JPS60155512A - ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化水溶液或はアルコール溶液及びその製造方法 - Google Patents
ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化水溶液或はアルコール溶液及びその製造方法Info
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- JPS60155512A JPS60155512A JP59271089A JP27108984A JPS60155512A JP S60155512 A JPS60155512 A JP S60155512A JP 59271089 A JP59271089 A JP 59271089A JP 27108984 A JP27108984 A JP 27108984A JP S60155512 A JPS60155512 A JP S60155512A
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- stabilized
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- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/14—Hydroxylamine; Salts thereof
- C01B21/149—Stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C53/00—Saturated compounds having only one carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or hydrogen
- C07C53/08—Acetic acid
- C07C53/10—Salts thereof
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- C07C53/00—Saturated compounds having only one carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or hydrogen
- C07C53/122—Propionic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化され
た水溶液或はアルコール溶液及び安定他剤添加によるそ
の製造方法に関するものである。
た水溶液或はアルコール溶液及び安定他剤添加によるそ
の製造方法に関するものである。
(従来技術)
ヒト四キシルアンモニウム塩溶液は、室温では除々に、
高温では温度に相応して迅速に分解する。
高温では温度に相応して迅速に分解する。
これは遊離ヒドロキシルアミン溶液の場合において更に
甚だしい。ヒドロキシルアミン及びその塩の溶液の貯蔵
性を改善するためにこれを安定化することは試みとして
ないではない。安定化剤として、米国特許明細書354
4270号によれば尿素誘導体が、同3480391号
によればアミドキシムが、同3480392号によれば
ヒドロキサム酸が使用される。また米国特許明細書31
45082号により、安定化剤と17てエチレンジアミ
ンテトラ醋酸のナトリウム塩の如きキレート化剤を使用
することも公知である。しかしながら、これまで使用さ
れて来た安定化剤は何れも改善を要する不満足なもので
あった。
甚だしい。ヒドロキシルアミン及びその塩の溶液の貯蔵
性を改善するためにこれを安定化することは試みとして
ないではない。安定化剤として、米国特許明細書354
4270号によれば尿素誘導体が、同3480391号
によればアミドキシムが、同3480392号によれば
ヒドロキサム酸が使用される。また米国特許明細書31
45082号により、安定化剤と17てエチレンジアミ
ンテトラ醋酸のナトリウム塩の如きキレート化剤を使用
することも公知である。しかしながら、これまで使用さ
れて来た安定化剤は何れも改善を要する不満足なもので
あった。
従って、従来よりも長期間にわたって安定であり、こと
に遊離ヒドロキシルアミンの分解が最少限度に抑えられ
た、ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液を提供
することがこの分野の技術的課題であった。
に遊離ヒドロキシルアミンの分解が最少限度に抑えられ
た、ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化溶液を提供
することがこの分野の技術的課題であった。
(発明の構成)
上述の課題は、以下の式
(式中11乃至R4はそれぞれ水素、ヒドロキシル基或
は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し、Xは強鉱酸
の陰イオンな表わj)で表わされるアントシアンを含有
することを特徴とする、本発明によるヒドロキシルアミ
ン或はその塩の安定化水溶液或はアルコール溶液により
解決される。
は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し、Xは強鉱酸
の陰イオンな表わj)で表わされるアントシアンを含有
することを特徴とする、本発明によるヒドロキシルアミ
ン或はその塩の安定化水溶液或はアルコール溶液により
解決される。
本発明の更に他の対象は、安定化されるべき溶液に溶解
含有されている分子酸素を、分子酸素を含有しない窒素
による処理で該溶液中から除去し、次いでアントシアン
を添加することを特徴とする、ヒドロキシルアミン或は
その塩の安定化水溶液或はアルコール溶液の製造方法で
ある。
含有されている分子酸素を、分子酸素を含有しない窒素
による処理で該溶液中から除去し、次いでアントシアン
を添加することを特徴とする、ヒドロキシルアミン或は
その塩の安定化水溶液或はアルコール溶液の製造方法で
ある。
ヒドロキシルアミン或はその塩の本発明による安定化水
溶液或はアルコール溶液は、従来よりも更に長期間にわ
たり安定であり、ことに遊離ヒドロキシルアミンの分解
を最少限度に抑え得る利点を有する。
溶液或はアルコール溶液は、従来よりも更に長期間にわ
たり安定であり、ことに遊離ヒドロキシルアミンの分解
を最少限度に抑え得る利点を有する。
本発明はヒドロキシルアミン或はその塩の水溶液或は炭
素原子l乃至4個のアルコール溶液から出発スる。ヒド
ロキシルアミンの適当な塩は、例えば硫酸、硝酸、塩酸
の如き強い鉱酸との塩、或は醋酸、プロピオン酸の如き
脂肪酸との塩である。
素原子l乃至4個のアルコール溶液から出発スる。ヒド
ロキシルアミンの適当な塩は、例えば硫酸、硝酸、塩酸
の如き強い鉱酸との塩、或は醋酸、プロピオン酸の如き
脂肪酸との塩である。
溶解度の関係から、ヒドロキシルアミンの場合は水溶液
、アルコール溶液の何れでもよいが、その塩の場合は水
溶液であることが好ましい。ヒドロキシルアミン或はそ
の塩の含有量は原則的にlO乃至70重量%である。出
発溶液は一般に8乃至11のpH値を有する。ことに水
性ヒドロキシルアミン溶液から出発するのが好ましい。
、アルコール溶液の何れでもよいが、その塩の場合は水
溶液であることが好ましい。ヒドロキシルアミン或はそ
の塩の含有量は原則的にlO乃至70重量%である。出
発溶液は一般に8乃至11のpH値を有する。ことに水
性ヒドロキシルアミン溶液から出発するのが好ましい。
安定化剤としては、以下の式
(式中R1乃至R4はそれぞれ水素、ヒドロキシル基或
は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し、Xは強鉱酸
の陰イオンを表わす)で表わされるアントシアンが使用
される。好ましいものとしてXは塩化物陰イオン或は硫
酸塩陰イオンを意味する。
は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し、Xは強鉱酸
の陰イオンを表わす)で表わされるアントシアンが使用
される。好ましいものとしてXは塩化物陰イオン或は硫
酸塩陰イオンを意味する。
ことに好ましいアントシアンとしては 11乃至R4が
それぞれ水素、ヒドロキシル基或はメトキシ基を示し、
Xが塩化物隘イオンを意味するものである。アントどア
ンはまたグリコシドとして存在することもできる。適当
なアントシアンは、例えばアンゲバンテ、ヘミ−(ムn
g@vrandt@’Chsmie ) 68(195
6)、110及び111頁に記載されている。具体的に
は例えばアビゲニン、ベラルゴニジン、シアニジン、デ
ルフイニジン、ペオニジン、ベツニジン、マルビジン等
を挙げることができる。
それぞれ水素、ヒドロキシル基或はメトキシ基を示し、
Xが塩化物隘イオンを意味するものである。アントどア
ンはまたグリコシドとして存在することもできる。適当
なアントシアンは、例えばアンゲバンテ、ヘミ−(ムn
g@vrandt@’Chsmie ) 68(195
6)、110及び111頁に記載されている。具体的に
は例えばアビゲニン、ベラルゴニジン、シアニジン、デ
ルフイニジン、ペオニジン、ベツニジン、マルビジン等
を挙げることができる。
上記式のアントシアンは、安定化されるべき溶液に対し
o、oos乃至1重量−1ことに0.01乃至0.1重
量−の割合で使用するのが有利である。なおポリヒドロ
キシベンゼン、ことにピロガロールを追加的に併合使用
するのが有利である。この場合、ポリヒドロキシベンゼ
ンは、安定化されるべき溶液に対して0.005乃至0
.1重量%の割合で使用することが好ましい。上記式の
アントシアンとポリヒドロキシベンゼンの併合使用によ
り相乗的効果がもたらされることに注目されるべきであ
もヒドロキシルアミン或はその塩の本発明による安定化
水溶液或はアルコール溶液は次のようにして製造される
。まず安定化されるべき溶液に溶解含有されている分子
酸素を、分子酸素を含まない窒素で処理し【該溶液から
除去する。これは例えば酸素を含有しない窒素ガスを安
定化されるべき溶液中に5乃至lO分程度吹き込むこと
により行うことができる。ここで使用される窒素ガスは
分子酸素含量2PPP以下のものであることが望ましい
。
o、oos乃至1重量−1ことに0.01乃至0.1重
量−の割合で使用するのが有利である。なおポリヒドロ
キシベンゼン、ことにピロガロールを追加的に併合使用
するのが有利である。この場合、ポリヒドロキシベンゼ
ンは、安定化されるべき溶液に対して0.005乃至0
.1重量%の割合で使用することが好ましい。上記式の
アントシアンとポリヒドロキシベンゼンの併合使用によ
り相乗的効果がもたらされることに注目されるべきであ
もヒドロキシルアミン或はその塩の本発明による安定化
水溶液或はアルコール溶液は次のようにして製造される
。まず安定化されるべき溶液に溶解含有されている分子
酸素を、分子酸素を含まない窒素で処理し【該溶液から
除去する。これは例えば酸素を含有しない窒素ガスを安
定化されるべき溶液中に5乃至lO分程度吹き込むこと
により行うことができる。ここで使用される窒素ガスは
分子酸素含量2PPP以下のものであることが望ましい
。
次いで上記式のアントシアン、及び場合により更にヒド
ロキシベンゼンを安定化されるべき溶液に添加し溶解さ
せる。この際温度は5°乃至40℃に保持することが望
ましい。なお安定化剤はあらかじめ溶液として安定化さ
れるべき溶液に添加することもできる。
ロキシベンゼンを安定化されるべき溶液に添加し溶解さ
せる。この際温度は5°乃至40℃に保持することが望
ましい。なお安定化剤はあらかじめ溶液として安定化さ
れるべき溶液に添加することもできる。
なお安定化されるべき溶液は重金属、ことに銅或は貴金
属と接触しないように留意することが望ましい。これは
触媒的に作用してヒドロキシルアミンを分解させるから
である。また適当に着色したガラス容器により高エネル
ギ輻射線から遮断することが好ましい。40℃以下の温
度、ことに5乃至20℃の温度で貯蔵することが好まし
い。
属と接触しないように留意することが望ましい。これは
触媒的に作用してヒドロキシルアミンを分解させるから
である。また適当に着色したガラス容器により高エネル
ギ輻射線から遮断することが好ましい。40℃以下の温
度、ことに5乃至20℃の温度で貯蔵することが好まし
い。
このような安定化されたヒドロキシルアミン溶液は、オ
キシムの製造に適する。
キシムの製造に適する。
以下の実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例
ヒドロキシルアミン水溶液に20℃において10分間酸
素を含有しない窒素ガスを吹き込み、次いで安定化剤を
添加した。ヒドロキシルアミン濃度、安定化剤の種類及
び添加量ならびに時間、温度と第1頁め続き O発明者 ヨーゼフ、リツ ドイ スラ [相]発 明 者 エルヴイン、トーツス ドイセ、 [相]発 明 者 フランツーヨーゼフ、ドイヴアイス
り、 ツ連邦共和国、6700.ルートヴイヒスハーフエン、
オー、ヴエーク、8 ソ連邦共和国、6713Sフラインスハイム、ボルンガ
2
素を含有しない窒素ガスを吹き込み、次いで安定化剤を
添加した。ヒドロキシルアミン濃度、安定化剤の種類及
び添加量ならびに時間、温度と第1頁め続き O発明者 ヨーゼフ、リツ ドイ スラ [相]発 明 者 エルヴイン、トーツス ドイセ、 [相]発 明 者 フランツーヨーゼフ、ドイヴアイス
り、 ツ連邦共和国、6700.ルートヴイヒスハーフエン、
オー、ヴエーク、8 ソ連邦共和国、6713Sフラインスハイム、ボルンガ
2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (式中R1乃至R4はそれぞれ水素、ヒドロキシル基或
は炭素数1乃至4個のアルコキシ基を示し、Xは強鉱酸
の陰イオンを表わす)で表わされるアント7アンを含有
することを特徴とする。ヒドロキシルアミン或はその塩
の安定化水溶液或はアルコール溶液。 (2、特許請求の範囲(1)に記載された安定化溶液に
おいて、アントシアンを表わす式中 Bl乃至R4がそ
れぞれ水素、ヒドロキシル基或はメトキシ基を示し、X
が塩化物隘イオンな懺わすことを特徴とする安定化溶液
。 (3)特許請求の範囲(1)或は(2)に記載された安
定化溶液において、安定化されるべき溶液に対して上記
式のアントシアンを0.005乃至1重量%含有するこ
とを特徴とする安定化溶液。 (4)特許請求の範囲(1)から(3)の何れかに記載
された安定化浴液において、追加的にピロガロールを含
有することを特徴とする安定化溶液。 (5)安定化されるべき溶液中に溶解含有されている分
子酸素を、分子酸素を含有しない窒素による処理で該溶
液中から除去し、次いでアントシアンを添加することを
特徴とする、安定剤添加によるヒドロキシルアミン或は
その塩の安定化水溶液或はアルコール溶液の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3347260A DE3347260A1 (de) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | Stabilisierte loesungen von hydroxylamin oder dessen salze in wasser oder alkoholen sowie deren herstellung |
DE3347260.2 | 1983-12-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60155512A true JPS60155512A (ja) | 1985-08-15 |
Family
ID=6218268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59271089A Pending JPS60155512A (ja) | 1983-12-28 | 1984-12-24 | ヒドロキシルアミン或はその塩の安定化水溶液或はアルコール溶液及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4551318A (ja) |
EP (1) | EP0147742B1 (ja) |
JP (1) | JPS60155512A (ja) |
DE (2) | DE3347260A1 (ja) |
DK (1) | DK162834C (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5906805A (en) * | 1997-04-30 | 1999-05-25 | Alliedsignal Inc. | Stabilized hydroxylamine solutions |
DE10008080A1 (de) | 2000-02-22 | 2001-08-23 | Basf Ag | Stabilisator für Hydroxylaminlösungen |
US8802609B2 (en) | 2007-10-29 | 2014-08-12 | Ekc Technology Inc | Nitrile and amidoxime compounds and methods of preparation for semiconductor processing |
TW200940705A (en) * | 2007-10-29 | 2009-10-01 | Ekc Technology Inc | Copper CMP polishing pad cleaning composition comprising of amidoxime compounds |
TW200946448A (en) * | 2007-10-29 | 2009-11-16 | Ekc Technology Inc | Stabilization of hydroxylamine containing solutions and method for their preparation |
WO2009058278A1 (en) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Ekc Technology, Inc | Methods of cleaning semiconductor devices at the back end of line using amidoxime compositions |
TWI490191B (zh) * | 2007-10-29 | 2015-07-01 | Ekc Technology Inc | 含醯胺肟化合物之半導體加工組成物 |
TW200946621A (en) * | 2007-10-29 | 2009-11-16 | Ekc Technology Inc | Chemical mechanical polishing and wafer cleaning composition comprising amidoxime compounds and associated method for use |
US20100105595A1 (en) * | 2008-10-29 | 2010-04-29 | Wai Mun Lee | Composition comprising chelating agents containing amidoxime compounds |
US7838483B2 (en) * | 2008-10-29 | 2010-11-23 | Ekc Technology, Inc. | Process of purification of amidoxime containing cleaning solutions and their use |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3145082A (en) * | 1959-12-07 | 1964-08-18 | Dow Chemical Co | Stabilized hydroxylamine and its method of preparation |
US3480392A (en) * | 1967-08-24 | 1969-11-25 | Sinclair Research Inc | Hydroxylamine solutions stabilized with a hydroxamic acid and method for their preparation |
US3480391A (en) * | 1967-08-24 | 1969-11-25 | Sinclair Research Inc | Hydroxylamine solutions stabilized with an amide oxime and method for their preparation |
US3544270A (en) * | 1968-08-13 | 1970-12-01 | Sinclair Oil Corp | Aqueous hydroxylamine solutions stabilized with hydroxyurea or hydroxythiourea derivatives |
NL7703020A (en) * | 1977-03-19 | 1978-09-21 | Stamicarbon | Stabilisation of hydroxylamine salt soln. contg. noble metal catalyst - by treating the catalyst with an opt. substd. unsaturated hydrocarbon |
JPS57100908A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-23 | Nisshin Kako Kk | Stabilization of hydroxylamine or solution containing it by addition of 8 hydroxyquinoline |
JPS595573B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS5869843A (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-26 | Nisshin Kako Kk | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS595574B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS595575B2 (ja) * | 1981-10-20 | 1984-02-06 | 日進化工株式会社 | ヒドロキシルアミンの安定化剤 |
JPS5969842A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-20 | Fujitsu Ltd | 計算機システムのコマンド制御方式 |
-
1983
- 1983-12-28 DE DE3347260A patent/DE3347260A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-12-14 EP EP84115403A patent/EP0147742B1/de not_active Expired
- 1984-12-14 DE DE8484115403T patent/DE3464578D1/de not_active Expired
- 1984-12-21 DK DK619684A patent/DK162834C/da not_active IP Right Cessation
- 1984-12-24 US US06/685,257 patent/US4551318A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-12-24 JP JP59271089A patent/JPS60155512A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK162834C (da) | 1992-05-04 |
US4551318A (en) | 1985-11-05 |
DK619684A (da) | 1985-06-29 |
DE3464578D1 (en) | 1987-08-13 |
DE3347260A1 (de) | 1985-07-11 |
DK619684D0 (da) | 1984-12-21 |
EP0147742A2 (de) | 1985-07-10 |
DK162834B (da) | 1991-12-16 |
EP0147742B1 (de) | 1987-07-08 |
EP0147742A3 (en) | 1986-03-12 |
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