
シメチレングリコール類が用いられる。
本発明においてはこれらをホルムアルデヒド性反応体と
称する。一方アミンとしてはジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ
アリルアミン、ジブチルアミン、ジフヱニルアミン、N
−メチルアニリン等のアミンあるいはピロール、ピロリ
ジン、イミダゾール、インゾール、ピベリジン、モルホ
リン等の榎素環アミン化合物あるいはジェタノールアミ
ン、ジプロパノールアミン等のジアルカノールアミンあ
るいはィミノジ酢酸が用いられる。これらはすべて第2
級アミンである。反応に際し、アミンとアルデヒドとの
仕込比は3/2〜2/3が望ましく、両者の重合体に対
する仕込比は必要とする置換基の導入率に応じて調節さ
れる。
本反応をアルカリ水溶液中で実施する場合は反応温度が
8000以上になるとゲル状重合体が副生しやすい。ま
たアルコール溶液中でもホルマリン水溶液を使用すると
ゲル状重合体が畠0生することがあるので、一般的には
パラホルムアルデヒドを使用するのが望ましい。本反応
の温度は0℃〜200℃の範囲であり、好ましくは室温
から15ぴ○の範囲で実施される。
反応時間はほとんどの場合4報時間以内で充分である。
反応終了の際に、反応生成物が反応溶液から沈澱してい
る場合にはこれを炉別し、溶解している場合には溶媒を
減圧除去するか、あるいは非溶剤を用いて沈澱させ炉別
するのが一般である。
分離した重合体は室温ないし50午0で減圧乾燥するこ
とにより白色ないし淡褐色の粉末状物質として得られる
。上記マンニツヒ反応によって調製された第3級アミノ
メチル化ポリメタヒドロキシスチレンは塩酸、硫酸、リ
ン酸等の無機酸あるし、はギ酸、酢酸、クロル酢酸、マ
レィン酸等の有機酸の水溶液中で室温で容易に塩を形成
し一般には水落性を示す。
さらにここで得られた第3級アミノメチル化ポリメタヒ
ドロキシスチレンにそれ自体は公知のハロゲン化炭化水
素及びその誘導体を用いるメンシュトキシ反応またはジ
メチル硫酸、ジェチル硫酸等のジアルキル硫酸を適用す
ることにより第4級アンモニウム塩をうろことができる
ここで用いられるハロゲン化炭化水素またはその誘導体
としては炭素数が1〜20の塩化、臭化または沃化アル
キル;塩化、臭化または沃化アルケニル;置換または未
置換の塩化、臭化または沃化ペンジル等でありクロル酢
酸およびクロルヒドリドンも用いられる。本反応は通常
用いられるハロゲン化物の反応性に応じて重合体の良溶
媒であるアルコール、ケトン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホオキシド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミド等の中から溶媒が選択され室温
から150ooの温度範囲で実施される。反応性は沃化
物、臭化物、塩化物の順に低下する。塩化オクタデシル
はアルコール溶媒中でほとんど反応性は認められないが
へキサメチルリン酸トリアミドのような極性の高い溶媒
を用いることによって反応させることができる。反応生
成物はマンニツヒ反応の場合と同様に炉過または酢酸エ
チルの如き非溶媒を用いて沈澱させるなどして回収する
上記の如くして得られた第3級アミノメチル化ポリメタ
ヒドロキシスチレンあるいは第4級アンモニウムメチル
化ポリメタヒドロキシスチレンの架橋は下記の方法で容
易に行なえる。
すなわち可溶性の第4級アンモニウム塩を出発原料とす
る場合には、ェポキシ樹脂を用いるこせにより効果的に
架橋させることが可能である。
この方法を用いれば第3級ァミンを原料として架橋し、
第3級ァミンの架橋物を得ることも可能である。ェポキ
シ樹脂としてビスフェノール系ジグリシジルェーテルを
用いた場合には温度100〜150qoで硬化させるこ
とができ、この際硬化促進剤として公知のアミンを用い
ることができるがこれは必ずしも必要ではない。上記架
橋剤と本重合体の共通溶媒であるアルコール、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド等を用いてキャスチ
ング法によりフィルムまたはシート状の成型品を得るこ
とが可能で、また架橋剤と本重合体を濠練したのちホッ
トプレスにより成型品を得ることができる。
得られた成型品は淡黄ないし淡褐色で透明なもろい樹脂
である。以下実施例により本発明の方法を具体的に例示
する。以下の実施例において実施例1〜13は本発明方
法の最初の工程である第3級アミノメチル化反応、実施
例14〜22は第3級アミノメチル化物の第4級化工程
、実施例23と24は第3級アミノメチル化物及び第4
級アンモニウムメチル化物のェポキシ樹脂による架橋工
程の例示である。
実施例 1 かきまぜ機を備えた容量200ccの耐圧硝子製反応容
器中で分子量5000のポリメタヒドロキシスチレン5
夕を100ccのエタノールに溶解させたのちパラホル
ムアルデヒド3.8夕およびジメチルアミン3.8夕を
含む40%水溶液を加えて室温で約1時間かきまぜたの
ち100℃で約8時間反応させた。
反応生成物を室温まで冷却してから大量の水中に投じて
重合体を沈澱、回収した。3000〜40qoで約2岬
時間乾燥することにより白色ないし淡褐色の粉末状重合
体7.4夕が得られた。
この重合体は元素分析の結果、N含有率8.93%であ
り、IRおよび下記のNMR分析の結果とからジメチル
アミノメチル化ポリ−mーヒドロキシスチレンであるこ
とが確認された。ジメチルアミノメチル基の導入率はヒ
ドロキシスチレン単位あたり1.21個である。NMR
結果:10%重アセトン中乳℃において8=2.25脚
(細,NC&)、6;3.52脚(2日,マーCH2N
)が認められた。実施例 2 実施例1と同じ方式にしたがって、分子量110方のポ
リメタヒドロキシスチレン5夕を150ccのエタノー
ルに溶解させたのち、パラホルムアルデヒド3.8夕お
よびジメチルアミン56夕(40%エタノール溶液)を
加え耐圧反応容器中で温度を90℃に保持して8時間反
応させた。
反応生成物を実施例1と同様に処理することにより白色
粉末状重合体7.0夕を得た。
得られた重合体は窒素8.06%を含有し、ジメチルア
ミノメチル基の導入率はヒドロキシスチレン単位あたり
1.0針固である。実施例 3 ポリメタヒドロキシスチレンとエチルフェノールをホル
マリンで部分共縮合させて得られた分子量約5000の
重合体を実施例1と同様に反応を行ないN含有率7.5
%の淡褐色状重合体6.5夕を得た。
実施例 4ポリメタヒドロキシスチレンの部分水添体(
水添率25%)について実施例1と同様に反応を行ない
N含有率7.0%の淡褐色粉末状重合体6.0夕を得た
実施例 5〜13 ポリメタヒドロキシスチレン5.0夕を用いて各種の第
2級アミンを表1に示す量およびパラホルムアルデヒド
3.8夕を用いエタノール、テトラヒドロフランあるい
はアルカリ水溶液(100cc)中で反応させた結果を
反応条件とともに表1に示す。
表1 実施例 14 実施例2で調製したジメチルアミノメチル化ポリメタヒ
ドロキシスチレン3夕を約100ccのメタノ−ルに溶
解させたのち臭化メチ約3夕を加え50℃で3時間反応
させた。
反応液を室温までもどしてから酢酸エチル中に投入する
ことにより白色状の水溶性重合体を得た。元素分析によ
れば乾燥後の重合体中のN含有率は4.85%、プロム
含有率は27%であった。この重合体はmおよびNMR
分析(重水中私℃で6=3.2劫四(鮒,N+C瓜)、
6=4.6の肌(班,◇−CH2N+))の結果、第4
級アンモニウム塩であることを確認した。ブロム含有率
から原料重合体の第3級アミノ基に対する反応率は98
%と計算された。実施例 15 実施例2で調製したジメチルアミノメチル化ポリーメタ
ーヒドロキシスチレン3夕を約100の‘のメタノール
に溶解させた後、塩化ペンジル約6夕を加え6ず0で3
時間反応させた。
反応液を室温までもどしてからトルェン中に投入するこ
とにより白色状の水溶性重合体を得た。元素分析によれ
ば、乾燥後の重合体中のN含有率は4.32%、塩素含
有率は11.0%であった。この重合体はIR、および
NMR分析の結果、第4級アンモニウム塩であることを
確認したし。塩素含有率から原料重合体の第3級ァミ/
基に対する反応率は100%と計算された。実施例 1
6〜21 ポリーメターヒドロキシスチレン(分子量3000)を
原料として調製したジメチルアミノメチル化ポリーメタ
ーヒドロキシスチレンを各種のハロゲン化物で4級化し
た結果を反応条件とともに表2に示す。
表2 上記中Aは溶解性の良好であることを示し、Bは余り良
好でないことを示す。
実施例 22ボリーメターヒドロキシスチレン(分子量
16500)を原料として調製したジメチルアミノメチ
ル化ポリーメターヒドロキシスチレン(ヒドロキシスチ
レン単位当り1.の固のジメチルアミノメチル基を有す
る)2夕を50ccのメタノールに溶解させ、ジメチル
硫酸約3ccを加え、65℃で2時間反応させたし。
反応液を酢酸エチルに投入することにより白色粉末状の
水溶液重合体2.7夕を得た。この重合体はIR,NM
R分析の結果と元素分析(N=4.4%、S=9.9%
)の結果よりC比OS03−を対イオンとする第4級ア
ンモニウム塩であることを確認した。反応率は約100
%であつた。実施例 23 ジメチルアミノメチル化ポリメタヒドロキシスチレンの
ペンジルクロリドによる水溶性第4級化物とェポキシ価
184−194のピスフェノールジグリシジルェーテル
を4:1(重量比)の割合で混練したのち、スベーサー
上で120午0に加熱し圧力50k9/地で4時間プレ
スすることにより淡褐色透明の成型品が得られた。
この成型品のメタノール抽出残澄は75%(硬化率)で
あった。実施例 24 ジメチルアミ/メチル化ポリメタヒドロキシスチレンと
ェポキシ価184一194のビスフェノールジグリシジ
ルェーテルを2:1の割合で混練したのち、実施例23
と同様に圧縮成型機を用いて120℃、50k9/めで
1時間、180qo、50k9/めで約3時間プレスす
ることにより淡褐色透明の成型品が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリメタヒドロキシスチレンまたはその変成物にホ
    ルムアルデヒド性反応体及び第2級アミンを作用させて
    アミノメチル化し第3級アミノメチル化ポリメタヒドロ
    キシスチレンまたはその変成物を製し、次いで得られた
    生成物をエポキシ樹脂と反応させることから成る該第3
    級アミノメチル化ポリメタヒドロキシスチレン系高分子
    電解質の架橋物の製法。 2 ポリメタヒドロキシスチレンまたはその変成物にホ
    ルムアルデヒド性反応体及び第2級アミンを作用させて
    アミノメチル化し第3級アミノメチル化ポリメタヒドロ
    キシスチレンまたはその変成物を製しついで得られた生
    成物をモノハロゲン化物および/またはジアルキル硫酸
    と反応させて第4級化物となしそして該第4級化物をエ
    ポキシ樹脂と反応させることから成る第4級アンモニウ
    ムメチル化ポリメタヒドロキシスチレン系高分子電解質
    の架橋物の製法。
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