JPS6299484A - 銅の腐食防止方法及び銅と接触し且つ銅に対する特定のチアゾ−ル腐食防止剤を含む組成物 - Google Patents
銅の腐食防止方法及び銅と接触し且つ銅に対する特定のチアゾ−ル腐食防止剤を含む組成物Info
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Classifications
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
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- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M133/00—Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing nitrogen
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-
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
- C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/16—Sulfur-containing compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は銅の腐食防止方法:及び銅と接触し、且つ銅に
対する特定のチアゾール腐食防止剤を含む組成物に関す
るものである。
対する特定のチアゾール腐食防止剤を含む組成物に関す
るものである。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕銅の
表面はそれが水性又は非水性溶媒と接触する場合に腐食
され易いことは良く分っている。
表面はそれが水性又は非水性溶媒と接触する場合に腐食
され易いことは良く分っている。
更に、そのような銅腐食による生成物は腐食された銅表
面と接触するいくつかの有機溶媒の分解に対して触媒作
用を有し得るものであり、セして又存在するであろう他
の金属例えば鉄又はアルミニウムの腐食を引き起し得る
ものである。
面と接触するいくつかの有機溶媒の分解に対して触媒作
用を有し得るものであり、セして又存在するであろう他
の金属例えば鉄又はアルミニウムの腐食を引き起し得る
ものである。
広範囲に異なる構造の多数の化合物が溶媒例えば水性系
又は機能性流体中での使用に対する銅腐食防止剤として
提案された。
又は機能性流体中での使用に対する銅腐食防止剤として
提案された。
とシわけ、有効であることが分った化合物の型の1つは
L2+’−)!Jアゾールから誘導されたものである。
L2+’−)!Jアゾールから誘導されたものである。
例えば、ヨーロッパ特許第25863号明細書中には、
5−アミノ−5−アルキシー1r2r4−ト’)アゾー
ルが記載されており、そしてこれは水性系中で非鉄金属
に対する腐食防止剤として有用である。
5−アミノ−5−アルキシー1r2r4−ト’)アゾー
ルが記載されており、そしてこれは水性系中で非鉄金属
に対する腐食防止剤として有用である。
初期の出版物中に、全体的に異なるが、1,2.4−ト
リアゾール構造すなわち3.5−ジーtill換1.2
.4−)リアゾールが広範囲の系に対する金属腐食防止
用として記載されている。
リアゾール構造すなわち3.5−ジーtill換1.2
.4−)リアゾールが広範囲の系に対する金属腐食防止
用として記載されている。
更に、日本国特許公報昭51−10186号には6゜5
−ジ−アリール−1,2,4−)リアゾールが腐食防止
剤として記載され日本国特許公報昭51−10187号
明細書には6,5−ジ−アルキル(又はベンジル)−1
,2,4−)リアゾール防止剤が示されて分り;日本国
特許公開公報48−62654号には6,5−ジ−ヒド
ロカルビル(父は複素環式)−1,2,4−)リアゾー
ルが、そして日本国特許公開公報第54−78481号
中lCルミ−アルキル−26−アリール及び3−アルア
ルキル−11214−トリアゾール腐食防止剤が記載さ
れている。
−ジ−アリール−1,2,4−)リアゾールが腐食防止
剤として記載され日本国特許公報昭51−10187号
明細書には6,5−ジ−アルキル(又はベンジル)−1
,2,4−)リアゾール防止剤が示されて分り;日本国
特許公開公報48−62654号には6,5−ジ−ヒド
ロカルビル(父は複素環式)−1,2,4−)リアゾー
ルが、そして日本国特許公開公報第54−78481号
中lCルミ−アルキル−26−アリール及び3−アルア
ルキル−11214−トリアゾール腐食防止剤が記載さ
れている。
“腐食の科学(Corrosion 5cience
) a、 1980年、第20巻、1195ないし12
00頁に、3−メルカプト−5−アリール−1,2,4
−トリアゾールは銅に対してではなくむしろ軟鋼に対し
て有用な腐食防止剤として記載されている。
) a、 1980年、第20巻、1195ないし12
00頁に、3−メルカプト−5−アリール−1,2,4
−トリアゾールは銅に対してではなくむしろ軟鋼に対し
て有用な腐食防止剤として記載されている。
異種金属に対する多岐にわたる金属腐食防止用It 2
t 4− ) ’Jアゾール構造を提案しているこの広
範な従来技術に対して、我々は今や驚くべきことに各種
溶媒例えば機能性流体及び水性系中で予期せぬ銅腐食防
止作用を示す特定の特殊な1.2.4−トリアゾール銹
導体を見出した。
t 4− ) ’Jアゾール構造を提案しているこの広
範な従来技術に対して、我々は今や驚くべきことに各種
溶媒例えば機能性流体及び水性系中で予期せぬ銅腐食防
止作用を示す特定の特殊な1.2.4−トリアゾール銹
導体を見出した。
すなわち本発明は次式I:
〔式中、R1はH又はSHを表わし; そしてWは炭素
原子数2ないし20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、
炭素原子数5ないし12の7クロアルキル基、炭素原子
数7ないし13のアルアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表わし、これらは非置換又はニトロ若しくは水
酸基で置換され、またはピリジル基、モルホリニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、ベルヒドロアゼピニル
基又は次式■:で表わされる残基全表わし、但しぽが水
素原子を表わす場合はtは同時には炭素原子数2ないし
20のアルキル基、炭ぶ原子a7ないし13のアルアル
キル基又は非置換のフェニル基若しくはナフチル基を表
わすことはできず、又はtが水素原子を表わす場合は、
(a)RFは式X−アリーレン(式中、Xは次式■:で
表わされる基を表わす)をMする炭素原子数6父は10
のアリーレン残基を表わし得るか、又は(b) R”は
残基X(式中、Xは前記と同じ意味を表わす)を表わし
得るか、又は(c) R,”は所望によりへテロ原中に
よって中断され且つ式X−アルキVン(式中、XFi前
記と同じ。
原子数2ないし20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、
炭素原子数5ないし12の7クロアルキル基、炭素原子
数7ないし13のアルアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表わし、これらは非置換又はニトロ若しくは水
酸基で置換され、またはピリジル基、モルホリニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、ベルヒドロアゼピニル
基又は次式■:で表わされる残基全表わし、但しぽが水
素原子を表わす場合はtは同時には炭素原子数2ないし
20のアルキル基、炭ぶ原子a7ないし13のアルアル
キル基又は非置換のフェニル基若しくはナフチル基を表
わすことはできず、又はtが水素原子を表わす場合は、
(a)RFは式X−アリーレン(式中、Xは次式■:で
表わされる基を表わす)をMする炭素原子数6父は10
のアリーレン残基を表わし得るか、又は(b) R”は
残基X(式中、Xは前記と同じ意味を表わす)を表わし
得るか、又は(c) R,”は所望によりへテロ原中に
よって中断され且つ式X−アルキVン(式中、XFi前
記と同じ。
意味を表わす)を有する炭素原子数1ないし8のアル中
しン残基を表わし得る〕を有するトリアゾール化合物の
腐食防止量を銅又は銅を含む金属の表面と接触させるこ
とエリなる、銅又は銅を含む金属の腐食防止方法を提供
するものである。
しン残基を表わし得る〕を有するトリアゾール化合物の
腐食防止量を銅又は銅を含む金属の表面と接触させるこ
とエリなる、銅又は銅を含む金属の腐食防止方法を提供
するものである。
Vが炭素原子数2ないし20のアルキル基を表わす場合
は、それは直鎖又は分岐鎖例えばエチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピルtss n−ブチル基、第ニブチル
基、n−ペンチルJL n−ヘキシル基、n−ヘプチル
基。
は、それは直鎖又は分岐鎖例えばエチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピルtss n−ブチル基、第ニブチル
基、n−ペンチルJL n−ヘキシル基、n−ヘプチル
基。
n−オクチル基、2−エチルヘキシルaL n−ノニル
基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−オフタデフル基又はn−
エイコシル基であってよい・ 炭素原子数5ないし12の環式アルキル基f3yハシク
ロベ/チル基、シクロヘキシル基。
基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−オフタデフル基又はn−
エイコシル基であってよい・ 炭素原子数5ないし12の環式アルキル基f3yハシク
ロベ/チル基、シクロヘキシル基。
シクロオクチル基、シクロデシル基、アダマンチル基又
はシクロドデシル基であってよい。
はシクロドデシル基であってよい。
炭素原子数7ないし13のアルアルキル基♂はベンジル
基、2−フェニルエチル基、ベンズヒドリル基又はナフ
チルメチル基であってよい。
基、2−フェニルエチル基、ベンズヒドリル基又はナフ
チルメチル基であってよい。
炭素原子数1ないし8のアルキレン基tはメチレン基、
エチレンJL113−7’ロビレン基、1,4−ブチレ
ン基、1.5−ぺブチレン基、1.6−へ午シレン基、
1,7−へブチレン基及び1,8−オクチレン基を含み
、これらは各々所望によりへテロ原子例えば酸素、窒素
又は硫黄原子によって中断される。
エチレンJL113−7’ロビレン基、1,4−ブチレ
ン基、1.5−ぺブチレン基、1.6−へ午シレン基、
1,7−へブチレン基及び1,8−オクチレン基を含み
、これらは各々所望によりへテロ原子例えば酸素、窒素
又は硫黄原子によって中断される。
AX−アリーレンの成分である炭素原子数6ないし10
のアリ−ツノ基は例えば1.2−11,6−又は1.4
−フェ二ノン基及び1.4−ナツタレノ基である。
のアリ−ツノ基は例えば1.2−11,6−又は1.4
−フェ二ノン基及び1.4−ナツタレノ基である。
式■で表わされる好ましい化合物は次列A:〔式中、几
2 はX−アルキノン(炭素原子数1ないし8)基(式
中、Xは弐■の残基全表わす)を表わす〕を有′rる化
合物である。
2 はX−アルキノン(炭素原子数1ないし8)基(式
中、Xは弐■の残基全表わす)を表わす〕を有′rる化
合物である。
式IAで表わされる化合物において、R”は好ましくは
X−アルキレン(炭素原子数1ないし2)基(式中、X
は弐■の残基を表わす)である。
X−アルキレン(炭素原子数1ないし2)基(式中、X
は弐■の残基を表わす)である。
他の好ましい化合物は次式IB:
〔式中、几2“は炭素原子a2ないし20のアルキル基
、特に炭素原子数4ないし10のアルキル基を表わす〕
で表わされる化合物である。
、特に炭素原子数4ないし10のアルキル基を表わす〕
で表わされる化合物である。
本発明の組成物において使用するための式■で表わされ
る化合物の特に好ましい例としては:3−シクロペアチ
ルー1.2.4− トリアゾール、 6−シクaヘキフル−1,2,4−)リアゾール、 3−7クロドデンルー1.2.4−トリアゾール、 3−(4−ニトロフヱニル) −1,2,4−トリアゾ
ール、 3−(2−ピリジル) −1,2,4−トリアゾール、 3−(6−ピリジル) −1,2,4−トリアゾール、 3−(4−ピリジル) −1,2,4−)リアゾール、 3−ピペリジノ−1,2,4−トリアゾール、3−(4
H−1,2,4−) リアゾリル)−1,2.4−トリ
アゾール1 .5.5’−(1,2−7ヱニレン)−ビス(1,2.
4−)リアゾール)、 3.5’−(1,5−フェニレン)−ビス(1,2.4
−)リアゾール)、 3.5’−(1,4−フェニレン)−ビス(1−2,4
−トリアゾール)、 3.6′−ビス(1,2,4−トリアゾール)、5.5
−メチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール)、 6−3′−エチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール
)。
る化合物の特に好ましい例としては:3−シクロペアチ
ルー1.2.4− トリアゾール、 6−シクaヘキフル−1,2,4−)リアゾール、 3−7クロドデンルー1.2.4−トリアゾール、 3−(4−ニトロフヱニル) −1,2,4−トリアゾ
ール、 3−(2−ピリジル) −1,2,4−トリアゾール、 3−(6−ピリジル) −1,2,4−トリアゾール、 3−(4−ピリジル) −1,2,4−)リアゾール、 3−ピペリジノ−1,2,4−トリアゾール、3−(4
H−1,2,4−) リアゾリル)−1,2.4−トリ
アゾール1 .5.5’−(1,2−7ヱニレン)−ビス(1,2.
4−)リアゾール)、 3.5’−(1,5−フェニレン)−ビス(1,2.4
−)リアゾール)、 3.5’−(1,4−フェニレン)−ビス(1−2,4
−トリアゾール)、 3.6′−ビス(1,2,4−トリアゾール)、5.5
−メチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール)、 6−3′−エチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール
)。
3.3′−[1,5−プロピレン]−ビス(1,2.4
−トリアゾール)、 3.3−(1,4−ブチレン〕−ビス(1,2.4−ト
リアゾール)、 3.5’−[1,8−オクチレン]−ビス(1,2.4
−トリアゾール)、 3−エチル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾー
ル、 5−n−プロピル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 6−インプロビル−5−メルカグト−1,2゜4−トリ
アゾール、 5−n−ブチル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 5−n−ベンチルー5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 5−n−ヘプチル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 3−n−オクチル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 3−(2−エチルヘキフル)−5−メルカプト−1,2
,4−トリアゾール、 5−n−ノニル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 3−n−デシル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 3−n−ドデンルー5−メルカグト−1,2゜4−トリ
アゾール、 6−n−テトラジンルー5−メルカプト−1,2.4−
トリアゾール、 5−n−ヘキサデシル−5−メルカプト−1,2.4−
1−リアゾール、 5−n−オクタデシル−5−メルカプト−1,2.4−
トリアゾール、 5−n−エイコシル−5−メルカプト−1,2.4−ト
リアゾール、 3−7クロペ7チルー5−メルカプト−1,2.4−ト
リアゾール、 6−7クロへセフルー5−メルカグト−1,2.4−ト
リアゾール、 6−7クロドデゾルー5−メルカプト−1,2.4−)
リアゾール、 3−ベンジル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、 3−フェニル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、 6−ナフチル−5−メル〃ブドー1.2.4−トリアゾ
ール、 5−モルホリニル−5−メルカプ) −1,2゜4−ト
リアゾールが挙げらnる。
−トリアゾール)、 3.3−(1,4−ブチレン〕−ビス(1,2.4−ト
リアゾール)、 3.5’−[1,8−オクチレン]−ビス(1,2.4
−トリアゾール)、 3−エチル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾー
ル、 5−n−プロピル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 6−インプロビル−5−メルカグト−1,2゜4−トリ
アゾール、 5−n−ブチル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 5−n−ベンチルー5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 5−n−ヘプチル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 3−n−オクチル−5−メルカプト−1,2゜4−トリ
アゾール、 3−(2−エチルヘキフル)−5−メルカプト−1,2
,4−トリアゾール、 5−n−ノニル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 3−n−デシル−5−メルカプト−1,2,4−トリア
ゾール、 3−n−ドデンルー5−メルカグト−1,2゜4−トリ
アゾール、 6−n−テトラジンルー5−メルカプト−1,2.4−
トリアゾール、 5−n−ヘキサデシル−5−メルカプト−1,2.4−
1−リアゾール、 5−n−オクタデシル−5−メルカプト−1,2.4−
トリアゾール、 5−n−エイコシル−5−メルカプト−1,2.4−ト
リアゾール、 3−7クロペ7チルー5−メルカプト−1,2.4−ト
リアゾール、 6−7クロへセフルー5−メルカグト−1,2.4−ト
リアゾール、 6−7クロドデゾルー5−メルカプト−1,2.4−)
リアゾール、 3−ベンジル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、 3−フェニル−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾ
ール、 6−ナフチル−5−メル〃ブドー1.2.4−トリアゾ
ール、 5−モルホリニル−5−メルカプ) −1,2゜4−ト
リアゾールが挙げらnる。
特に好ましい式■で表わされる化@物は:3−n−へキ
シル−5−メルカプト−1,2゜4−トリアゾール、 6.5′−メチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール
)、 6.3−エチレン−ビス(1,2,4−)リアゾール)
、 6−ノタロヘキ/ルー5−メルカグト−1,2.4−ト
リアゾール及び6−ンクロへキシル−1,2,4−トリ
アゾールである。
シル−5−メルカプト−1,2゜4−トリアゾール、 6.5′−メチレン−ビス(1,2,4−トリアゾール
)、 6.3−エチレン−ビス(1,2,4−)リアゾール)
、 6−ノタロヘキ/ルー5−メルカグト−1,2.4−ト
リアゾール及び6−ンクロへキシル−1,2,4−トリ
アゾールである。
式Iで表わされる多数の化合物が公知であるがしかしい
くつかの特殊な化合物すなわち次式: 〔式中、nは2,3又1ri4である〕をイする化合切
は新規であり、そして、それ故本発明の別の目的を成し
ている。
くつかの特殊な化合物すなわち次式: 〔式中、nは2,3又1ri4である〕をイする化合切
は新規であり、そして、それ故本発明の別の目的を成し
ている。
式■で表わされる化合物は公知であるか新規であるかに
係0らず、慣用の方法によって製造することができる。
係0らず、慣用の方法によって製造することができる。
例えば1式中比1が水素原子を表わす式Iで表わされる
化合物は、 a)へミノシェ ベリヒテ(Chem、B
er、)、 1968.101.2055 中にハ(ン
ツ(Heinz ) ? ヒルゲターク(Ili/g
etag )及ヒヤーンヒエン(Jahnchen )
によって記載された方法を用いる相当するアシルアミト
ラシンの環化;b)ジャーナル オブ アメリカン ケ
ミカル ソサエティ((■。Amer、 Chem+S
oc、) 。
化合物は、 a)へミノシェ ベリヒテ(Chem、B
er、)、 1968.101.2055 中にハ(ン
ツ(Heinz ) ? ヒルゲターク(Ili/g
etag )及ヒヤーンヒエン(Jahnchen )
によって記載された方法を用いる相当するアシルアミト
ラシンの環化;b)ジャーナル オブ アメリカン ケ
ミカル ソサエティ((■。Amer、 Chem+S
oc、) 。
1949.71,1985中にバッチマン(Bachm
an )及びハイゼイ(He1sey ) によって
記載された方法を用いる相当する3−アミノ−1,2,
4−トリアゾールの脱アミン化;又はC)ジャーナルオ
プ ケミカル ソサエテ4 (J、Che+n、 Sa
c、 ) 。
an )及びハイゼイ(He1sey ) によって
記載された方法を用いる相当する3−アミノ−1,2,
4−トリアゾールの脱アミン化;又はC)ジャーナルオ
プ ケミカル ソサエテ4 (J、Che+n、 Sa
c、 ) 。
1949.1160中のホッガ# ス(1−1ogg1
−1o )の方法を用^る相当する6−メルカプ) −
1,2゜4−トリアゾールの脱硫量化によって製造する
ことができる。
−1o )の方法を用^る相当する6−メルカプ) −
1,2゜4−トリアゾールの脱硫量化によって製造する
ことができる。
式中R1がメルカプト基を表わす式Iで表わされる化合
物はa)ジャーナル オプ インディアンケミカル ノ
サエテ((J、 Indian CherrLSoc、
) 。
物はa)ジャーナル オプ インディアンケミカル ノ
サエテ((J、 Indian CherrLSoc、
) 。
196B、旦、35日中のデーy タ(Dutta)他
の方法を用いる相当するアシルチオセミカルバジドの環
化:又fi b l 13u/A Soc、 Chim
、 Beムes。
の方法を用いる相当するアシルチオセミカルバジドの環
化:又fi b l 13u/A Soc、 Chim
、 Beムes。
1966.75,358)中のつ4 V ムx (Wi
/jems )及びクアンデンヘルゲ(Vandenb
erghe ) の方法を用いる適スるカルボン酸エ
ステルとチオセミカルバジドとの縮合によって合成する
ことができる。
/jems )及びクアンデンヘルゲ(Vandenb
erghe ) の方法を用いる適スるカルボン酸エ
ステルとチオセミカルバジドとの縮合によって合成する
ことができる。
式■で表わされる化合物は上記ウィレムス及びグアンデ
ンベルゲの方法を用いる相当する公知ビス−1,2,4
−トリアゾリン−5−チオンの脱硫量化によって製造す
ることができる。
ンベルゲの方法を用いる相当する公知ビス−1,2,4
−トリアゾリン−5−チオンの脱硫量化によって製造す
ることができる。
式■で表わされる化合物は広範な技術のうちのいずれか
により保護されるべき銅表面と接触させることができる
。例えば、銅表面を式■で表わされる化合物を含浸させ
たフィルムで包んでもよいし、又は銅表面を溶液例えば
式1で表わされる化合物を含む水溶液中に浸漬してもよ
い。しかしながらより普通には、銅表面は銅表面の腐食
を生じさせる基剤と永久的に接触するであろう。
により保護されるべき銅表面と接触させることができる
。例えば、銅表面を式■で表わされる化合物を含浸させ
たフィルムで包んでもよいし、又は銅表面を溶液例えば
式1で表わされる化合物を含む水溶液中に浸漬してもよ
い。しかしながらより普通には、銅表面は銅表面の腐食
を生じさせる基剤と永久的に接触するであろう。
このような場合に、式■で衣わされる化合物の腐食防止
量を基剤に加えることによって、銅表面が腐食されるの
を効果的に防ぐことができる。
量を基剤に加えることによって、銅表面が腐食されるの
を効果的に防ぐことができる。
それ数本発明は又、銅又は鋼を含む金属と接触する基剤
と、本文中で先に述べた式■で表わされる化合物の銅腐
食防止i、好ましくは基剤の全重量に対して重址比で0
.001チないし5チとからなる組成物を提供するもの
である。
と、本文中で先に述べた式■で表わされる化合物の銅腐
食防止i、好ましくは基剤の全重量に対して重址比で0
.001チないし5チとからなる組成物を提供するもの
である。
本発明に基づいて処理し得る基剤の例としては、機能性
流体例えば鉱物油、ポリ−アルファオレフィン又は合成
カルボン酸エステルベースを含む潤滑油;例えば鉱物油
、燐酸エステル、水性ポリグリコール/ポリグリコール
エーテル混合物又はグリコール系をベースとした圧媒液
:水中油滴又は油中水滴第二ベースとして鉱物油又は水
性系を有する金属作動液;水又は水性グリコール又はエ
チレン又はプロピレングリコール/メタノールをベース
とした機関冷却系;変圧器又は開閉器油−並びに水性系
例えば工業用冷却水:水性空気調節系;蒸気発生系:海
水蒸発系;圧力釜系;及び水性閉鎖回路加熱又は冷媒系
が挙げられる。
流体例えば鉱物油、ポリ−アルファオレフィン又は合成
カルボン酸エステルベースを含む潤滑油;例えば鉱物油
、燐酸エステル、水性ポリグリコール/ポリグリコール
エーテル混合物又はグリコール系をベースとした圧媒液
:水中油滴又は油中水滴第二ベースとして鉱物油又は水
性系を有する金属作動液;水又は水性グリコール又はエ
チレン又はプロピレングリコール/メタノールをベース
とした機関冷却系;変圧器又は開閉器油−並びに水性系
例えば工業用冷却水:水性空気調節系;蒸気発生系:海
水蒸発系;圧力釜系;及び水性閉鎖回路加熱又は冷媒系
が挙げられる。
油ベースの機能性流体中での使用のためには、式中Wが
Hを表わし、Wが親油基特に炭素原子数5ないし12の
7クロアルキル基又は置換フェニル若しくはナフチル基
を表わす式■で表わされる化合物が好ましい。
Hを表わし、Wが親油基特に炭素原子数5ないし12の
7クロアルキル基又は置換フェニル若しくはナフチル基
を表わす式■で表わされる化合物が好ましい。
一方、水性、グリコール又は水/グリコール機能性流体
中での使用のためには、式中R1がH又は8Hを表わし
、Wが炭素原子数4ないし7の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、炭素原子数6又は10のアリール基、炭素原子数7
ないし1Sのアリール基、炭素原子数7ないし13のア
ルアルキル基又は弐X−(CH,)n(式中、Xは前記
と同じ意味を有し、nは0又は1な^し8であるが、し
かし式中nは好ましくは0又は1ないし4である)で表
わされる残基を表わし、但し、ばが水素原子を表わす場
合はR2は同時には炭素原子数2ないし20のアルキル
基、炭素原子数7ないし16のアルアルキル基又は非置
換フェニル若しくはす7チル基を表わすことはできない
式Iで表わされる化合物が好ましい。
中での使用のためには、式中R1がH又は8Hを表わし
、Wが炭素原子数4ないし7の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、炭素原子数6又は10のアリール基、炭素原子数7
ないし1Sのアリール基、炭素原子数7ないし13のア
ルアルキル基又は弐X−(CH,)n(式中、Xは前記
と同じ意味を有し、nは0又は1な^し8であるが、し
かし式中nは好ましくは0又は1ないし4である)で表
わされる残基を表わし、但し、ばが水素原子を表わす場
合はR2は同時には炭素原子数2ないし20のアルキル
基、炭素原子数7ないし16のアルアルキル基又は非置
換フェニル若しくはす7チル基を表わすことはできない
式Iで表わされる化合物が好ましい。
式中R1が8Hを表わす弐■で表わされるこれらの化合
物は好ましくは予備形成されたアルカリ金属(好ましく
はナトリウム)又は有機アミン塩として機能性流体中に
加えられるか、又はこれらは適する量のアルカリ(好ま
しくは水酸化ナトリウム)を水性機能性bIL体に加え
ることシこよって水性機能性流体中に溶かすことができ
る。
物は好ましくは予備形成されたアルカリ金属(好ましく
はナトリウム)又は有機アミン塩として機能性流体中に
加えられるか、又はこれらは適する量のアルカリ(好ま
しくは水酸化ナトリウム)を水性機能性bIL体に加え
ることシこよって水性機能性流体中に溶かすことができ
る。
式中几1がHを表わす武lで表わされる化合物は中性種
として機能性流体中に加え得るものであり、実際のとこ
ろ、この技術はこのような化合物を油ベースの機能性流
体中に加える場合に非常に好ましい。
として機能性流体中に加え得るものであり、実際のとこ
ろ、この技術はこのような化合物を油ベースの機能性流
体中に加える場合に非常に好ましい。
また一方で、非油ベースの機能性流体中で使用するため
には、式Iで表わされる化合物はアルカリ性又は酸性溶
液中で使用することができる。アルカリ性水溶液におい
ては、水酸化ナトリウムが使用するのに好ましい塩基で
あり、酸往水溶液においては、鉱酸例えば塩酸、硫酸又
は燐酸の使用が好ましい。
には、式Iで表わされる化合物はアルカリ性又は酸性溶
液中で使用することができる。アルカリ性水溶液におい
ては、水酸化ナトリウムが使用するのに好ましい塩基で
あり、酸往水溶液においては、鉱酸例えば塩酸、硫酸又
は燐酸の使用が好ましい。
機能性流体基剤が合成潤滑油である場合は、これらの例
としては二塩基酸と一価アルコールとのジエステル、例
えばジオクチルセバケート又はジノニルアジペート;ト
リメチロールプロパンと一塩基酸又はこのような酸の混
合物とのトリエステル例えばトリメチロールプロパント
リベラルゴネート、トリメチロールプロバントリカグリ
レート又はこれらの混合物:ペンタエリトリトールと一
塩基酸又はこのような酸の混合物とのテトラエステル例
えばベンタエIJ )リトールテト2カブリレート:又
は−塩基酸、二塩基酸及び多価アルコールから訪導され
る複合エステル例えばトリメチロールプロパン、カプリ
ル酸及びセパクン酸から銹導される複合エステル:又は
これらの混合物に基づく潤滑油が挙げられる。
としては二塩基酸と一価アルコールとのジエステル、例
えばジオクチルセバケート又はジノニルアジペート;ト
リメチロールプロパンと一塩基酸又はこのような酸の混
合物とのトリエステル例えばトリメチロールプロパント
リベラルゴネート、トリメチロールプロバントリカグリ
レート又はこれらの混合物:ペンタエリトリトールと一
塩基酸又はこのような酸の混合物とのテトラエステル例
えばベンタエIJ )リトールテト2カブリレート:又
は−塩基酸、二塩基酸及び多価アルコールから訪導され
る複合エステル例えばトリメチロールプロパン、カプリ
ル酸及びセパクン酸から銹導される複合エステル:又は
これらの混合物に基づく潤滑油が挙げられる。
他の合成潤滑油は当業者に公知のものであシ、そして例
えば“潤滑油−ポケットブック(Sch−miermi
tte/−Taschenbuch )″、ヒュティッ
ヒ出版(Huethig Ver/ag ) v ハ
イデルベルク。
えば“潤滑油−ポケットブック(Sch−miermi
tte/−Taschenbuch )″、ヒュティッ
ヒ出版(Huethig Ver/ag ) v ハ
イデルベルク。
1974中 に記載されている。好ましい鉱物油とは別
に特に好ましいものは例えばホスフェート、グリコール
、ポリグリコール、ポリアルキレングリコール及びポリ
−アルファオレフィンである。
に特に好ましいものは例えばホスフェート、グリコール
、ポリグリコール、ポリアルキレングリコール及びポリ
−アルファオレフィンである。
種々の石川特性を改良するために2本発明の機能性流体
組成物1d又他の添加剤例えば、油ベース系に対しては
、1種又はそれより多種の酸化防止剤、金属不活性化剤
、更に腐食又は錆防止剤、粘度指数改良剤、流動点降下
剤、分散剤/界面活性剤又は耐摩耗添加剤;及び水ベー
ス系に対しては、1種又はそれより多種の酸化防止剤、
他の腐食及び錆防止剤、金属不活性化剤、極圧又は耐摩
耗添加剤、錯化剤、沈殿防止剤、殺菌剤、緩衝剤及び消
泡剤を含んでいてよい。
組成物1d又他の添加剤例えば、油ベース系に対しては
、1種又はそれより多種の酸化防止剤、金属不活性化剤
、更に腐食又は錆防止剤、粘度指数改良剤、流動点降下
剤、分散剤/界面活性剤又は耐摩耗添加剤;及び水ベー
ス系に対しては、1種又はそれより多種の酸化防止剤、
他の腐食及び錆防止剤、金属不活性化剤、極圧又は耐摩
耗添加剤、錯化剤、沈殿防止剤、殺菌剤、緩衝剤及び消
泡剤を含んでいてよい。
油ベース系に対する他の添加剤の例としては下記のもの
が挙げられる: 1、 アルキル化−価フエノール 2.6−ジー第三ブチル−ブチルフェノール1 2−第三プチル−4,6−シメチルフエノール。
が挙げられる: 1、 アルキル化−価フエノール 2.6−ジー第三ブチル−ブチルフェノール1 2−第三プチル−4,6−シメチルフエノール。
2* ’ −シー1it三ブチル−4−エチルフェノー
ル、 2.6−ジー第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、 2.6−ジー第三ブチル−4を−ブチルフェノール、 2.6−ジ−シクロベンチルー4−メチルフェノール、 2−(−一メチルシクロヘキシル)−4゜6−シメチル
フエノール1 2.6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール、 2、4.6− )リーククロヘキシルフェノール1 2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノー
ル。
ル、 2.6−ジー第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、 2.6−ジー第三ブチル−4を−ブチルフェノール、 2.6−ジ−シクロベンチルー4−メチルフェノール、 2−(−一メチルシクロヘキシル)−4゜6−シメチル
フエノール1 2.6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール、 2、4.6− )リーククロヘキシルフェノール1 2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノー
ル。
2 アルキル化ヒドロキノン
2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、
2.5−ジー第三ブチル−ヒドロキノン2.5−ジー第
三ブチル−アミル−ヒドロキノン、 2.6−ジフェニル−4−オフタデフルオキシフェノー
ル。
三ブチル−アミル−ヒドロキノン、 2.6−ジフェニル−4−オフタデフルオキシフェノー
ル。
五 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル2.2−チ
オ−ビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)% 2.2−チオ−ビス(4−オクチルフェノール)、 4.4−チオ−ビス(6−第三ブチル−3−メチルフェ
ノール)、 4.4−チオ−ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノ−/I/)。
オ−ビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)% 2.2−チオ−ビス(4−オクチルフェノール)、 4.4−チオ−ビス(6−第三ブチル−3−メチルフェ
ノール)、 4.4−チオ−ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノ−/I/)。
歳 アルキリデン−ビスフェノール
2.2′−メチレン−ビスC6−m三プチル−4−メチ
ルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−エチ
ルフェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(4−メチル−6−(α−メ
チルシクロヘキシル)フェノール)、2.2−メチレン
−ビス(4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)
、 2.2′−メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフ
ェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(4,6−ジー第三ブチルフ
ェノール)。
ルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−エチ
ルフェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(4−メチル−6−(α−メ
チルシクロヘキシル)フェノール)、2.2−メチレン
−ビス(4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)
、 2.2′−メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフ
ェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(4,6−ジー第三ブチルフ
ェノール)。
2.2′−エチリデン−ビス(4,6−ジー第三ブチル
フェノール)。
フェノール)。
2、l−エチリデン−ビス<6−第三ブチル−5−イソ
ブチルフェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(6−(α−メチルベンジル
−4−ノニルフェノール)、2.2′−メチレン−ビス
(6−(r、 α−ジメチルベンジル)−4−ノニル
フェノール)、4.4′−メチレン−ビス(6−dZ三
ジブチル2−メチルフェノール)、 1.1′−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェノール)ブタン、2.6−ジ(3−第三プ
チル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メ
チルフェノール、 1、1.5− )リス(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−tt−ドデシル)メル
カプトブタン、 エチレングリコール−ビス(3,3−ビス(3′−H三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕、 ジ(3−第三プチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジェン、シ〔(3′−第三ブチル
−2′−ヒドロキシ−5−メチル−ベンジル)−6−m
三ブチル−4−メチル−フェニル〕テレフタレート。
ブチルフェノール)、 2.2′−メチレン−ビス(6−(α−メチルベンジル
−4−ノニルフェノール)、2.2′−メチレン−ビス
(6−(r、 α−ジメチルベンジル)−4−ノニル
フェノール)、4.4′−メチレン−ビス(6−dZ三
ジブチル2−メチルフェノール)、 1.1′−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェノール)ブタン、2.6−ジ(3−第三プ
チル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メ
チルフェノール、 1、1.5− )リス(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−tt−ドデシル)メル
カプトブタン、 エチレングリコール−ビス(3,3−ビス(3′−H三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕、 ジ(3−第三プチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジェン、シ〔(3′−第三ブチル
−2′−ヒドロキシ−5−メチル−ベンジル)−6−m
三ブチル−4−メチル−フェニル〕テレフタレート。
5 ベンジル化合物
1、3.5−トリ(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル) −2,4,6−)リスチルベンゼン
、 ジ(6−5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル
)スルフィド、 ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−シメ
チルベンジル)ジチオールテレフタレート、 1、3.5−1−リス(6,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、 1、5.5− トリス(4−第三プチル−3−ヒドロキ
シ−2,6−シメチルペンジル)イソシアヌレート。
ロキシベンジル) −2,4,6−)リスチルベンゼン
、 ジ(6−5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル
)スルフィド、 ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−シメ
チルベンジル)ジチオールテレフタレート、 1、3.5−1−リス(6,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、 1、5.5− トリス(4−第三プチル−3−ヒドロキ
シ−2,6−シメチルペンジル)イソシアヌレート。
5.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ午7ベンジルー燐
酸ジオクタデシルエステル、3.5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル−燐酸モノエチルエステルカル
シウム塩。
酸ジオクタデシルエステル、3.5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル−燐酸モノエチルエステルカル
シウム塩。
4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド、2.4−ビス−オクチルメル
カプト−6−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−s−トリアジン。
−ステアリン酸アニリド、2.4−ビス−オクチルメル
カプト−6−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−s−トリアジン。
N−(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)カルバミン酸オクチルエステル・ 多価アルコール例えばメタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペ
ンチルグリコール、トリス−ヒドロキンエチル−イソシ
アヌレート、チオジエチレンクリコール、シーヒドロ−
?7エチル蓚酸ジアミドとのエステル。
ル)カルバミン酸オクチルエステル・ 多価アルコール例えばメタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペ
ンチルグリコール、トリス−ヒドロキンエチル−イソシ
アヌレート、チオジエチレンクリコール、シーヒドロ−
?7エチル蓚酸ジアミドとのエステル。
は多価アルコール例えばメタノール、ジエチレングリコ
ール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1
.6−ヘキt/ジオ−ル、ペンタエリトリトール、ネオ
ペンチルグリコール、トリス−ヒドロキンエチル−イソ
シアヌレート、チオジエチレンクリコール、ジ−ヒドロ
キシエチル蓚酸ジアミドとのエステル。
ール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1
.6−ヘキt/ジオ−ル、ペンタエリトリトール、ネオ
ペンチルグリコール、トリス−ヒドロキンエチル−イソ
シアヌレート、チオジエチレンクリコール、ジ−ヒドロ
キシエチル蓚酸ジアミドとのエステル。
一ヒドロキシフェニルグロピオニル)へキサメチレンジ
アミン、N、N−ジ(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン
、N、N−ジ(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
アミン、N、N−ジ(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン
、N、N−ジ(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
アミン酸化防止剤の例:
N、N−ジ−イアプロピル−p−フェニレンジアミン、
N、N−ジー第ニブチル−p−フェニレンジアミン、N
、N−ビス(1,4−ジメチル−ペンチル)−p−フェ
ニレンジアミン、 N、N−ビス(1−エチル−3−メチル−ペンチル)−
p−フェニレンジアミン、 N、N−ビス(1−メチル−へグチル)−p−フェニレ
ンジアミン、 NUN−ジシクロへキシル−p−フェニレンジアミン、 NpN−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N、N
−ジ(ナフチル−2)−p−フェニレンジアミン、 N−イソ、’ロビルーN−フェニルーp−7!ニレンジ
アミン、 N−(1,3,ジメチル−ブチル)−N−フェニル−p
−フェニレンジアミン、 N−(1−メチル−ヘプチル)−N−フェニル−p−フ
ェニレンジアミン、 N−シクロヘキシル−N−フェニル−p−フェニレンジ
アミン、 4−(p−)ルエンースルホンアミト)ジフェニルアミ
ン、 N、N’−ジメチル−N、N−ジー第ニブチル−p−フ
ェニレンジアミン、 ジフェニルアミン、 4−イソプロピル−ジフェニルアミン、N−フェニル−
1−ナフチルアミン、 N−フェニル−2−ナフチルアミン。
、N−ビス(1,4−ジメチル−ペンチル)−p−フェ
ニレンジアミン、 N、N−ビス(1−エチル−3−メチル−ペンチル)−
p−フェニレンジアミン、 N、N−ビス(1−メチル−へグチル)−p−フェニレ
ンジアミン、 NUN−ジシクロへキシル−p−フェニレンジアミン、 NpN−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N、N
−ジ(ナフチル−2)−p−フェニレンジアミン、 N−イソ、’ロビルーN−フェニルーp−7!ニレンジ
アミン、 N−(1,3,ジメチル−ブチル)−N−フェニル−p
−フェニレンジアミン、 N−(1−メチル−ヘプチル)−N−フェニル−p−フ
ェニレンジアミン、 N−シクロヘキシル−N−フェニル−p−フェニレンジ
アミン、 4−(p−)ルエンースルホンアミト)ジフェニルアミ
ン、 N、N’−ジメチル−N、N−ジー第ニブチル−p−フ
ェニレンジアミン、 ジフェニルアミン、 4−イソプロピル−ジフェニルアミン、N−フェニル−
1−ナフチルアミン、 N−フェニル−2−ナフチルアミン。
オクチル化ジフェニルアミン、
オクチル化N−フェニル−(又ハ)ナフチルアミン。
4−n−ブチルアミノフェノール、
4−ブチリルアミノフェノール、
4−ノナノイルアミノフェノール、
4−ヨーデカノイルアミンフェノール。
4−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ(4−メト
キシ−フェニル)アミン、2.6−ジー第三ブチル−4
−ジメチルアミノ−メチルフェノール、 2.4−ジアミノ−ジフェニルメタン、4.4−ジアミ
ノ−ジフェニルメタン、N、 N、 N、 N−テトラ
メチル−4,4−ジアミノ−ジフェニルメタン、 1.2−ジ(フェニルアミノ)エタン、1.2−ジ[(
2−メチル−フェニル)アミノコニタン、 1.3−ジ(フェニルアミノ)プロパン、(ロートリル
)ビグアニド、 ジ[4−(1’、3′−ジメチル−ブチル)フェニルア
ミノ。
キシ−フェニル)アミン、2.6−ジー第三ブチル−4
−ジメチルアミノ−メチルフェノール、 2.4−ジアミノ−ジフェニルメタン、4.4−ジアミ
ノ−ジフェニルメタン、N、 N、 N、 N−テトラ
メチル−4,4−ジアミノ−ジフェニルメタン、 1.2−ジ(フェニルアミノ)エタン、1.2−ジ[(
2−メチル−フェニル)アミノコニタン、 1.3−ジ(フェニルアミノ)プロパン、(ロートリル
)ビグアニド、 ジ[4−(1’、3′−ジメチル−ブチル)フェニルア
ミノ。
銅に対しては例えば、ベンズトリアゾール、トルトリア
ゾール及びこれらの誘導体、2−メルカプトベンズチア
ゾール、2,5−ジメルカプトチアゾール、サリチリデ
ン−プロピレンジアミン及びサリチルアミノグアニジン
の塩が挙げられる。
ゾール及びこれらの誘導体、2−メルカプトベンズチア
ゾール、2,5−ジメルカプトチアゾール、サリチリデ
ン−プロピレンジアミン及びサリチルアミノグアニジン
の塩が挙げられる。
錆防止剤の例としては:
a)有機酸、これらのエステル、金属塩及び無水物例え
ば%N−オレオイルーガルコシン、ソルビタン−モノ−
オレエート、ナフテン酸鉛、ドデセニル−こはく酸(及
びその部分エステル及びアミド)%4−ノニルーフェノ
キシー酢酸、 b)含窒素化合物例えば、 1、第1.第2又は第3脂肪族又は脂環式アミン及び有
機酸及び無機酸のアミン塩例えば、油溶性アルキルアン
モニウムカルボキシレート、 ■、複素環式化合物例えば、置換イミダシリン及びオキ
サリン、 C)含燐化合物例えば、燐酸部分エステルのアミン塩、
ジアルキルジチオ燐酸亜鉛、 d)含硫黄化合物例えば、ジノニルナフタレン−n−ス
ルホン酸バリウム、石油スルホン酸カルシウムが挙げら
れる。
ば%N−オレオイルーガルコシン、ソルビタン−モノ−
オレエート、ナフテン酸鉛、ドデセニル−こはく酸(及
びその部分エステル及びアミド)%4−ノニルーフェノ
キシー酢酸、 b)含窒素化合物例えば、 1、第1.第2又は第3脂肪族又は脂環式アミン及び有
機酸及び無機酸のアミン塩例えば、油溶性アルキルアン
モニウムカルボキシレート、 ■、複素環式化合物例えば、置換イミダシリン及びオキ
サリン、 C)含燐化合物例えば、燐酸部分エステルのアミン塩、
ジアルキルジチオ燐酸亜鉛、 d)含硫黄化合物例えば、ジノニルナフタレン−n−ス
ルホン酸バリウム、石油スルホン酸カルシウムが挙げら
れる。
ポリメタクリレート、ビニルピロリドン/メタクリレー
ト共重合体、ポリブテン、オレフィン共重合体、スチレ
ン/アクリレート共重合体が挙げられる。
ト共重合体、ポリブテン、オレフィン共重合体、スチレ
ン/アクリレート共重合体が挙げられる。
ポリメタクリレート、又はアルキル化ナフタレン誘導体
が挙げられる。
が挙げられる。
ポリブテニルこはく酸アミド、ポリブテニルホスホン酸
誘導体、塩基性マグネシウム−、カルシウム−1及びバ
リウムスルホネート及び−フ二ル−トが挙げられる。
誘導体、塩基性マグネシウム−、カルシウム−1及びバ
リウムスルホネート及び−フ二ル−トが挙げられる。
硫黄−及び/又は燐−及び/又はハロゲン含有化合物例
えば、硫化植物油、ジアルキルジチオ燐酸亜鉛、トリト
リルホスフェート、クロル化パラフィン、アルキル−及
び了り−ルジスルフイドが挙げられる。
えば、硫化植物油、ジアルキルジチオ燐酸亜鉛、トリト
リルホスフェート、クロル化パラフィン、アルキル−及
び了り−ルジスルフイドが挙げられる。
完全に水性である基剤例えば冷却水系、空気調節系、蒸
気発生系、海水蒸発系、圧力釜系、及び閉鎖回路加熱又
は冷媒系の基剤の処理だおいては、別の腐食防止剤例え
ば水溶性亜鉛塩;燐酸塩;ポリ燐酸塩;ホスホン酸及び
これらの塩1例えばアセトジホスホン酸、ニトリロトリ
スメチレンホスホン酸及びメチルアミノジメチレンホス
ホンカルボン酸及びこれらの塩、例えば西ドイツ国特許
公開公報$2632774号中に記載されたもの、ヒド
ロキシホスホノ酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4
−)リカルボン酸及びイギリス国特許第1572406
号明細書中に開示されたもの、硝酸塩、例えば硝酸ナト
リウム:亜硝酸塩例えば亜硝酸ナトリウム;モリブデン
酸塩例えばモリブデン酸ナトリウム;タングステン酸塩
:硅酸塩例えば硅酸ナトリウム;ベンゾトリアゾール、
ビス−ベンゾトリアゾール又は銅不活性化ベンゾトリア
ゾール又はトルトリアゾール誘導体又はこれらのマンニ
ッヒ塩基誘導体;N−アシルザルコシン;N−アシルイ
ミノジ酢酸;エタノールアミン:脂肪アミン;及びポリ
カルボン酸、例えばポリマレイン酸及びポリアクリル酸
、並びにこれらの各々のアルカリ金属塩、マレイン酸無
水物の共重合体例えばマレイン酸無水物とスルホン化ス
チレンとの共重合体、アクリル酸の共重合体例えばアク
リル酸トヒドロキシアルキル化アクリル酸との共重合体
、及びポリマレイン酸及びポリアクリル酸の置換誘導体
及びこれらの共重合体全使用することができる。更に、
このような完全な水性系においては1本発明に基づいて
使用するトリアゾール銅腐食防止剤は分散及び/又は限
界(threshold )剤例えば重合されたアクリ
ル酸(又はその塩)、ホスフィノ−ポリカルボン酸(英
国特許第1458235号明細書中に記載され、特許請
求されている)、ヨーロッパ特許願第0150706ル
ミに記載されているコテロメリック化合物、加水分解さ
れたポリアクリロニトリル、重合されたメタクリル酸及
びその塩、ポリアクリルアミド及びアクリル酸とメタク
リル酸からのその共重合体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、タンニン、ナフタレンスルホン酸/ホルムアルデ
ヒド縮合生成物、澱粉及びその誘導体、セルロース、ア
クリル酸/低級アルキルヒドロキシアクリレート共重合
体例えばアメリカ合衆国特許明細書第4029577号
中に記載されているもの、スチレン/マレイン酸無水物
共重合体及びスルホン化スチレンホモポリマー例えばア
メリカ合衆国特許明細書第45747’55号中に記載
されているもの及びこれらを組合せたものと一緒に使用
することができる。特殊な限界剤、例えば2−ホスホノ
ブタン−1,2,4−)リーカルボン酸、アセトジホス
ホン酸、加水分解されたポリマレイン酸無水物及びその
塩、アルキルホスホン酸、ヒドロキシホスホノ酢酸、1
−アミノアルキル−1,1−ジホスホン酸及びこれらの
塩、及びアルカリ金属ポリ−ホスフェートも又使用する
ことができる。
気発生系、海水蒸発系、圧力釜系、及び閉鎖回路加熱又
は冷媒系の基剤の処理だおいては、別の腐食防止剤例え
ば水溶性亜鉛塩;燐酸塩;ポリ燐酸塩;ホスホン酸及び
これらの塩1例えばアセトジホスホン酸、ニトリロトリ
スメチレンホスホン酸及びメチルアミノジメチレンホス
ホンカルボン酸及びこれらの塩、例えば西ドイツ国特許
公開公報$2632774号中に記載されたもの、ヒド
ロキシホスホノ酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4
−)リカルボン酸及びイギリス国特許第1572406
号明細書中に開示されたもの、硝酸塩、例えば硝酸ナト
リウム:亜硝酸塩例えば亜硝酸ナトリウム;モリブデン
酸塩例えばモリブデン酸ナトリウム;タングステン酸塩
:硅酸塩例えば硅酸ナトリウム;ベンゾトリアゾール、
ビス−ベンゾトリアゾール又は銅不活性化ベンゾトリア
ゾール又はトルトリアゾール誘導体又はこれらのマンニ
ッヒ塩基誘導体;N−アシルザルコシン;N−アシルイ
ミノジ酢酸;エタノールアミン:脂肪アミン;及びポリ
カルボン酸、例えばポリマレイン酸及びポリアクリル酸
、並びにこれらの各々のアルカリ金属塩、マレイン酸無
水物の共重合体例えばマレイン酸無水物とスルホン化ス
チレンとの共重合体、アクリル酸の共重合体例えばアク
リル酸トヒドロキシアルキル化アクリル酸との共重合体
、及びポリマレイン酸及びポリアクリル酸の置換誘導体
及びこれらの共重合体全使用することができる。更に、
このような完全な水性系においては1本発明に基づいて
使用するトリアゾール銅腐食防止剤は分散及び/又は限
界(threshold )剤例えば重合されたアクリ
ル酸(又はその塩)、ホスフィノ−ポリカルボン酸(英
国特許第1458235号明細書中に記載され、特許請
求されている)、ヨーロッパ特許願第0150706ル
ミに記載されているコテロメリック化合物、加水分解さ
れたポリアクリロニトリル、重合されたメタクリル酸及
びその塩、ポリアクリルアミド及びアクリル酸とメタク
リル酸からのその共重合体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、タンニン、ナフタレンスルホン酸/ホルムアルデ
ヒド縮合生成物、澱粉及びその誘導体、セルロース、ア
クリル酸/低級アルキルヒドロキシアクリレート共重合
体例えばアメリカ合衆国特許明細書第4029577号
中に記載されているもの、スチレン/マレイン酸無水物
共重合体及びスルホン化スチレンホモポリマー例えばア
メリカ合衆国特許明細書第45747’55号中に記載
されているもの及びこれらを組合せたものと一緒に使用
することができる。特殊な限界剤、例えば2−ホスホノ
ブタン−1,2,4−)リーカルボン酸、アセトジホス
ホン酸、加水分解されたポリマレイン酸無水物及びその
塩、アルキルホスホン酸、ヒドロキシホスホノ酢酸、1
−アミノアルキル−1,1−ジホスホン酸及びこれらの
塩、及びアルカリ金属ポリ−ホスフェートも又使用する
ことができる。
沈殿剤例えばアルカリ金属オルトホスフェート、カーボ
ネート;酸素掃去剤例えばアルカリ金属スルフイツト及
びヒドラジン;金属イオン封鎖剤例えばニトリロトリ酢
酸及びその塩:消泡剤例えばシリコーン例えばポリジメ
チルシロキサン、ジステアリルセバカミド、ジステアリ
ルシアシバミド及びエチレンオキシド及び/又はプロピ
レンオキシド縮合物から誘導された関連生成物、更に脂
肪アルコール例えばカプリルアルコール及びこれらのエ
チレンオキシド縮合物;及び殺菌剤例えばアミン、第4
アンモニウム化合物、クロロフェノール、含硫黄化合物
例えばスルホン、メチレンビスチオシアネート及びカル
バメート、イソチアゾロン、臭素化プロピオンアミド、
トリアジン、ホスホニウム化合物、塩素及び塩素放出剤
及び有機金属化合物例えばトリブチル錫オキシド、が使
用できる。
ネート;酸素掃去剤例えばアルカリ金属スルフイツト及
びヒドラジン;金属イオン封鎖剤例えばニトリロトリ酢
酸及びその塩:消泡剤例えばシリコーン例えばポリジメ
チルシロキサン、ジステアリルセバカミド、ジステアリ
ルシアシバミド及びエチレンオキシド及び/又はプロピ
レンオキシド縮合物から誘導された関連生成物、更に脂
肪アルコール例えばカプリルアルコール及びこれらのエ
チレンオキシド縮合物;及び殺菌剤例えばアミン、第4
アンモニウム化合物、クロロフェノール、含硫黄化合物
例えばスルホン、メチレンビスチオシアネート及びカル
バメート、イソチアゾロン、臭素化プロピオンアミド、
トリアジン、ホスホニウム化合物、塩素及び塩素放出剤
及び有機金属化合物例えばトリブチル錫オキシド、が使
用できる。
式Iで表わされる化合物は水−及び油ベースの基剤に対
して良好表溶解度を有するとともに優秀な調子活性化特
性を兼ね備えている。
して良好表溶解度を有するとともに優秀な調子活性化特
性を兼ね備えている。
以下の実施例において本発明を更に詳細に説明する。本
文中に示す全ての部及び百分率は重量比によって示す。
文中に示す全ての部及び百分率は重量比によって示す。
実施例1及び2は比較の目的のためのみに含まれる。
式■で表わされる試験化合物の(LO06%溶液’e
、 rLl 321/l1MgBo4・7 H*O及U
0.681 /1CaCJz・6HzOf含む水(D
IN51360 試験にオいて使用される水)中で調製
し、次いでこの溶液のpH1=水酸化ナトリウムを用い
てa5に調節する。
、 rLl 321/l1MgBo4・7 H*O及U
0.681 /1CaCJz・6HzOf含む水(D
IN51360 試験にオいて使用される水)中で調製
し、次いでこの溶液のpH1=水酸化ナトリウムを用い
てa5に調節する。
銅箔片(20X50XQ、1朋)’r水に浸けた綿及び
粉末状軽石を用いてこすることによって洗浄し、乾燥し
1次いで重さを計る。次いでこれをねじ蓋を設えた60
rd瓶中に入っている先に調製した溶液50Tnl中に
充分処理す。次いでこの瓶を70℃に保持でれたオープ
ン中に24時間放置する。この時間が終った時点で、細
片を除き、洗浄し、次いで乾燥し、そしてその色を記録
する(ASTMD1so色等級を使用する)。次いで2
0℃の5N塩酸中に15秒間浸し、洗浄し、乾燥し、そ
して再び重量を計る。
粉末状軽石を用いてこすることによって洗浄し、乾燥し
1次いで重さを計る。次いでこれをねじ蓋を設えた60
rd瓶中に入っている先に調製した溶液50Tnl中に
充分処理す。次いでこの瓶を70℃に保持でれたオープ
ン中に24時間放置する。この時間が終った時点で、細
片を除き、洗浄し、次いで乾燥し、そしてその色を記録
する(ASTMD1so色等級を使用する)。次いで2
0℃の5N塩酸中に15秒間浸し、洗浄し、乾燥し、そ
して再び重量を計る。
結果を表Iに要約する。
ASTMD130の等級において、1は零ないしわずか
な錆を示し、2は中程度の錆゛を示し、3は暗い錆を示
し、そして4は腐食を示す。記号A、B及びDは数値で
示す等級の範囲内のわずかの差を示す。
な錆を示し、2は中程度の錆゛を示し、3は暗い錆を示
し、そして4は腐食を示す。記号A、B及びDは数値で
示す等級の範囲内のわずかの差を示す。
式■で表わされる試験化合物の[12%溶液を下記組成
よりなる不凍配合物中に調装する:成分
重量% ボラックス(Borax ) 5%トリエタ
ノールアミン 2.9チ燐酸
1.1チグリコール 96チ 次いでα2チ試験配合物’eAsTMD1384水を用
いて33容量チに希釈すると、666 ppmの試験化
合物濃度を得る。
よりなる不凍配合物中に調装する:成分
重量% ボラックス(Borax ) 5%トリエタ
ノールアミン 2.9チ燐酸
1.1チグリコール 96チ 次いでα2チ試験配合物’eAsTMD1384水を用
いて33容量チに希釈すると、666 ppmの試験化
合物濃度を得る。
5 X Q、5 (Z62crILX 127CrIL
)の寸法の清浄な予め重量測定した銅箔細片を溶液中に
入れ、その溶液温度−1z7B−82℃に保持しながら
48時間空気i1 l/時間の速度でその溶液を通し完
了後、この銅細片を溶液から取ル出し、脱イオン水を用
いて洗浄し、次いで20℃で15秒間5N塩酸溶液中に
浸す。次いで銅細片を洗浄し、再び重さを計る。
)の寸法の清浄な予め重量測定した銅箔細片を溶液中に
入れ、その溶液温度−1z7B−82℃に保持しながら
48時間空気i1 l/時間の速度でその溶液を通し完
了後、この銅細片を溶液から取ル出し、脱イオン水を用
いて洗浄し、次いで20℃で15秒間5N塩酸溶液中に
浸す。次いで銅細片を洗浄し、再び重さを計る。
試験溶液及び銅細片の両方の外観を記録し。
そしてその重量損失を■単位で表わす。
結果を表■に示す。
実施例14及び15
2枚の清浄な、予め重量測定された銅片(50冨舅x
25 ym X 1 m ) を式Iで表わされる化
合物の所望量を含むpH7の蒸留水中の500ppm塩
化ナトリウム溶液200d中に吊す。
25 ym X 1 m ) を式Iで表わされる化
合物の所望量を含むpH7の蒸留水中の500ppm塩
化ナトリウム溶液200d中に吊す。
次いでこの試験片を65時間放置し更に空気流通速度5
oon//分で40℃で1時間放置すると、蒸発による
水の損失は蒸留水で補充する。
oon//分で40℃で1時間放置すると、蒸発による
水の損失は蒸留水で補充する。
清浄にした後、この2枚の金属片の重量損失を決定し、
次いで腐食率’ff: ”9 / dm /日(mdd
)単位で計算する。
次いで腐食率’ff: ”9 / dm /日(mdd
)単位で計算する。
結果を表■に示す。
表■
実施例16
式Iで表わされる試験化合物のα05チ溶液を。
添加され溶された硫黄soppm’i含むタービン品質
の鉱物油中で調製する。
の鉱物油中で調製する。
銅細片(60X10X1m)を1石油エーテルで湿らせ
た細土に撮み上げられた100等級の炭化硅素の小砂を
用いて研ぐ。次いでこの研いた細片を前記調製溶液中に
迅速に全体を吊し、これ全100℃で2時間保持する。
た細土に撮み上げられた100等級の炭化硅素の小砂を
用いて研ぐ。次いでこの研いた細片を前記調製溶液中に
迅速に全体を吊し、これ全100℃で2時間保持する。
この時間経過後。
細片を除き、石油エーテルを用いて洗浄し、乾燥し、次
いでこの色f ASTMD 13o銅細片腐食標準図の
色と比べる 結果を表■に要約する。
いでこの色f ASTMD 13o銅細片腐食標準図の
色と比べる 結果を表■に要約する。
表■
実施例17ないし19
3.3−エチレン−ビス(1,2,4−)リアゾリン−
5−チオン)(11,4,!i’;a05そル)を、4
5−50℃で亜硝酸ナトリウム(f105II)’((
含む濃硝酸(10m/ )と水(20yJ )の攪拌混
合物に少量づつ加える。添加完了後、この混合物を氷上
で冷却し、次いで5096 NaOH溶tILヲ用いて
中和する。中和によって、白色固体の3′。
5−チオン)(11,4,!i’;a05そル)を、4
5−50℃で亜硝酸ナトリウム(f105II)’((
含む濃硝酸(10m/ )と水(20yJ )の攪拌混
合物に少量づつ加える。添加完了後、この混合物を氷上
で冷却し、次いで5096 NaOH溶tILヲ用いて
中和する。中和によって、白色固体の3′。
5−エチレン−ビス−1,2,4−トリアゾールが沈殿
するのでこれを濾取し、少量の水を用いて洗浄し、次い
で真空中で乾燥する。
するのでこれを濾取し、少量の水を用いて洗浄し、次い
で真空中で乾燥する。
収量=42g;融点=241−3℃
1HNMR(Da −Me 鵞S O) : δ115
(S、4H);81 (S、2H: 10−11 (広
幅ピーク)。
(S、4H);81 (S、2H: 10−11 (広
幅ピーク)。
2H)
’CNMR(Da −MezS O) ’δ2&2,1
4a8゜15ρ1 同様の手順を用いて、5.3′−[1,3−プロピレン
コービス(1,2,4−トリアゾール)。
4a8゜15ρ1 同様の手順を用いて、5.3′−[1,3−プロピレン
コービス(1,2,4−トリアゾール)。
融点135−40℃及び3.5’−[1,4−ブチレン
]−ビス(1,2,4−トリアゾール)、融点236−
9℃をm製した。
]−ビス(1,2,4−トリアゾール)、融点236−
9℃をm製した。
特 許 出 願 人 チパーガイギーアクチェン
ゲゼルシャフト
ゲゼルシャフト
Claims (19)
- (1)次式 I :▲数式、化学式、表等があります▼(
I ) 〔式中、R^1はH又はSHを表わし;そしてR^2は
炭素原子数2ないし20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル
基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素
原子数7ないし13のアルアルキル基、フェニル基又は
ナフチル基を表わし、これらは非置換又はニトロ若しく
は水酸基によって置換され、またはピリジル基、モルホ
リニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ペルヒドロ
アゼピニル基又は次式II:▲数式、化学式、表等があり
ます▼(II) で表わされる残基を表わし、但しR^1が水素原子を表
わす場合はR^2は同時には炭素原子数2ないし20の
アルキル基、炭素原子数7ないし13のアルアルキル基
又は非置換のフェニル基若しくはナフチル基を表わすこ
とはできず、又はR^1が水素原子を表わす場合は、(
a)R^2は式X−アリーレン(式中、Xは次式III:
▲数式、化学式、表等があります▼(III)で表わされ
る基を表わす)を有する炭素原子数6又は10のアリー
レン残基を表わし得るか、又は(b)R^2は残基X(
式中、Xは前記と同じ意味を表わす)を表わし得るか、
又は(c)R^2は所望によりヘテロ原中によって中断
され且つ式X−アルキレン(式中、Xは前記と同じ意味
を表わす)を有する炭素原子数1ないし8のアルキレン
残基を表わし得る〕を有するトリアゾール化合物の腐食
防止量を銅又は銅を含む金属の表面と接触させることよ
りなる、銅又は銅を含む金属の腐食防止方法。 - (2)トリアゾール化合物が次式 I A:▲数式、化学
式、表等があります▼( I A)〔式中、R^2′はX
−アルキレン(炭素原子数1ないし8)基(式中、Xは
特許請求の範囲第1項記載の意味を表わす)〕を有する
特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)R^2′がX−アルキレン(炭素原子数1ないし
2)基(式中、Xは特許請求の範囲第1項記載の意味を
表わす)を表わす特許請求の範囲第2項記載の方法。 - (4)トリアゾール化合物が次式 I B:▲数式、化学
式、表等があります▼( I B)〔式中、R^2″は炭
素原子数2ないし20のアルキル基を表わす〕を有する
特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (5)R^2″が炭素原子数4ないし10のアルキル基
を表わす特許請求の範囲第4項記載の方法。 - (6)銅又は銅を含む金属と接触する基剤と、次式 I
:▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1はH又はSHを表わし;そしてR^2は
炭素原子数2ないし20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル
基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素
原子数7ないし13のアルアルキル基、フェニル基又は
ナフチル基を表わし、これらは非置換又はニトロ若しく
は水酸基によって置換され、またはピリジル基、モルホ
リニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ペルヒドロ
アゼピニル基又は次式II:(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表わされる残基を表わし、但しR^1が水素原子を表
わす場合はR^2は同時には炭素原子数2ないし20の
アルキル基、炭素原子数7ないし13のアルアルキル基
又は非置換のフェニル基若しくはナフチル基を表わすこ
とはできず、又はR^1が水素原子を表わす場合は、(
a)R^2は式X−アリーレン(式中、Xは次式III: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で表わされる基を表わす)を有する炭素原子数6又は1
0のアリーレン残基を表わし得るか、又は(b)R^2
は残基X(式中、Xは前記と同じ意味を表わす)を表わ
し得るか、又は(c)R^2は所望によりヘテロ原中に
よって中断され且つ式X−アルキレン(式中、Xは前記
と同じ意味を表わす)を有する炭素原子数1ないし8の
アルキレン残基を表わし得る〕で表わされるトリアゾー
ル化合物の銅腐食防止量とからなる組成物。 - (7)式 I で表わされる化合物の量が基剤の全重量に
対して重量比で0.0001%ないし5%である特許請
求の範囲第6項記載の組成物。 - (8)基剤が機能性流体である特許請求の範囲第6項記
載の組成物。 - (9)機能性流体が潤滑油、圧媒液;水中油滴又は油中
水滴系;鉱物油又は水性塩基を含む金属作動液;水、水
性グリコール、又はエチレングリコール(若しくはプロ
ピレングリコール)/メタノールを基剤としたエンジン
冷却液系;又は変圧器若しくは開閉器油である特許請求
の範囲第8項記載の組成物。 - (10)機能性流体が油を基剤とするものであり、且つ
式 I で表わされる化合物中、R^1がHを表わし、R
^2が親油基を表わす特許請求の範囲第8項記載の組成
物。 - (11)R^2が炭素原子数5ないし12のシクロアル
キル基又は置換フェニル若しくはナフチル基を表わす特
許請求の範囲第10項記載の組成物。 - (12)機能性流体が水性の、グリコール又は水/グリ
コール液であり、且つ式 I で表わされる化合物中、R
^1がH又はSHを表わし、R^2が炭素原子数4ない
し7のアルキル基、炭素原子数6若しくは10のアリー
ル基、炭素原子数7ないし13のアルアルキル基又は式
X−(CH_2)_n(式中、Xは特許請求の範囲第6
項記載の意味を表わす)で表わされる残基を表わし、n
が0又は1ないし8であり、但し、R^1が水素原子を
表わす場合はR^2は同時には炭素原子数2ないし20
のアルキル基、炭素原子数7ないし13のアルアルキル
基又は非置換フェニル若しくはナフチル基を表わすこと
ができない特許請求の範囲第8項記載の組成物。 - (13)機能性流体が油を基剤とするものであり、且つ
1種又はそれより多種の酸化防止剤、金属不活性化剤、
更に腐食又は錆防止剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤
、分散剤/界面活性剤又は耐摩耗添加剤を含む特許請求
の範囲第8項記載の組成物。 - (14)機能性流体が水を基剤とするものであり、且つ
1種又はそれより多種の酸化防止剤、他の腐食又は錆防
止剤、金属不活性化剤、極圧又は耐摩耗添加剤、錯生成
剤、沈殿防止剤、殺菌剤、緩衝剤又は消泡剤を含む特許
請求の範囲第8項記載の組成物。 - (15)基剤が工業用冷却水、水性空気調節系、蒸気発
生系、海水蒸発系、圧力釜系、又は水性閉鎖回路加熱若
しくは冷媒系である特許請求の範囲第6項記載の組成物
。 - (16)基剤が1種又はそれより多種の別の腐食防止剤
;分散及び/又は限界(threshold)剤;沈殿
剤;酸素掃去剤;消泡剤;又は殺菌剤を含む特許請求の
範囲第15項記載の組成物。 - (17)3,3′−エチレン−ビス(1,2,4−トリ
アゾール)。 - (18)3,3′−〔1,3−プロピレン〕−ビス(1
,2、4−トリアゾール)。 - (19)3,3′−〔1,4−ブチレン〕−ビス(1,
2,4−トリアゾール)。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8526160 | 1985-10-23 | ||
GB858526160A GB8526160D0 (en) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | Corrosion inhibition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6299484A true JPS6299484A (ja) | 1987-05-08 |
Family
ID=10587134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61252779A Pending JPS6299484A (ja) | 1985-10-23 | 1986-10-23 | 銅の腐食防止方法及び銅と接触し且つ銅に対する特定のチアゾ−ル腐食防止剤を含む組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6299484A (ja) |
DE (1) | DE3635636A1 (ja) |
FR (1) | FR2588883A1 (ja) |
GB (2) | GB8526160D0 (ja) |
IT (1) | IT8622087A0 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02122060A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Technol Res Assoc Super Heat Pump Energ Accum Syst | ケミカル蓄熱装置およびその表面処理方法 |
CN103086988A (zh) * | 2013-02-21 | 2013-05-08 | 天津师范大学 | 苯基双三唑化合物及其制备方法与应用 |
WO2023190264A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 四国化成工業株式会社 | トリアゾール化合物、該トリアゾール化合物の合成方法、カップリング剤およびそれらの利用 |
WO2024005117A1 (ja) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 四国化成工業株式会社 | 金属コードの表面処理剤及びその用途 |
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---|---|---|---|---|
GB9013142D0 (en) * | 1990-06-13 | 1990-08-01 | Ciba Geigy Ag | Chemical compounds useful as metal deactivators |
DE102014105823A1 (de) | 2014-04-25 | 2015-10-29 | Harting Kgaa | Nachreinigungsverfahren von metallischen Kontaktelementen |
WO2018053948A1 (zh) | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 中南大学 | 一种含唑硫酮结构的浮选捕收剂的应用 |
Family Cites Families (5)
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JPS55164263A (en) * | 1979-06-09 | 1980-12-20 | Toshiba Chem Corp | Electrical insulating varnish for cloth pipe |
US4357396A (en) * | 1981-01-26 | 1982-11-02 | Ppg Industries, Inc. | Silver and copper coated articles protected by treatment with mercapto and/or amino substituted thiadiazoles or mercapto substituted triazoles |
DE3129193A1 (de) * | 1981-07-24 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Azolderivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als schaedlingsbekaempfungsmittel |
-
1985
- 1985-10-23 GB GB858526160A patent/GB8526160D0/en active Pending
-
1986
- 1986-10-20 DE DE19863635636 patent/DE3635636A1/de not_active Withdrawn
- 1986-10-21 GB GB08625208A patent/GB2182030A/en not_active Withdrawn
- 1986-10-22 IT IT8622087A patent/IT8622087A0/it unknown
- 1986-10-22 FR FR8614642A patent/FR2588883A1/fr not_active Withdrawn
- 1986-10-23 JP JP61252779A patent/JPS6299484A/ja active Pending
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JPH0463149B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1992-10-08 | Suupaa Hiito Honpu Enerugii Shuseki Shisutemu Gijutsu Kenkyu Kumiai | |
CN103086988A (zh) * | 2013-02-21 | 2013-05-08 | 天津师范大学 | 苯基双三唑化合物及其制备方法与应用 |
CN103086988B (zh) * | 2013-02-21 | 2014-10-29 | 天津师范大学 | 苯基双三唑化合物及其制备方法与应用 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8526160D0 (en) | 1985-11-27 |
GB8625208D0 (en) | 1986-11-26 |
DE3635636A1 (de) | 1987-04-23 |
FR2588883A1 (fr) | 1987-04-24 |
IT8622087A0 (it) | 1986-10-22 |
GB2182030A (en) | 1987-05-07 |
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