JPS60172973A - ベンゾトリアゾール誘導体と他の添加剤を含有する安定剤系及び該安定剤系を含有する潤滑剤 - Google Patents

ベンゾトリアゾール誘導体と他の添加剤を含有する安定剤系及び該安定剤系を含有する潤滑剤

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JPS60172973A
JPS60172973A JP59272712A JP27271284A JPS60172973A JP S60172973 A JPS60172973 A JP S60172973A JP 59272712 A JP59272712 A JP 59272712A JP 27271284 A JP27271284 A JP 27271284A JP S60172973 A JPS60172973 A JP S60172973A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は潤滑剤添加剤を含有する安定剤系及びその使用
法に関する。
潤滑剤が、応力の作用の有無には全くかかわらず時間の
経過に伴って変化することが知られている。これらの変
化に抵抗する為、並びに潤滑油の性能に関する増大した
条件を満たす為には、通常、例えば潤滑剤の酸化性及び
腐食性を改良する為の様々な添加剤、その中でも特に潤
滑剤の酸化を促進する溶解した金属塩を不活性化する、
または金属の表面に保獲膜を形成する金属不活性化剤が
鉱物性及び合成間滑油、圧媒液並びに潤滑グリースに添
加される。
ベンズトリアゾール及びその誘導体は、非鉄金属、特に
銅に対する金属不活性化剤として既に数年来、公知であ
る。それらは潤滑剤及び圧媒液に添加剤として添加され
ている。しかしながら、その利用に関しては低い油溶性
に起因する制限がある。高い油溶性を有する化合物はベ
ンゼン環の適当な置換により製造され得る。もう１つの
問題点は添加する他の添加剤、例えば様々な安定剤系に
多目的添加剤として使用し得るアミンホスフェートとの
相溶性である。金属不活性化剤として、特定の合成法及
び精製法により得られるベンズトリアゾール誘導体を含
有し、そして結果として改良された有効性を示す組成物
が日本国特公昭５Ｂ−５２５９３号　に記載され、特許
請求が為されている。また上記特許−出願にはこれらの
ベンズトリアゾール誘導体が追加される添加剤、特に酸
化防止剤との配合剤中でも機能することも記載されてい
るが、酸化防止剤は具体的に特定されていない。
本発明において、かなり特定される酸化防止剤の小群よ
り選ばれる酸化防止剤と、ベンゼン環の４位及び／また
は５位がメチル基で置換された化合物１−〔ジー（２−
エチルヘキシル）−アミノメチルクーベンズトリアゾー
ルとの配合剤が、鉱物性または合成潤滑油、圧媒液また
は潤滑グリースを基剤とする潤滑剤に対して、金属不活
性化剤との意外な相乗効果を示すことが見出された。ま
た、上記のベンズトリアゾール化合物はアミンホスフェ
ート型の添加剤との相溶性に関してめられる条件を充分
に満たすカ、コのことは他のベンズトリアゾール誘導体
の場合には如何なる意味でも決して自明ではあシ得ない
。
本発明はベンゼン環の４位及び／または５位がメチル基
で置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミ
ノメチルクーベンズトリアゾール、並びにペンタエリト
リチル　テトラキス−（３−（５，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシ−フェニル）−グロビオネート〕、イ
ソオクチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、〇−第三プチルフェノー
ル、２，６−ジー第三ブチル−４−ｊチルフェノール、
４，４−メチレンビス−（２，６−ジーａＥ三ブチルフ
エノール）及び第三オクチル化され九Ｎ−フェニル−１
−す７チルアミンまたはモノアルキル化及びジアルキル
化第三ブチルジフェニルアミン並びにモノアルキル化及
びジアルキル化第三オクチルジフェニルアミンの混合物
からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤を
含有する安定剤系に関する。
ここで述べたイソオクチル基はイソオクチルアルコール
から誘導される基、及び異なる分枝鎖のオクチル基の混
合物を表わすものと理解されたい。
第三オクチル基は１．１．５．３−テトラメチルブチル
基を表わすものと理解されたい。
さらに追加される好ましい添加剤は次式■：〔式中１几
１・Ｒ２及び几３は同一または異って、各々水素原子、
炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１６
ないし１８のアルケニルメチル基、フェニル基、ナフチ
ル基または炭素原子数５ないし６の７クロアルキル基ｔ
ｌ−表わし、セして几は炭素原子数４ないし１２のアル
キル基を表わす〕で表わされるタイプの多目的添加剤で
ある。
縦索原子数１ないし１８のアルキル基としてのｎｉ　、
　Ｒ２及びｌは好ましくは直鎖または分枝鎖の炭素原子
数１０ないし１８のアルキル基を表わし、そして特に好
ましくはテトラメチルノニル基、分枝した炭素原子数１
１ないし１４のアルキル基まだはテトラメチルウンデシ
ル基を表わす。
炭素原子数１６ないし１８のアルケニルメチル基として
の几１・Ｂ２及びＷ基は好ましくはへキサデセニル基ま
たはオレイル基を表わす。
−炭素原子数４ないし１２のアルキル基としての几は特
にｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−へブチル基またはｎ−オクチル基を表わす。
藝滑剤には、潤滑剤配合物の総重量に対して０．００１
ないし５重量％のベンゼン環の４位及び／または５位が
メチル基で置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル
）−アミノ−メチルツーベンズトリアゾール及びａ、０
１ないし！５．Ｏ重ｉｔｓの酸化防止剤を添加するが、
好ましくは［１００５ないし５０重量％のベンズトリア
ゾール糾導体及び０，０５ないし２．０重ｉ％の酸化防
止剤を添加し、そして特に好ましくは［Ｌｏｌないし１
０重量−のベンズトリアゾール誘導体及びａｌないし２
−０重量％の酸化防止剤を添加する。
ベンズ）　ＩＪアゾール誘導体の添加量二酸化防止剤の
添加量の比は好ましくは１：２ないし１：１０の範囲内
である。
式■の化合物は潤滑剤配合物の総重量に対してα０１な
いし２．０重量％を含有する濃度で使用される。好まし
くはα０５ないし１．０重量％の範囲で使用される。こ
れらの化合物：上記の範囲内の比で使用されるベンズト
リアゾール誘導体と酸化防止剤との混合物との比が１：
（１５ないし１：４となる様に添加されるのが好ましい
。ベンゼン環の４位及び／または５位がメチル化された
１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミノメチル〕−
ベンズトリアゾールは、マンニッヒ反応を用いる公知方
法によりトルトリアゾール、ホルムアルデヒド及び第二
アミンから製造される。安定剤系に付随的に使用される
フェノール系及びアミン酸化防止剤もまた公知であり、
公知方法によシ製造できるかまたは市販品として入手上
き、式■の化合物も同様である。
鉱物性及び合成潤滑油、圧媒液並びに潤滑グリースをこ
の方法で処理すると、潤滑化されるべき部分の磨耗現象
を明らかに著しく減少させる優れた潤滑性を示し、これ
はｎ滑剤系に使用した添加剤が潤滑剤中で酸化防止作用
及び腐食抵抗作用、特に金属不活性化作用を増加するた
めである。この方法により、極圧性及び耐磨耗効果もま
た改良される。関連した潤滑剤は当該技術分野の技術者
に周知で娶り、例えば“シュミエルミッテルータッシェ
ンプッフ（Ｓｃｈｍｉｅｒ　−ｍｉ　ｔｔｅｌ　−Ｔａ
ｓｃｈｅｎｂｕｃｈ　）　’″（“潤滑剤ハンドブック
１）（ヒユーティック　７エルラーク、ハイデルベルク
、１９７４年）中に記載されている。鉱物油の他に、特
に適する潤滑油は、例えばポリーσ−オレフィン類、エ
ステル、ホスフェート、クリコール、ポリグリコール及
びポリアルキレングリコールをベースとした潤滑油であ
る。
さらに、潤滑剤配合物は使用の際の特定の性質を改良す
る為に添加される他の添加剤、例えば他の酸化防止剤、
金属不活性化剤、防錆剤、粘度指数改良剤、流動点降下
剤、分散剤／表面活性剤及び耐摩耗剤を含有することも
できる。
１、　アルキル化された１価フェノール２．６−ジー第
三ブチルフェノール１２−第三ブチＡｌ−４，６−シメ
チルフエノール、２．６−ジー第三ブチル−４−エチル
フェノール、２，６−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチル
フェノール、２．６−ジー第三ブチル−４−イソグチル
フェノール、２．６−ジ−シクロペンチル−４−メチル
フェ／−Ａｌ、２−（α−メチルシクロヘキシル）−ａ
、６−シメチルフエノール、、２．６−ジ−オクタデシ
ル−４−メチルフェノール、２，４．６−）ジーシクロ
ヘキシルフェノール、２．６−ジー第三ブチル−４−メ
トキシメチルフェノール。
Ｚ　アルキル化されたヒドロキノン ２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール、２
，５−ジー第三ブチル−ヒドロキノンまたは２，５−ジ
ー第三アミル−ヒドロキノン、２．６−ジフェニル−４
−オクタデシルオキシフェノール。
五　ヒドロキシル化されたテオシ゛プエニルエーテル ２．２′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２．２′−チオ−ビス−（４−オクチル
フエ、！−ル）、４．４’−チオ−ビス−（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）または４，４′−チオ−
ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェニルハ４、　
フルキリテン−ビスフェノール ２．２′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メ
チルフェノール）、２．２−メチレン−ビス（６−第三
−ブチル−４−エチルフェノール）、２．２′−メチレ
ン−ビス−〔４−メチル−６−（ａ−メチルシクロヘキ
シル−７エノール〕、２．２′−メチレン−ビス−（４
−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、２，２′
−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス−（４，６−ジー第三
ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス−（
４゜６−ジー第三ブチルフェノール）、２．２’−エチ
リデン−ビス−（６−第三ブチル−４−イソブチルフェ
ノール）、２．２’−メチレン−ビス−Ｃ６−ＣＭ−メ
チルベンジル）−４−ノニルフェノール）、２．２’−
メチレン−ビス−（６−（”、α−ジメチルベンジル）
−４−ノニルフェノール〕、４，４′−メチレン−ビス
−（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１．１
−ビス−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）−ブタン、２．６−ジー（５−第三プチル
−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フェノール、１，１．３−１リス−（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）　−３−ｎ−ド
デシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス−
〔３゜５−ビス−（３′−第三プチル−４−ヒドロキシ
ル化ニＡ−）−ブチレート〕、ジー（５−第三ブチル−
４−ヒドロヤシ−５−メチルフェニル）−ジシクロペン
タジェン’！　ｆｃ　ハシ−（２−（３−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−ｆｆｉ
三ブ三層チル−）’チルーフェニル）　−テレフタレー
ト。
ｉ　ベンジル化合物 １、５．５−トリー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゾー
ル、ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、ビス−（４−第三プチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−シメチルベンジル）−ジチオールテ
レフタレート、１，５．５−）リス−（３，５−ジー第
三グチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
、１，５．５−トリス−（４−ｍ三ブチル−６−ヒドロ
キシ−２，６−シメチルベンジル）イソシアヌレート、
ジオクタデシル５，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル−ホスホネートまたはモノエチル５，５−ジ
ー第三ブチル−４−ヒドロギシベンジルーホスホネート
のカルシウム塩。
＆　アシルアミノフェノール ４−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド、２゜４−ビス−オクチルメル
カプト−６−（３゜５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シアニリノ）−５−トリアジン、及びオクチルＮ−（５
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カ
ルバメート。
ｌ　−一（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の１価または多価アルコール、例
えばメタノール、オクタデカノール、１．６−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、シエチ１／ンクリコール、トリエチレンクリ
コール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエ
チルイソシアヌレートまだはジヒドロキシエテルオキサ
ミドとのエステル。
ａ　β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオン酸の１価まだは多価アルコール
、例えばメタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロキシ
エチルイソシアヌレートマたはジヒドロキシエチルオキ
サミドとのエステル。
２　β−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の、例えばＮ。
Ｎ′−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミン、Ｎ、
Ｎ−ジー（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンまたはＮ、
Ｎ’−ジー（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジンのアミド。
Ｎ　ｒ　Ｎ’　ｙ　（ソプロピルーｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジー第ニブチル−ｐ　７ｘニレンジアミ
ン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−７二二レンジアミン、Ｎ。
Ｎ−ビス−（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１−メチルへグ
チル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジシクロ
へキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジフェニ
ル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジー（ナフチ
ル−２）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（ソグロビル
ーＮ−フェニルーｐ−７二二しンシアミン、Ｎ−（１，
５−ジメチルグチル）　−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ−フェニ
ル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ
’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘ
キシルーｄ−フェニルーｐ−フェニレンジアミン、４−
（ｐ−トルエンスルホンアミド）−ジフェニルアミン、
Ｎ、Ｎ’−ジメチル−Ｎ、Ｎ’−ジー第ニブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、４−イソグロ
ボキシジフェニルアミン。
Ｎ−フェニＡ／−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−
２−す７チルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、４
−ロープチルアミノ−フェノール、４−ブチリルアミノ
−フェノール、４−ノナノイルアミノ−フェノール、４
−ドデカノイルアミノ−フェノール、４−オクタデカノ
イルアミノ−フェノール、ジー（４−メトキシ−フェニ
ル）−アミン、２，６−ジー第三ブチル−４−ジメチル
アミノ−メチルフェノール、２゜ジアミノ−ジフェニル
メタン、Ｎ、Ｎ、Ｎ、Ｎ−テトラメチル−４，４−ジア
ミノ−ジフェニルメタン、１．２−ジー（フェニルアミ
ノ）−エタン、１，２−ジー〔（２−メチル−フェニル
）−アミノコ−エタン、１．Ｓ−ジー（フェニルアミノ
）−プロパン、（０−）リル）−ビグアニド、ジー（４
−（１’、３’−ジメチル−ブチル）−フェニル〕−ア
ミン。
例えばベンゾトリアゾール、テトラヒドロベンゾトリア
ゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２．５−ジ
メルカグトチアジアゾール、サリチリデン−プロピレン
ジアミン、及びサリチルアミノグアニジンの塩。
防錆剤 例えば、 ａ）有機酸、そのエステル、金属塩及び無水物、例えば
Ｎ−オレオイル−サルコシン、ソルビタン−モノオレエ
ート、ナフタレン酸鉛、無水ドデセニルコノ−り酸、ア
ルケニルコハク酸半エステル及び４−ノニルフェノキシ
−酢酸。
ｂ）含窒素化合物、例えば、 ■、第一、第二または第三脂肪族もしくは一環状脂肪族
のアミン、または有機もしくは無機酸のアミン塩、例え
ば油溶性アルキルアンモニウムカルボキシレート。
■、複素環化合物、例えば置換イミダシリンまたは一オ
キサゾリン。
Ｃ）含燐化合物、例えば部分燐酸エステルのアミン塩。
ｄ）含硫黄化合物１例えばバリウムージノニルナフタレ
ンースルホネー　ト、カルシウムベトロリウムースルホ
ネート。
例えばポリメタアクリレート、ビニルピロリドン／メタ
アクリレート−コポリマー、ポリブテン、オレフインコ
ホリマー、スチレン／アクリレート−コポリマー。
例えば、ポリメタアクリレート、アルキル化ナフタレン
誘導体。
例えば、ポリブテニルコハク酸イミド、ポリブテニルホ
スホン酸誘導体、塩基性マグネシウムスルホネート及び
フェノレート、カルシウムスルホネート及びフェノレー
ト並びにバリウースルホネート及びフェノレート。
耐摩耗添加剤 例えば、硫黄及び／まだは燐−及び／または・・ロゲン
ー含有化合物、例えば硫黄化された植物油、ジアルキル
ジチオ燐酸亜鉛、トリトリルホスフェート、塩素化パラ
フィン、アルキルジスルフィド及びアリールジスルフィ
ド。
下記の実施例により、特定の組成物をさらに詳細に説明
する。この組成物は、第１表においてさらに詳細に特定
した、溶媒抽出した石油ベースのベースオイルＩ　ＳＯ
Ｖ（］　２２１５２　（ｂａｓｅｏｉｌ　ＢＢ　）及び
Ｉ　ＳＯＶＧ　３２　（ｂａｓｅ　ｏｉ／　ＡＡ　）　
、並びに、他方では特定比率の添加剤からなる。
第１表　ベースオイルの説明 実施例１：　ベンゼン環の４位及び／または５位がメチ
ル化されだ１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミノ
メチル〕−ベンズトリアゾールを特定化率の酸化防止剤
を含有する潤滑油に一定比率で添加することにより達成
される相剰作用を調べる為に実施される油酸化試験を酸
化防止剤のみを含有する潤滑剤と比較ｒる。
油酸化試験 安定剤（１２５ｇを添加したベースオイルＢＢ（第１表
参照）５０ｄからなるオイルサンプルを、ガラス容器中
、蒸留水５−及び石油エーテルで洗浄してきれいに磨か
れた触媒活性を有するらせん形銅片と共に、酸素雰囲気
下で酸化する。ガラス容器をマノメーターを付けたスチ
ールボンベ中に置く。ボンベを１５０℃の油浴中、水平
面に対して５０度の角度で１０　Ｏｒ、ｐ、ｍで軸上を
回転させる。最初に、加熱前の酸素圧は６２０　ｋＰａ
である；圧力を１ｓ　ｏ　ＯｋＰａ丁度まで上げた後、
酸化が完了するまで放置する。圧力が１７２　ｋＰａに
落ちたとき試験が完了する。時間は分単位で記録する。
長い時間は安定剤の良好な効果の兆候である。
各場合において使用される安定剤の量は下記の第２表を
参照されたい。
下記の表をより簡潔にする為に、添加剤の名称に番号を
付けた。
１、　無添加 Ｚ　ベンゼン環の４位及び／または５位がメチル化すレ
タ１−　Ｃ（ジー（２−エチルヘキシル））−アミノメ
チルクーベンズ）　ＩＪアゾール。
五ヘンタエリトリチル　テトラキス−〔６〜（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ
ネート〕。
４、　イソオクチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシペンジルメルカグトアセテート。
５．４３の添加剤４０チ、メチル（２，５−ジー第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート３０
チ及び〇−第三プチルフェノール５０チの混合物。
６２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール。
７．４．４−メチレンビス−（２，６−ジー第三ブチル
フェノール） ａ　第三−オクチル化Ｎ−フェニル−１−す７チルアミ
ン。
９　モノアルキル化及びジアルキル化第三ブチルジフェ
ニルアミン及び第三−オクチルジ７ェニルアミンの混合
物。
第２表： 第２表に示した様にベンゼン環の４位及び／または５位
がメチル化された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−
アミノメチルツーベンズトリアゾール（添加剤Ａ６２）
を酸化防止剤（添加剤層３ないし９）を含有する潤滑剤
配合物に添加する仁とによシ達成される相貫効果は有意
である。
実施例２：　ベンゼン環の４位及び／または５位がメチ
ル基で置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−
アミノメチル〕ベンズトリアゾールの式Ｉのアミンホス
フェートとの相溶性を調べる為に、いくつかの安定剤系
の貯蔵試験を室温で実施する。溶液の透明度が良好な相
溶性の基準となる。
下記の配合実施例において添加剤を簡潔な形で引用する
為にあら〃・しめ［記の様にボーする。
ＸＩ　ペンタエリトリチル　テトラキス−〔５−（３，
５−第三プチル−４−ヒドロキシフェニル）−グロピオ
ネート〕４０チ、メチル（２，５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオネート３０チ及び
〇−第三ブチルフェノール３０チからなる混合物。
為　モノアルキル化及びジアルキル化第三ブチルジフェ
ニルアミン／第三−オクチルジフェニルアミン混合物。
為　ベンゼン環の４位及び５位がメチル基で置換された
１−〔ジー（２−エテルヘキシル）−アミノメチルツー
ベンズトリアゾール。
搗　ヘキシルホスノエートのジイントリデシルアミン塩
。
本発明の配合実施例を下記の様に説明できる。
第５表 第４表から理解できる様に、上記化合物を含有スる安定
剤系は式■のアミンホスフェートと長期間に渡って非常
に優れた相溶性を有する。
第４表：ｘ４のアミンホスフェートとの相溶性第１頁の
続き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、４　識別記号　庁内整理番号＠発明者
　ヘルマン　フランツ　スイス国４１０アンゲレル

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）　ベンゼン環の４位及び／または５位がメチル基
    で置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミ
    ノメチルツーベンズトリアゾール、並びにペンタエリト
    リチル　テトラキス−（３−（３，５−ジー第三ブチル
    −４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオネート〕、イ
    ンオクチル５．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
    ンジルメルカプトアセテート、〇−第三プチルフェノー
    ル、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、
    ４．４−メチレンビス−（２，６−ジー第三ブチルフェ
    ノール）及び第三オクチル化Ｎ−フェニルー１−す７チ
    ルアミンまたはモノアルキル化及びジアルキル化第三ブ
    チルジフェニルアミン並びにモノアルキル化及びジアル
    キル化第三オクチルジフェニルアミンの混合物からなる
    群より選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤を含有する
    安定剤系。
  2. （２）べｙゼン環の４位及び／ｌたは５位がメチル基で
    置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミノ
    メチルツーベンズトリアゾール、並びにペンタエリトリ
    チル　テトラキス−（３−（ｓ、ｓ−ジー第三ブチル−
    ４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオネート〕、イン
    オクチル５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベン
    ジルメルカプトアセテート、〇−第三プチルフェノール
    、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、４
    ．４−メチレンビス−（２，６−ジー第三ブチルフェノ
    ール）及び第三オクチル化されたＮ−フェニルー１−ナ
    フチルアミンまたはモノアルキル化及びジアルキル化第
    三ブチルジフェニルアミン並びにモノアルキル化及びジ
    アルキル化第三オクチルジフェニルアミンの混合物から
    なる群よシ選ばれる少なくとも一種のＮ化防止剤、さら
    に次式ｌ： Ｃ式中、Ｒ’１）ＬＦ及び几３は同一または異って一各
    々水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭
    素原子数１６ないし１８のアルケニルメチル基、フェニ
    ル基、ナフチル基または炭素原子数５ないし６のシクロ
    アルキル基を表わし、セしてＲは炭素原子数４ないし１
    ２のアルキル基を表わす〕で表わされる化合物を含有す
    る安定剤系。
  3. （３）ベンゼン環の４位及び／または５位がメチル基で
    置換さ九た１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミノ
    メチルシーベンズトリアゾール、並びにペンタエリトリ
    チル　テトラキス−（５−（ｘ、ｓ−ジー第三ブチル−
    ４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオ＄−１）：　イ
    ソオクチル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
    ンジルメルカプトアセテート、Ｏ〜第三ブチルフェノー
    ル、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、
    ４，４／−メチレンビス−（Ｚ、６−ジー第三ブチルフ
    ェノール）及び第三オクチル化され九Ｎ−フェニル〜１
    −ナフチルアミンまタハモノアルキル化及びジアルキル
    化第三ブチルジフェニルアミン並びにモノアルキル化及
    びジアルキル化第三オクチルジフェニルアミンの混合物
    からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤を
    含有する安定剤系を含有する潤滑剤。
  4. （４）ベンゼン環の４位及び／または５位がメチル基で
    置換された１−〔ジー（２−エチルヘキシル）−アミノ
    メチルシーベンズトリアゾール、並びにペンタエリトリ
    チル　テトラキス−（３−（ｓ、ｓ−ジー第三ブチル−
    ４−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオ＄−））１、イ
    ンオクチに３，５−ジル第三ブチルー４−ヒドロキシベ
    ンジルメルカプトアセテート、〇−第三プチＡ／フェノ
    ール、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール
    、４．４’−メチレンビス−（２，６−ジー第三ブチル
    フェノール）及び第三オクチル化されたＮ−ｙエール−
    １−ナフチルアミンまたはモノアルキル化及びジアルキ
    ル化第三ブチルジフェニルアミン並びにモノアルキル化
    及びジアルキル化第三オクチルジフェニルアミンの混合
    物からなる群よシ選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤
    、さらに次式ｉ： 〔式中、几１．ｖ及びｔは同一または異って、各々水素
    原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子
    数６ないし１８のアルケニルメチル基、フェニル基、ナ
    フチル基または炭素原子数５ないし６のシクロアルキル
    基を表わし、そして几は炭素原子数４ないし１２のアル
    キル基を表わす〕で表わされる化合物を含有する安定剤
    系を含有する潤滑剤。
  5. （５）潤滑剤配合物の総重量に対して（ＬＯＯｌないし
    ！１１．０重量％のベンズトリアゾール誘導体及びａｏ
    ｌないし５０重量−の酸化防止剤を含有する特許請求の
    範囲第５項記載の潤滑剤。
  6. （６）潤滑剤配合物の総重量に対してα０１ないり、１
    ．０重量％のベンズ）　ＩＪアゾール誘導体及びａｌな
    いし２−０重量−の酸化防止剤を含有する特許請求の範
    囲第３項記載の潤滑剤。
  7. （７）潤滑剤配合物の総重量に対してα０１ないし２．
    ０重量％の式■の化合物を含有する特許請求の範囲第４
    項記載の潤滑剤。
JP59272712A 1983-12-23 1984-12-24 ベンゾトリアゾール誘導体と他の添加剤を含有する安定剤系及び該安定剤系を含有する潤滑剤 Granted JPS60172973A (ja)

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