JPS60131812A - ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液及びその製造方法 - Google Patents
ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液及びその製造方法Info
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- JPS60131812A JPS60131812A JP59252109A JP25210984A JPS60131812A JP S60131812 A JPS60131812 A JP S60131812A JP 59252109 A JP59252109 A JP 59252109A JP 25210984 A JP25210984 A JP 25210984A JP S60131812 A JPS60131812 A JP S60131812A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C53/00—Saturated compounds having only one carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or hydrogen
- C07C53/122—Propionic acid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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- C07C53/08—Acetic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明はヒドロ−ジルアミン或はその塩の安定化された
水溶液或はアルコール溶液及びその製造方法に関するも
のである。
水溶液或はアルコール溶液及びその製造方法に関するも
のである。
(従来技術)
ヒト四キシルアンモニウΔ戸液は、室温では除徐に、高
温では温度に相応して迅速に分解する。
温では温度に相応して迅速に分解する。
これは遊離ヒドロキシルアミン溶液の1合において更に
甚だしい。ヒドロキシルアミン及びその塩の溶液の貯蔵
性を改善するためにこれを安定化することは試みとして
ないではな(・。安定化剤として、米国特許明細書35
44270号によれば尿素誘導体が、同3480391
号によればアミドキシムが、同348Ll 392号に
よればヒドロキサム酸が使用される。また米国特許明細
書3145082号により、安定化剤としてエチレンジ
アミンテトラ醋酸のナトリウム塩の如きキレート化剤を
使用することも公知である。しかしながら、これまで使
用されて来た安定化剤は倒れも改善を要する不満足□な
ものであった。
甚だしい。ヒドロキシルアミン及びその塩の溶液の貯蔵
性を改善するためにこれを安定化することは試みとして
ないではな(・。安定化剤として、米国特許明細書35
44270号によれば尿素誘導体が、同3480391
号によればアミドキシムが、同348Ll 392号に
よればヒドロキサム酸が使用される。また米国特許明細
書3145082号により、安定化剤としてエチレンジ
アミンテトラ醋酸のナトリウム塩の如きキレート化剤を
使用することも公知である。しかしながら、これまで使
用されて来た安定化剤は倒れも改善を要する不満足□な
ものであった。
従って、従来よりも長期間にわたつ℃安定であり、こと
に遊離ヒドロキシルアミンの分解が最少限度に抑えられ
た、ヒドロキシルアミン或はその塩のii化浴溶液提供
することがこの分野の技術的課題であった。
に遊離ヒドロキシルアミンの分解が最少限度に抑えられ
た、ヒドロキシルアミン或はその塩のii化浴溶液提供
することがこの分野の技術的課題であった。
(発明の構成)
上述の課題は、オキ7アンスラキノンを含有することを
特徴とする、本発明によるヒドロキシルアミン或はその
塩の安定化水溶液或はナルコール溶液により解決される
。
特徴とする、本発明によるヒドロキシルアミン或はその
塩の安定化水溶液或はナルコール溶液により解決される
。
本発明の更に他の対象は、ヒドロキシルアミン或はその
塩の安定化され゛るべき水溶液或はアルコール溶液に溶
解含有されている分子酸素を、分子酸素を含有しない窒
素で処理することにより該溶液から除去し、次いでオキ
シアンスラキノンを添加することを特徴とする安定化溶
液の製造方法である。 ′ 本発明によるヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶
液は、従来よりも長期間にわたり安定であり、ことに遊
離ヒドロキシルアミンの分解を最少限度に抑え得る利点
を有する。
塩の安定化され゛るべき水溶液或はアルコール溶液に溶
解含有されている分子酸素を、分子酸素を含有しない窒
素で処理することにより該溶液から除去し、次いでオキ
シアンスラキノンを添加することを特徴とする安定化溶
液の製造方法である。 ′ 本発明によるヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶
液は、従来よりも長期間にわたり安定であり、ことに遊
離ヒドロキシルアミンの分解を最少限度に抑え得る利点
を有する。
本発明はヒドロキシルチミン或はその塩の水溶液或は炭
素原子l乃至4個のアルコール溶液から出発する。龜ド
ロ辱ジルアミンの適当な塩は、例えば硫酸、硝酸、塩酸
の如き強い鉱酸との塩、或i醋酸、プロピ芽ン酸の如k
m肋酸左の塩である。
素原子l乃至4個のアルコール溶液から出発する。龜ド
ロ辱ジルアミンの適当な塩は、例えば硫酸、硝酸、塩酸
の如き強い鉱酸との塩、或i醋酸、プロピ芽ン酸の如k
m肋酸左の塩である。
溶解度の関係から、ヒドロキシルアミンの場合は水溶液
、アルコール溶液の何れでもよいが、その′−の場合は
水溶液であることが好ましい。ヒドロキシルアミン或は
その塩の含有量は原則的にlO乃″′M70重量−であ
る。出発溶液i一般に8乃至11のpH値を有する。こ
とに水性ヒドロキシルアミン溶液から出鈍するのが好ま
しい。
、アルコール溶液の何れでもよいが、その′−の場合は
水溶液であることが好ましい。ヒドロキシルアミン或は
その塩の含有量は原則的にlO乃″′M70重量−であ
る。出発溶液i一般に8乃至11のpH値を有する。こ
とに水性ヒドロキシルアミン溶液から出鈍するのが好ま
しい。
一定化剤としては、ことに少くとも2個のヒドロキシル
基を含有するオキシアンスラ岑ノンが使用きれる。好ま
しいアンス94ルは以下の式で懺わされる。 □ ・
、 ・ 上記式中、R1乃至R7はそれぞれ水素、ヒドロキシル
基或は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示゛し、R3
はまたメチル基を意味すしこともでき、少くとも2個め
置−基はヒドロキシル基を表わす。
基を含有するオキシアンスラ岑ノンが使用きれる。好ま
しいアンス94ルは以下の式で懺わされる。 □ ・
、 ・ 上記式中、R1乃至R7はそれぞれ水素、ヒドロキシル
基或は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示゛し、R3
はまたメチル基を意味すしこともでき、少くとも2個め
置−基はヒドロキシル基を表わす。
ことに好ましいオキシアンスラキノンは、上記式゛にお
い−C’RI乃至R7−4%それぞれ水素、ヒドロキシ
ル基或はメトキ゛シ基を示し、少くとも2個の一換基が
ヒドロキシル基を懺わすものである。こ゛の゛ような辷
ドロキシル基誉肴穿キシテンスラキノンは、またグリコ
シドとしても存在し得る。適当なオキシアンスラキノン
と(ては、例えば1.2−ジオキシアンスラキノン”l
: r−、ン4−ジオキシアンスラキノン、1,2.4
−トリオキシアンスラキノン、2.3−ジオキシアンス
ラキノン、l、5−ジオキシアンスラキノン、l、8−
ジオキシアンスラキノン、’l −2e 6− トリオ
キシアンスラキノン、1 、 ’2 、”7− ’)す
芽”キシアンスラキノンンl、2゜5 、8− ヶ゛ト
ラオ゛鼻 、ア y′、、−9ヤ 、y、□ 、 2
。
い−C’RI乃至R7−4%それぞれ水素、ヒドロキシ
ル基或はメトキ゛シ基を示し、少くとも2個の一換基が
ヒドロキシル基を懺わすものである。こ゛の゛ような辷
ドロキシル基誉肴穿キシテンスラキノンは、またグリコ
シドとしても存在し得る。適当なオキシアンスラキノン
と(ては、例えば1.2−ジオキシアンスラキノン”l
: r−、ン4−ジオキシアンスラキノン、1,2.4
−トリオキシアンスラキノン、2.3−ジオキシアンス
ラキノン、l、5−ジオキシアンスラキノン、l、8−
ジオキシアンスラキノン、’l −2e 6− トリオ
キシアンスラキノン、1 、 ’2 、”7− ’)す
芽”キシアンスラキノンンl、2゜5 、8− ヶ゛ト
ラオ゛鼻 、ア y′、、−9ヤ 、y、□ 、 2
。
4 、5’、 8−ペンタオキシアンスラキノン、l。
°6,8−ジ゛′オキシー゛3−メチル゛−”6− )
)キシアンスラキノンを挙げ゛ることができる。この
ようなアンスラキノンは安定化されるべき溶液に対して
0.005乃至1重量%、ことに0.01乃至0.1重
量%の量で使用されるのが有利である。更に追加的にポ
リヒドロキシベンゼン、ことにピロガロールを併合使用
することが好ましい。このポリヒドロキシベンゼンは、
安定化されるべき溶液に対してU 、 005乃至o、
i重量%で使用するのが有利である。
)キシアンスラキノンを挙げ゛ることができる。この
ようなアンスラキノンは安定化されるべき溶液に対して
0.005乃至1重量%、ことに0.01乃至0.1重
量%の量で使用されるのが有利である。更に追加的にポ
リヒドロキシベンゼン、ことにピロガロールを併合使用
することが好ましい。このポリヒドロキシベンゼンは、
安定化されるべき溶液に対してU 、 005乃至o、
i重量%で使用するのが有利である。
オキシアンスラキノンとポリヒドロキシベンゼンの合併
使用により相乗的効果がもたらされるととに注目される
べきである。
使用により相乗的効果がもたらされるととに注目される
べきである。
ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化された水溶液或
はアルコール溶液は、本発明により次のようにして製造
される。まず安定化されるべき溶液から、これに溶解含
有されている分子酸素が、分子酸素を含有しない窒素に
よる処理で除去される。これは、例えば安定化されるべ
き溶液中に、酸素を含有しない窒素を、例えば5乃至1
0分間導通することにより行われる。これに使用される
窒素は酸素含量2ppm以下のものであることが望まし
い。次いで安定化されるべき溶液にオキシアンスラキノ
ンを、場合により更にポリヒドロキシベンゼンを添加し
て溶解させる。また安定化剤をあらかじめ溶解状態で、
例えば炭素数1乃至4個のアルカノールに溶解させて、
安定化されるべき溶液に添加することも可能である。こ
の場合温度は5乃至40℃に保持するのが好ましい。
はアルコール溶液は、本発明により次のようにして製造
される。まず安定化されるべき溶液から、これに溶解含
有されている分子酸素が、分子酸素を含有しない窒素に
よる処理で除去される。これは、例えば安定化されるべ
き溶液中に、酸素を含有しない窒素を、例えば5乃至1
0分間導通することにより行われる。これに使用される
窒素は酸素含量2ppm以下のものであることが望まし
い。次いで安定化されるべき溶液にオキシアンスラキノ
ンを、場合により更にポリヒドロキシベンゼンを添加し
て溶解させる。また安定化剤をあらかじめ溶解状態で、
例えば炭素数1乃至4個のアルカノールに溶解させて、
安定化されるべき溶液に添加することも可能である。こ
の場合温度は5乃至40℃に保持するのが好ましい。
このようにゑて安定化された溶液は、重金属、ことに銅
或は貴金属と接触しないように留意することが望ましい
。これは触媒的に作用してヒドロキシルアミンを分解さ
せるからである。なお適当に着色されたガラス容器を使
用して高エネルギの輻射線から遮断することが好ましい
。更に安定化溶媒は40℃以下の温度、ことに5乃至2
0℃の温度に維持するように配慮することが好ましい。
或は貴金属と接触しないように留意することが望ましい
。これは触媒的に作用してヒドロキシルアミンを分解さ
せるからである。なお適当に着色されたガラス容器を使
用して高エネルギの輻射線から遮断することが好ましい
。更に安定化溶媒は40℃以下の温度、ことに5乃至2
0℃の温度に維持するように配慮することが好ましい。
ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液はオキシム
の製造に適する。
の製造に適する。
以下の実施例により本発明を更に詳細に説明する。
第1頁の続き
0発 明 者 エルヴイン、トーマス ドイヴアイス
り、− ソ連邦共和国、67区フラインスハイム、ホルン力2
り、− ソ連邦共和国、67区フラインスハイム、ホルン力2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)オキシアンス2キノンを含有することを特徴とす
る、ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液。 (2、特許請求の範囲(1)に記載された安定化溶液に
おいて、以下の式 (式中 Bl乃至R7はそれぞれ水素、ヒドロキシル基
、或は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し BMは
メチル基を意味するとともでき、少(とも2個の置換基
はヒドロキル基である)のオキシアンスラキノンを含有
することを特徴とする安定化溶液。 (3)特許請求の範囲(1)或は(2)に記載された安
定化溶液において、オキシアンスラキノンを表わす上記
式中11乃至R7がそれぞれ水素、ヒドロキシル基、或
はメトキシ基を示し、Rsはメチル基をも意味すること
ができ、少くとも2個の置換基がヒドロキシル基である
ことを特徴とする安定化溶液。 (4)特許請求の範囲(1)から(3)までの何れかに
記載された安定化溶液において、オキシアンスラキノン
が安定化されるべき溶液に対して0.005乃至1重量
−含有されていることを特徴とする安定化溶液。 (5)特許請求の範囲(1)から(4)までの何れかに
記載された安定化溶液において、追加的にピロガロール
を含有することを特徴とする安定化溶液。 (リヒドロキシルアミン或はその塩の安定化されるべき
水溶液或はアルコール溶液に溶解含有されている分子酸
素を、分子酸素を含有しない窒素で処理することにより
該溶液から除去し、次いでオキシアンスラキノンを添加
することを特徴とする、安定化溶液の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19833343600 DE3343600A1 (de) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | Stabilisierte loesungen von hydroxylamin oder dessen salze |
DE3343600.2 | 1983-12-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60131812A true JPS60131812A (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=6215851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59252109A Pending JPS60131812A (ja) | 1983-12-02 | 1984-11-30 | ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4576804A (ja) |
EP (1) | EP0147639B1 (ja) |
JP (1) | JPS60131812A (ja) |
DE (2) | DE3343600A1 (ja) |
DK (1) | DK162832C (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009128301A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Ckd Corp | 磁気リニア測定装置 |
Families Citing this family (13)
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---|---|---|---|---|
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US5141730A (en) * | 1991-05-23 | 1992-08-25 | American Cyanamid Company | Stabilization of hydroxylamine solutions |
US5906805A (en) * | 1997-04-30 | 1999-05-25 | Alliedsignal Inc. | Stabilized hydroxylamine solutions |
DE10008080A1 (de) * | 2000-02-22 | 2001-08-23 | Basf Ag | Stabilisator für Hydroxylaminlösungen |
US20090137191A1 (en) * | 2007-10-29 | 2009-05-28 | Wai Mun Lee | Copper cmp polishing pad cleaning composition comprising of amidoxime compounds |
WO2009058288A1 (en) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Ekc Technology, Inc. | Amidoxime compounds as chelating agents in semiconductor processes |
KR101537831B1 (ko) * | 2007-10-29 | 2015-07-17 | 이케이씨 테크놀로지, 인코포레이티드 | 신규한 니트릴 및 아미드옥심 화합물 및 제조 방법 |
WO2009058278A1 (en) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Ekc Technology, Inc | Methods of cleaning semiconductor devices at the back end of line using amidoxime compositions |
US8802609B2 (en) | 2007-10-29 | 2014-08-12 | Ekc Technology Inc | Nitrile and amidoxime compounds and methods of preparation for semiconductor processing |
WO2009058274A1 (en) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Ekc Technology, Inc. | Chemical mechanical polishing and wafer cleaning composition comprising amidoxime compounds and associated method for use |
US20100105595A1 (en) * | 2008-10-29 | 2010-04-29 | Wai Mun Lee | Composition comprising chelating agents containing amidoxime compounds |
US7838483B2 (en) * | 2008-10-29 | 2010-11-23 | Ekc Technology, Inc. | Process of purification of amidoxime containing cleaning solutions and their use |
WO2024105669A1 (en) * | 2022-11-17 | 2024-05-23 | B.G. Negev Technologies And Applications Ltd., At Ben-Gurion University | Functionalized diacetylene monomers, corresponding polydiacetylenes and uses in capacitive photodetectors |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US3145082A (en) * | 1959-12-07 | 1964-08-18 | Dow Chemical Co | Stabilized hydroxylamine and its method of preparation |
US3480392A (en) * | 1967-08-24 | 1969-11-25 | Sinclair Research Inc | Hydroxylamine solutions stabilized with a hydroxamic acid and method for their preparation |
US3480391A (en) * | 1967-08-24 | 1969-11-25 | Sinclair Research Inc | Hydroxylamine solutions stabilized with an amide oxime and method for their preparation |
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NL7703020A (en) * | 1977-03-19 | 1978-09-21 | Stamicarbon | Stabilisation of hydroxylamine salt soln. contg. noble metal catalyst - by treating the catalyst with an opt. substd. unsaturated hydrocarbon |
JPS57100908A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-23 | Nisshin Kako Kk | Stabilization of hydroxylamine or solution containing it by addition of 8 hydroxyquinoline |
JPS595573B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS5869843A (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-26 | Nisshin Kako Kk | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS595575B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS595574B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
-
1983
- 1983-12-02 DE DE19833343600 patent/DE3343600A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-11-26 EP EP84114250A patent/EP0147639B1/de not_active Expired
- 1984-11-26 DE DE8484114250T patent/DE3464889D1/de not_active Expired
- 1984-11-30 JP JP59252109A patent/JPS60131812A/ja active Pending
- 1984-11-30 DK DK570384A patent/DK162832C/da not_active IP Right Cessation
- 1984-12-03 US US06/677,306 patent/US4576804A/en not_active Expired - Lifetime
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JP2009128301A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Ckd Corp | 磁気リニア測定装置 |
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---|---|
DK570384D0 (da) | 1984-11-30 |
DE3464889D1 (en) | 1987-08-27 |
EP0147639A3 (en) | 1986-02-12 |
DE3343600A1 (de) | 1985-06-13 |
DK162832B (da) | 1991-12-16 |
US4576804A (en) | 1986-03-18 |
DK162832C (da) | 1992-05-04 |
DK570384A (da) | 1985-06-03 |
EP0147639A2 (de) | 1985-07-10 |
EP0147639B1 (de) | 1987-07-22 |
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