JPS60156510A - クラツクの生じない無機半透過膜の製法 - Google Patents
クラツクの生じない無機半透過膜の製法Info
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- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
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- B01D2325/02—Details relating to pores or porosity of the membranes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
成る微孔性支持体をコーティング材料に対して不溶性の
媒体中の無機膜形成コーティング材料の安定な懸濁液で
コーティングし、それから中間生成物を加熱する、乾燥
した、クラノクの生じない、機械的化学的に安定な、半
透過性の無機膜の製法に関する。
媒体中の無機膜形成コーティング材料の安定な懸濁液で
コーティングし、それから中間生成物を加熱する、乾燥
した、クラノクの生じない、機械的化学的に安定な、半
透過性の無機膜の製法に関する。
このような方法は、ヨーロノパ特許出願牙0、040.
282号明細書から公知である。この出願間 □細書に
よれば微孔性支持体は、炭素または焼結無機酸化物から
成り、かつ5ないし60%の孔容積と5mμmないし4
0μmの孔寸法を有し、この微孔性支持体は、懸濁液の
連続相と混和可能な揮発性液体の存在するところで、コ
ーティング材料に対して不溶性の媒体中の無機膜形成コ
ーティング材料から成る0.5ないし20重量%の懸濁
液でコー・、ティングされ、その際前記液体は、ゲルを
形成することなく支持体の孔内に膜形成コーティング材
料を引込む。それから揮発性液体は、コーティングから
喉除かれ、かつ膜は25℃以上に加熱され、かつ150
0℃にまで加熱して焼結される。
282号明細書から公知である。この出願間 □細書に
よれば微孔性支持体は、炭素または焼結無機酸化物から
成り、かつ5ないし60%の孔容積と5mμmないし4
0μmの孔寸法を有し、この微孔性支持体は、懸濁液の
連続相と混和可能な揮発性液体の存在するところで、コ
ーティング材料に対して不溶性の媒体中の無機膜形成コ
ーティング材料から成る0.5ないし20重量%の懸濁
液でコー・、ティングされ、その際前記液体は、ゲルを
形成することなく支持体の孔内に膜形成コーティング材
料を引込む。それから揮発性液体は、コーティングから
喉除かれ、かつ膜は25℃以上に加熱され、かつ150
0℃にまで加熱して焼結される。
この公知の方法は、次のような欠点を有するものと考え
られる。
られる。
1 膜の孔寸法の分布については何も述べられていない
。しかしながら使用したコーティング懸濁液は比較的粗
い(固体物質の表面積比は1dあたり300セ以下であ
る)。最終的に得られる穴は、そのため比較的大きくな
ることがあり、支持体の孔の寸法に依存する。それ程狭
くない用途によれば、支持体の孔寸法分布は、膜自身に
おける孔寸法と孔寸法分布に悪影響を与える。従ってこ
□れら特性を満足できるようにコントロールすることは
困難である。
。しかしながら使用したコーティング懸濁液は比較的粗
い(固体物質の表面積比は1dあたり300セ以下であ
る)。最終的に得られる穴は、そのため比較的大きくな
ることがあり、支持体の孔の寸法に依存する。それ程狭
くない用途によれば、支持体の孔寸法分布は、膜自身に
おける孔寸法と孔寸法分布に悪影響を与える。従ってこ
□れら特性を満足できるようにコントロールすることは
困難である。
2、 適当な膜層の、すなわち支持体の孔内にたい積す
る層の厚さは、支持体の孔寸法分布に依存し、特に支持
体の厚さにわたって生じるこう配とここにおける局所的
な変化に依存する。
る層の厚さは、支持体の孔寸法分布に依存し、特に支持
体の厚さにわたって生じるこう配とここにおける局所的
な変化に依存する。
3、 コーティング懸濁液の連続相と混和可能で形成ス
べきコーティングに対して不溶性の揮発性液体を使用す
ることがどうしても必要であり、それ匠より水を使用す
ることはできない。
べきコーティングに対して不溶性の揮発性液体を使用す
ることがどうしても必要であり、それ匠より水を使用す
ることはできない。
米国特許第3.926.799号および第3.977.
967号明細書もここに挙げることができる。両特許明
細書によれば層は、多孔性支持体上にたい積するが、材
料は、乾燥中の収縮により生じるクラ7クの形成を防ぐ
ため湿ったままでなければならない。
967号明細書もここに挙げることができる。両特許明
細書によれば層は、多孔性支持体上にたい積するが、材
料は、乾燥中の収縮により生じるクラ7クの形成を防ぐ
ため湿ったままでなければならない。
孔の寸法についてはほとんど述べられていない。
本発明の目的は、20μm以下の厚さと少なくとも大き
な孔の側で明確に区切られた狭い範囲に維持された孔分
布とを有し、乾燥し、クラ7クの生じない、機械的化学
的匠安定な、半透過性の無機膜を提供することにある。
な孔の側で明確に区切られた狭い範囲に維持された孔分
布とを有し、乾燥し、クラ7クの生じない、機械的化学
的匠安定な、半透過性の無機膜を提供することにある。
本発明によれば、この目的は次のようにして達成される
。すなわち3 nmないし2μmの粒度な有するコロイ
ド金属酸化物または金属水酸化物粒子の安定なゾル中に
浸漬して50μmないし5 mmの厚さと5μm以下(
なるべく0.5μm)の直径の孔とを有する乾燥した微
孔性の無機支持体をコーティングし、その際金属酸化物
または金属水酸化物粒子に対して不溶性の媒体(なるべ
く水)中のゾルの分散相の濃度は、0.Olないし25
重量%、かつなるべく0.5ないし5重量係であり、ま
たその際境界層におけるゾルは、まず反応してリオゲル
になり、液体から支持体を取出し、空気中で乾燥して1
ないし20μmの厚さのキセロゲルにし、かつそれから
乾燥しかつ少なくとも390℃の温度にまで加熱する。
。すなわち3 nmないし2μmの粒度な有するコロイ
ド金属酸化物または金属水酸化物粒子の安定なゾル中に
浸漬して50μmないし5 mmの厚さと5μm以下(
なるべく0.5μm)の直径の孔とを有する乾燥した微
孔性の無機支持体をコーティングし、その際金属酸化物
または金属水酸化物粒子に対して不溶性の媒体(なるべ
く水)中のゾルの分散相の濃度は、0.Olないし25
重量%、かつなるべく0.5ないし5重量係であり、ま
たその際境界層におけるゾルは、まず反応してリオゲル
になり、液体から支持体を取出し、空気中で乾燥して1
ないし20μmの厚さのキセロゲルにし、かつそれから
乾燥しかつ少なくとも390℃の温度にまで加熱する。
所望ならば、このように形成された膜は、その後はぼ1
500℃までの温度で焼結される。
500℃までの温度で焼結される。
周知技術と比較して本発明による方法により得られる利
点は次の通りである。
点は次の通りである。
0 孔の寸法を十分にコントロールできる(粒子寸法の
卓越したコントロールと優れた粒子形状、すなわち板片
状になる)。
卓越したコントロールと優れた粒子形状、すなわち板片
状になる)。
0 粒子寸法の分布が極めて狭い。
0 極めて小さな孔を得ることができる。
ここに本発明の真の価値がある。この利点のため、本発
明の用途は、液相内の分離、例えば脱水に限定されるの
ではなく、比較的高温の場合でさえガスの分離にまで拡
張される。
明の用途は、液相内の分離、例えば脱水に限定されるの
ではなく、比較的高温の場合でさえガスの分離にまで拡
張される。
コロイド金属酸化物または金属水酸化物粒子の安定なゾ
ルの製造は、本発明の一部をなすのではなく、かつ米国
特許牙3.941.719号および牙3.944.65
8号明細書に与えられた開示内容に従って有利に行うこ
とができる。好みによりスタートには安定なベーマイト
ゾルが使われる。
ルの製造は、本発明の一部をなすのではなく、かつ米国
特許牙3.941.719号および牙3.944.65
8号明細書に与えられた開示内容に従って有利に行うこ
とができる。好みによりスタートには安定なベーマイト
ゾルが使われる。
牙1図は、安定なベーマイトゾル(γ−A100H)に
よりスタートする本発明による方法を概略的に示してい
る。方法Aによれば、乾燥は空気中で行 □われるだけ
であり、方法Bによれば、一部空気中で、それから超臨
界的に行われ、また方法Cによれ−ば、超臨界的に行わ
れるだけである。
よりスタートする本発明による方法を概略的に示してい
る。方法Aによれば、乾燥は空気中で行 □われるだけ
であり、方法Bによれば、一部空気中で、それから超臨
界的に行われ、また方法Cによれ−ば、超臨界的に行わ
れるだけである。
牙2・図は、ベーマイト1モルあたり0.07モ 1ル
のHNO3を使用した場合、曲線2.3および4により
それぞれ500℃、600℃および730℃の温度に加
熱したサンプルの孔直径分布を示しており、曲線1は、
加熱しないベーマイト(γ−A100H)の孔寸法分布
を示している。これら曲線は円柱状の孔に基いている。
のHNO3を使用した場合、曲線2.3および4により
それぞれ500℃、600℃および730℃の温度に加
熱したサンプルの孔直径分布を示しており、曲線1は、
加熱しないベーマイト(γ−A100H)の孔寸法分布
を示している。これら曲線は円柱状の孔に基いている。
サンプルの加熱は、毎時10℃の加熱速度で行われ、か
つ24時間にわたって最終温度に維持した。
つ24時間にわたって最終温度に維持した。
牙3図は、500°Cで焼成したサンプルの多孔度ト、
孔直径を、ゾル沖の酸濃度に対してプロットして示して
おり、その際酸としてはHClO4が使われている。孔
構造における酸濃度の影響は、HNO3を使用した場合
には存在しない。
孔直径を、ゾル沖の酸濃度に対してプロットして示して
おり、その際酸としてはHClO4が使われている。孔
構造における酸濃度の影響は、HNO3を使用した場合
には存在しない。
支持体の適合性は、主として支持体の孔寸法によって決
まる。孔があまり大きいと、この時ゾル粒子が支持体に
吸込まれ、リオゲルがここに生じないので、層は形成さ
れない。他方において孔が小さすぎる場合には、層が形
成されることはされるが、最終製品の流れの抵抗が大き
すぎてしまう。適当な乾燥した微孔性支持体の例は、6
0容積チの多孔度と0.34μmの代表的孔寸法とを有
し孔容積の90チが0.1ないし0.53μmの間にあ
るα−A1203支持体、および46容積チの多孔度と
0.12μmの代表的孔寸法とを有し孔容積の90%が
0.08ないし0.17μの間にあるα−A120g支
持体である。
まる。孔があまり大きいと、この時ゾル粒子が支持体に
吸込まれ、リオゲルがここに生じないので、層は形成さ
れない。他方において孔が小さすぎる場合には、層が形
成されることはされるが、最終製品の流れの抵抗が大き
すぎてしまう。適当な乾燥した微孔性支持体の例は、6
0容積チの多孔度と0.34μmの代表的孔寸法とを有
し孔容積の90チが0.1ないし0.53μmの間にあ
るα−A1203支持体、および46容積チの多孔度と
0.12μmの代表的孔寸法とを有し孔容積の90%が
0.08ないし0.17μの間にあるα−A120g支
持体である。
ベーマイトゾルは板状の粒子を含んでいる。
このことは、非常に小さな孔直径および孔寸法分布にお
ける小さな広がりを得るために重要である。
ける小さな広がりを得るために重要である。
同時に極めて薄いクランクの生じない膜を得ることがで
きるのは、まさにこの板状のためである。
きるのは、まさにこの板状のためである。
ベーマイトを使用すれば、390℃に加熱することによ
り相の転移が生じる。この相転移は、次式で表わすこと
ができる。
り相の転移が生じる。この相転移は、次式で表わすこと
ができる。
2 AJi! OOH−−−) Al2O3” H2O
この転移中に孔の容積は増加する。孔の直径は、熱処理
に依存し、かつ乾燥したサンプル(200℃)における
3、、5nmから500℃で加熱した場合の4.411
mへ、また780℃で焼結した場合の8.2nmへと増
加する。この温度範囲にわたって総合的な多孔度は実質
的に一定である。テーブル■に示す゛ように孔寸法は、
900℃以上の焼結温度で急速に増大する。第2図から
明らかなように、サンプルの孔寸法の広がりは少ない。
この転移中に孔の容積は増加する。孔の直径は、熱処理
に依存し、かつ乾燥したサンプル(200℃)における
3、、5nmから500℃で加熱した場合の4.411
mへ、また780℃で焼結した場合の8.2nmへと増
加する。この温度範囲にわたって総合的な多孔度は実質
的に一定である。テーブル■に示す゛ように孔寸法は、
900℃以上の焼結温度で急速に増大する。第2図から
明らかなように、サンプルの孔寸法の広がりは少ない。
特に代表的な孔寸法より大きな孔はほとんど存在しない
。lO,nm以上ノ直径を有する孔は、水銀ポロシメー
タでテストして800℃またはそれ以下の温度で処理し
たサンプル中には見出されなかった。
。lO,nm以上ノ直径を有する孔は、水銀ポロシメー
タでテストして800℃またはそれ以下の温度で処理し
たサンプル中には見出されなかった。
酸としてHC104を使用した場合、ゾル中の酸の濃度
を増すと、孔の直径が小さくなり、かつ最□終製品の多
孔度が減少することは明らかである。
を増すと、孔の直径が小さくなり、かつ最□終製品の多
孔度が減少することは明らかである。
例えばr −Al0OH1モルあたり0.05モルノH
clo。
clo。
を使用した場合、48チの多孔度と4.40mの孔直径
が得られるが、一方γ−Al○OH1モルあたり0.1
1モルのHC/ 04を使用した場合、38%の多孔度
と3.5 nmの孔直径が得られた。これらの結果は、
500℃で処理したサンプルに適用され、かつ円柱形の
孔について第3図に、示した。
が得られるが、一方γ−Al○OH1モルあたり0.1
1モルのHC/ 04を使用した場合、38%の多孔度
と3.5 nmの孔直径が得られた。これらの結果は、
500℃で処理したサンプルに適用され、かつ円柱形の
孔について第3図に、示した。
微結晶が集塊状にゆるく結合しているだけで゛あるとす
れば、膜の孔寸法につい℃重要なものは、1次微結晶の
形と寸法だけである。集塊物の寸法は、クリティカルで
はないが、支持体の許容量大孔寸法を決定する。
れば、膜の孔寸法につい℃重要なものは、1次微結晶の
形と寸法だけである。集塊物の寸法は、クリティカルで
はないが、支持体の許容量大孔寸法を決定する。
ゾルを微孔性支持体と接触させると、分散媒体(なるべ
く水)は、前記周知の方法とは相違して支持体の孔の毛
管吸引力によって支持体とゾルの間の境界層から取出さ
れ、それによりこの境界層にあるゾルは、不安定になり
、かつリオゲルに転移し、このリオゲルの固体物質の密
度は低い。
く水)は、前記周知の方法とは相違して支持体の孔の毛
管吸引力によって支持体とゾルの間の境界層から取出さ
れ、それによりこの境界層にあるゾルは、不安定になり
、かつリオゲルに転移し、このリオゲルの固体物質の密
度は低い。
液体から支持体を取出した後にゲル層は、支持体上に存
在したままであり、かつ空気中で乾燥することによりキ
セロゲルに転移する。適用した乾燥速度は、層の厚さに
依存し、すなわち層の厚さが厚い(薄い)程、乾燥速度
は遅い(早い)。
在したままであり、かつ空気中で乾燥することによりキ
セロゲルに転移する。適用した乾燥速度は、層の厚さに
依存し、すなわち層の厚さが厚い(薄い)程、乾燥速度
は遅い(早い)。
例えば毎時10℃で最終温度まで加熱してリオゲルを処
理した直後に中間生成物を焼成した場合、厚さ2μmの
膜がクラックを生じずに得られたが、一方7μmの厚さ
の膜を有する最終製品を作る場合、同じ処理では膜にク
ラックが生じる。この場合クラックの形成は、焼成する
前に空気中で24時間の間中間生成物を乾燥することに
よっ℃防止□できる。
理した直後に中間生成物を焼成した場合、厚さ2μmの
膜がクラックを生じずに得られたが、一方7μmの厚さ
の膜を有する最終製品を作る場合、同じ処理では膜にク
ラックが生じる。この場合クラックの形成は、焼成する
前に空気中で24時間の間中間生成物を乾燥することに
よっ℃防止□できる。
乾燥中に大きな毛管圧力が生じ、かつゲル層は、前記周
知の処理よりも強く収縮し、例えばリオゲル相における
lO容積チの初期相対密度からキセロゲル相の60容積
−の密度へと収縮する。
知の処理よりも強く収縮し、例えばリオゲル相における
lO容積チの初期相対密度からキセロゲル相の60容積
−の密度へと収縮する。
強く結合した水は、焼成によりキセロゲルから取除かれ
、かつ水利酸化物または水酸化物(ベーマイト)は、結
晶酸化物に転移する。材料が最終的な多孔度と孔直径に
関して機械的安定性、化学的耐性および最終的なミクロ
構造を持つ、ようになるのは、この相においてである。
、かつ水利酸化物または水酸化物(ベーマイト)は、結
晶酸化物に転移する。材料が最終的な多孔度と孔直径に
関して機械的安定性、化学的耐性および最終的なミクロ
構造を持つ、ようになるのは、この相においてである。
セラミック膜の焼結温度が高くなると、孔直径が大きく
なることは明らかである。このことは、以下のテーブル
によって示されている(牙2図も参照)。
なることは明らかである。このことは、以下のテーブル
によって示されている(牙2図も参照)。
テーブルI
T8−500℃Ts=600°CTs;780°CTs
=1oOo0C多孔度(%)’48 48 47 41
孔直径(++m)(1) 4.4 、s、18.1 7
8(I)−円柱形の孔(等方性粒子)について(If)
−スロット状の孔(板状粒子)について膜の層厚は、支
持体の孔直径と多孔度の適当な組合わせ、ゾル濃度およ
び浸漬時間によって所定の範囲内で変えてもよい。牙4
図は、焼成後の膜の厚さに対するゾル濃度と浸漬時間の
効果を示している。そのため使用したゾルは、ベーマイ
ト1モルあたり0.07モルのHNO3を含んでおり、
使用した支持体は、0.34±0.2μmの代表的な孔
寸法と60%の多孔度を有する。リオゲルを形成する処
理が極めて迅速に進行しかつ大量生産に適することは、
第4図から明らかである。図中直線+llは、1.3モ
ル/lのゾル濃度(ベーマイト7.4重量%)に関し、
また直線(2)は、0.8モル/lのゾル濃度(ベーマ
イト4.7重量%)に関するものである。
=1oOo0C多孔度(%)’48 48 47 41
孔直径(++m)(1) 4.4 、s、18.1 7
8(I)−円柱形の孔(等方性粒子)について(If)
−スロット状の孔(板状粒子)について膜の層厚は、支
持体の孔直径と多孔度の適当な組合わせ、ゾル濃度およ
び浸漬時間によって所定の範囲内で変えてもよい。牙4
図は、焼成後の膜の厚さに対するゾル濃度と浸漬時間の
効果を示している。そのため使用したゾルは、ベーマイ
ト1モルあたり0.07モルのHNO3を含んでおり、
使用した支持体は、0.34±0.2μmの代表的な孔
寸法と60%の多孔度を有する。リオゲルを形成する処
理が極めて迅速に進行しかつ大量生産に適することは、
第4図から明らかである。図中直線+llは、1.3モ
ル/lのゾル濃度(ベーマイト7.4重量%)に関し、
また直線(2)は、0.8モル/lのゾル濃度(ベーマ
イト4.7重量%)に関するものである。
前記のものよりも大きな層厚および多孔度を有するクラ
ックの生じない膜を得ることができる゛特別な実施例に
よれば、乾燥は、完全にまたは部分的に超臨界的な状態
で行われる。この手順によれば、液相は、メニスカスを
生じることなく、かつ大きな毛管力の作用を受けること
なく、リオゲルから取除かれる。そのため水は、酸化物
または′□水酸化物に対して不活性でありかつなるべく
低い臨界圧と温度を有する液体によってリオゲルから取
除かれる。液体はリオゲルを解凝してはいけない。その
ため利用できるこの液体は、例えばブタノールによりヘ
ゲル層が完全に飽和した後に、全□体を、圧力容器内で
液体の臨界点より高い温度にまで加熱し・、その際超臨
界蒸気が除去され、ゲル膜は冷却される。それから通常
の焼成、場合によっては焼結手順を行うことができる。
ックの生じない膜を得ることができる゛特別な実施例に
よれば、乾燥は、完全にまたは部分的に超臨界的な状態
で行われる。この手順によれば、液相は、メニスカスを
生じることなく、かつ大きな毛管力の作用を受けること
なく、リオゲルから取除かれる。そのため水は、酸化物
または′□水酸化物に対して不活性でありかつなるべく
低い臨界圧と温度を有する液体によってリオゲルから取
除かれる。液体はリオゲルを解凝してはいけない。その
ため利用できるこの液体は、例えばブタノールによりヘ
ゲル層が完全に飽和した後に、全□体を、圧力容器内で
液体の臨界点より高い温度にまで加熱し・、その際超臨
界蒸気が除去され、ゲル膜は冷却される。それから通常
の焼成、場合によっては焼結手順を行うことができる。
本発明による処理によって得られる膜は、900′□℃
までの温度で使用でき、一方例えばガス分離用の小さな
孔直径が維持される。
までの温度で使用でき、一方例えばガス分離用の小さな
孔直径が維持される。
無機膜の製造と利用を以下例によって説明する。
例 1
4cmの直径、2.:(、、の厚さおよび0.12μm
の代表的な孔寸法を有するα−A1203の微孔性円板
と、ベーマイト1モルあたり0.07モルのHNO3を
含むベーマイトゾル中に2秒間浸漬し、その際ベーマイ
ト濃度は3重量%である。支持体上にある得られたリオ
ゲルを、空気中で24時間乾燥し、それから毎時10℃
の速度で500℃に加熱し、かつ18時間この温度に維
持する。膜の層厚は3.5μであり、かつ膜材料の孔寸
法の分布は、牙2図に示した通りである。支持体上の膜
の水の流量は、lcAの膜表面積、1バールの圧力差お
よび1時間あたり1.oc++tのH2Oである。膜の
分離特性を判定するため、脱イオン水11あたり300
m’;/のゼルプアルブミン(69,000ドールトン
の分子量を有するたん白質)から成る溶液を使用する。
の代表的な孔寸法を有するα−A1203の微孔性円板
と、ベーマイト1モルあたり0.07モルのHNO3を
含むベーマイトゾル中に2秒間浸漬し、その際ベーマイ
ト濃度は3重量%である。支持体上にある得られたリオ
ゲルを、空気中で24時間乾燥し、それから毎時10℃
の速度で500℃に加熱し、かつ18時間この温度に維
持する。膜の層厚は3.5μであり、かつ膜材料の孔寸
法の分布は、牙2図に示した通りである。支持体上の膜
の水の流量は、lcAの膜表面積、1バールの圧力差お
よび1時間あたり1.oc++tのH2Oである。膜の
分離特性を判定するため、脱イオン水11あたり300
m’;/のゼルプアルブミン(69,000ドールトン
の分子量を有するたん白質)から成る溶液を使用する。
いわゆるかくはんした閉端部の透過性セルにおいて、9
6チの残1率と0.3 crl−cm−2・bar −
’ ・h−’の流量が測定された。
6チの残1率と0.3 crl−cm−2・bar −
’ ・h−’の流量が測定された。
例 ■
4cmの直径、2顛の厚さおよび0.34μmの代′表
的な孔寸法を有するα−A403の微孔性円板を、ベー
マイト1モルあたり0.09モルのHC/ O,を含む
ベーマイトゾル中に2秒間浸漬し、その際ベーマイト濃
度は14重量−である。支持体上にある得られたリオゲ
ルを、空気中で24時間乾燥し、それ゛から残った水を
第2ブタノールで洗浄する。
的な孔寸法を有するα−A403の微孔性円板を、ベー
マイト1モルあたり0.09モルのHC/ O,を含む
ベーマイトゾル中に2秒間浸漬し、その際ベーマイト濃
度は14重量−である。支持体上にある得られたリオゲ
ルを、空気中で24時間乾燥し、それ゛から残った水を
第2ブタノールで洗浄する。
この生成物を、圧力容器中で280℃およびiooバー
ルで超臨界的に乾燥し、それから毎時10℃の速度で5
00℃まで加熱し、かつ24時間この温度に維持する。
ルで超臨界的に乾燥し、それから毎時10℃の速度で5
00℃まで加熱し、かつ24時間この温度に維持する。
膜の層厚は7μmになり、かつ代表的な孔寸法は円柱形
の孔に関しC7皿である。
の孔に関しC7皿である。
支持体上の膜の水の流量は、0.8 d−cIn−2・
bar” ・h−1である。脱イオン水11あたり25
0mgのアルブミンから成る溶液の限外ろ過に対して、
残量は43%、かつ流量はO,j(7−crn−2・b
ar−’ −h−’である。
bar” ・h−1である。脱イオン水11あたり25
0mgのアルブミンから成る溶液の限外ろ過に対して、
残量は43%、かつ流量はO,j(7−crn−2・b
ar−’ −h−’である。
全体的に本発明は、5μm以下、なるべく0.01 I
imないし0.50μmの代表的な孔寸法を有するα−
A1203から成る微孔性支持体を使用し、3 、nm
ないし2μmの分散粒子を含みかつHNO3またはベー
マイト1モルあたり0.01ないし0.20モルの’I
CI O4を含んだベーマイトゾルを使用し、その際)
°ル濃度は0.01ないし25重着チであり、支持体と
ゾルの接触時間は、使用したゾル濃度と20μm以下の
膜層の所望の厚さとに依存して、工ないし5秒、なるべ
くはy2秒であり、また中間生成物を乾燥し、かつ少な
くとも390℃、高々1500°Cの温度に加熱する、
という点にあると言うことができる。
imないし0.50μmの代表的な孔寸法を有するα−
A1203から成る微孔性支持体を使用し、3 、nm
ないし2μmの分散粒子を含みかつHNO3またはベー
マイト1モルあたり0.01ないし0.20モルの’I
CI O4を含んだベーマイトゾルを使用し、その際)
°ル濃度は0.01ないし25重着チであり、支持体と
ゾルの接触時間は、使用したゾル濃度と20μm以下の
膜層の所望の厚さとに依存して、工ないし5秒、なるべ
くはy2秒であり、また中間生成物を乾燥し、かつ少な
くとも390℃、高々1500°Cの温度に加熱する、
という点にあると言うことができる。
最後に本発明は、前記仕様に従って作られた20μm以
下の厚さを有する、微孔性支持体上の膜にも関する。
下の厚さを有する、微孔性支持体上の膜にも関する。
オ1図は、本発明による方法を説明する流れ図、牙2図
は、本発明により作られたサンプルの孔寸法分布を示す
図、 第3図は、サンプルの多孔度と孔寸法を示す図、 牙4図は、浸漬時間と膜層の厚さの関係を示す図である
。 特許出願人 スチヒチング、エネルギオンデルツーク、
ツェントルム、ネーブル ランド 代理人弁理士 1) 代 盃 治 マリア 75六ケエル、ヘンゲロ、デ、タイクツ)−ス手続補正
書(自発) 昭和59年10月19日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 特願昭59−184745号 2 発明の名称 クラックの生じない無機半透過膜の製法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 名 称 スチヒチング、エネルギオンデルツーク、ツェ
ントルム、ネーブルラント 4、代理人 〒103 住 所 東京都中央区八重洲1丁[19番9号東京建物
ビル(電話271−8500代表)氏名 ((3171
)弁理士 田代然や岡5、補正の対象 明細書の全文 6、補正の内容 別紙の通り 明細書の浄書(内容に変更なし) 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 特願昭59−184745号 2 発明の名称 クラックの生じない無機半透過膜の製法a 補正をする
者 事件との関係 特許出願人 ′ 名 称 スチヒチング、エネルギオンデルッーク、ツェ
ントルム、ネーブルランド 4、代理人 〒103 &補正命令の日付 昭和60年1月29日(発送日) a補正の対象 図 面 7、補正の内容 別紙のとおり(図 面 1通C) 図面の浄書、内容に変更なし)
は、本発明により作られたサンプルの孔寸法分布を示す
図、 第3図は、サンプルの多孔度と孔寸法を示す図、 牙4図は、浸漬時間と膜層の厚さの関係を示す図である
。 特許出願人 スチヒチング、エネルギオンデルツーク、
ツェントルム、ネーブル ランド 代理人弁理士 1) 代 盃 治 マリア 75六ケエル、ヘンゲロ、デ、タイクツ)−ス手続補正
書(自発) 昭和59年10月19日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 特願昭59−184745号 2 発明の名称 クラックの生じない無機半透過膜の製法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 名 称 スチヒチング、エネルギオンデルツーク、ツェ
ントルム、ネーブルラント 4、代理人 〒103 住 所 東京都中央区八重洲1丁[19番9号東京建物
ビル(電話271−8500代表)氏名 ((3171
)弁理士 田代然や岡5、補正の対象 明細書の全文 6、補正の内容 別紙の通り 明細書の浄書(内容に変更なし) 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 特願昭59−184745号 2 発明の名称 クラックの生じない無機半透過膜の製法a 補正をする
者 事件との関係 特許出願人 ′ 名 称 スチヒチング、エネルギオンデルッーク、ツェ
ントルム、ネーブルランド 4、代理人 〒103 &補正命令の日付 昭和60年1月29日(発送日) a補正の対象 図 面 7、補正の内容 別紙のとおり(図 面 1通C) 図面の浄書、内容に変更なし)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 il+焼結した無機酸化物から成る微孔性の支持体を無
機膜形成コーティング材料の懸濁液でコーティングし、
それから加熱する、乾燥した、クラックの生じない、機
械的化学的に安定な、薄い、半透過性の無機膜の製法に
おいて、 3 nmないし2μmの粒度な有するコロイド金属酸化
物または金属水酸化物粒子の安定なゾル中に浸漬して5
0μmないし5 mmの厚さと5μm以下の直径の微孔
とを有する乾燥した微孔性の無機支持体をコーティング
し、その際金属酸化物または金属水酸4し物粒子に対し
て溶解しない媒体中の分散相の濃度は、0.01ないし
25重量%(かつなるべく0.5ないし5重量%)であ
り、またその際境界層におけるゾルは、まず変換されリ
オゲルになり、液体から支持体を取出し、かつ空気中で
乾燥し′CIないし20μmの厚さのキセロゲルにし、
かつそれから少なくとも390°Cの温度に加熱するこ
とにより、20μmal下の厚さの無機膜を製造するこ
とを特徴とする、クラックの生じない無機半透過膜の製
法。 (2)微孔性セラミック支持体としてα−A120.を
特徴する特許請求の範囲牙1項記載の方法。 f310.1oないし0.50μmの代表的な孔寸法を
有するα−A1203から成る微孔性支持体を特徴する
特許請求の範囲牙1項または第2項記載の方法。 f410.12ないし0.34μmの代表的な孔寸法を
有する微孔性セラミック支持体を特徴する特許請求の範
囲牙1〜3項の1つに記載の方法。 (513nmないし2μmの分散粒子を有する水中のベ
ーマイトから成るゾルを特徴する特許請求の範囲オl〜
4項の1つに記載の方法。 (6)ベーマイト1モルあたり0.Olないし0.20
モルのHC7?O,を含むゾルを使用し、中間生成物を
500℃で24時間加熱する、特許請求の範囲オl〜5
項の1つに記載の方法。 (カベ−マイト1モルあたり0.03ないし0.11モ
ルのHCl0.を含むゾルを使用し、中間生成物を50
0℃で24時間加熱する、特許請求の範囲牙1〜6項の
1つに記載の方法。 (8)HNOlを用いて安定なベーマイトゾルを特徴す
る特許請求の範囲牙1〜7項の1つに記載の方法。 (9)3重量%の濃度のゾルを使用し、かつ微孔性支持
体とベーマイトゾルの間の接触時間を1ないし5秒に調
節する。特許請求の範囲牙1〜8項□の1つに記載の方
法。 αQ中間生成物を390℃ないし1500℃の温度で焼
結する、特許請求の範囲牙1〜9項の1つに記載の方法
。 αD代表的には5μm以下の孔寸法を有するが、有利に
は0.10μmないし0.50μmの孔寸法を有するα
−A120.から成る微孔性支持体上で20μm以下の
厚さを有する無機膜において、 3 nnlないし2μmの分散粒子を含むベーマイトゾ
ル中に1ないし5秒、なるべく2秒間支持体を浸漬し、
その際このゾルは、HNO3を含み、またはベーマイト
1モルあたり0.Olないし0.20モルのHC70,
を含み、かつ0.01ないし25重量%のゾル濃度を有
し、かつコーティングした支持体を、それから乾燥し、
かつ少な(とも390℃、高々1500℃の温度に加熱
することを特徴とする、無機膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8303079A NL8303079A (nl) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | Werkwijze voor de bereiding van scheurvrije semi-permeabele anorganische membranen. |
NL83.03.079 | 1983-09-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60156510A true JPS60156510A (ja) | 1985-08-16 |
Family
ID=19842350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59184745A Withdrawn JPS60156510A (ja) | 1983-09-05 | 1984-09-05 | クラツクの生じない無機半透過膜の製法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4711719A (ja) |
EP (1) | EP0144097B1 (ja) |
JP (1) | JPS60156510A (ja) |
DE (1) | DE3478577D1 (ja) |
NL (1) | NL8303079A (ja) |
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JPS61192306A (ja) * | 1977-04-12 | 1986-08-26 | コミツサリア タ レネルギ− アトミ−ク | 透過性多孔質無機膜 |
JPS62279806A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-12-04 | アルカン・インタ−ナシヨナル・リミテツド | 複合シ−ト及びその製法 |
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US4929406A (en) * | 1988-05-27 | 1990-05-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Process for producing an inorganic porous membrane |
JPH03284328A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Ngk Insulators Ltd | セラミック膜フイルタおよびその製造方法 |
US5110470A (en) * | 1989-10-26 | 1992-05-05 | Toto Ltd. | Ceramic filter and process for making it |
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WO2011004660A1 (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-13 | 日本碍子株式会社 | 炭素膜の製造方法、炭素膜、及び分離装置 |
JP2012200642A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Ngk Insulators Ltd | ハニカムフィルタ及びその製造方法 |
JP2017113718A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 一般財団法人ファインセラミックスセンター | 耐水蒸気性多孔質膜、耐水蒸気性多孔質複合体、及びこれらの製造方法 |
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FR2604920B1 (fr) * | 1986-10-10 | 1988-12-02 | Ceraver | Membrane de filtration ceramique et procede de fabrication |
EP0306350B1 (en) * | 1987-09-04 | 1991-08-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Honeycomb structure for fluid filtration |
NL8702759A (nl) * | 1987-11-19 | 1989-06-16 | Hoogovens Groep Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een micro-permeabel membraan en inrichting voor het aanbrengen van deze membraan op een drager. |
EP0327687A3 (en) * | 1987-12-11 | 1989-11-15 | Norton Company | Ultrafiltration membranes |
GB8812217D0 (en) * | 1988-05-24 | 1988-06-29 | Alcan Int Ltd | Composite membranes |
US5605628A (en) * | 1988-05-24 | 1997-02-25 | North West Water Group Plc | Composite membranes |
DK249689A (da) * | 1988-05-24 | 1989-11-25 | Alcan Int Ltd | Sammensat membran og fremgangsmaade ved dens fremstilling |
US4980062A (en) * | 1988-09-16 | 1990-12-25 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Inorganic membrane |
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