JPS6011372B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6011372B2 JPS6011372B2 JP51116929A JP11692976A JPS6011372B2 JP S6011372 B2 JPS6011372 B2 JP S6011372B2 JP 51116929 A JP51116929 A JP 51116929A JP 11692976 A JP11692976 A JP 11692976A JP S6011372 B2 JPS6011372 B2 JP S6011372B2
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- JP
- Japan
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- layer
- magnetic recording
- recording media
- manufacturing magnetic
- manufacturing
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
- C23C14/025—Metallic sublayers
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、真空内被膜形
成法にて薄膜多層構造体を得る方法の改良に主として関
する。
成法にて薄膜多層構造体を得る方法の改良に主として関
する。
従来、磁気記録媒体の製造法としては、ｙ−Ｆｅ２０３
の如き針状結晶を有機バインダーに分散させ、基材上に
塗布する、いわゆる塗布型に代表されている。
の如き針状結晶を有機バインダーに分散させ、基材上に
塗布する、いわゆる塗布型に代表されている。
ｙ−Ｆｅ２０３の他に各種の酸化物磁性体材料が検討さ
れているが、この塗布型では高密度記録に限界があり、
強磁性材料又は合金薄膜タイプが注目されているが、ま
だ不満足である。特に実験的に優れた特性を得ても工業
化に不向きな材料があり、特に薄膜型の基本技術である
真空蒸着技術では、蒸気圧の関係から安定に蒸発させに
くい材料（例えば昇華する元素）やガスを多量に含み蒸
着中にスプラッシュの発生するもの（例えばボロン）等
があり、材料が限定されそれが特性面の限定ともなって
いた。本発明はこのような欠点を除去し、安定に被膜を
形成する製造方法を提供せんとするものである。本発明
は、強磁性体材料は公知の蒸着手段によるが、薄膜多層
構造化のための他の組み合わせの非磁性体材料は、高周
波グロー放電を利用して被膜形成を行うものであり、以
下図面と共に詳述する。
れているが、この塗布型では高密度記録に限界があり、
強磁性材料又は合金薄膜タイプが注目されているが、ま
だ不満足である。特に実験的に優れた特性を得ても工業
化に不向きな材料があり、特に薄膜型の基本技術である
真空蒸着技術では、蒸気圧の関係から安定に蒸発させに
くい材料（例えば昇華する元素）やガスを多量に含み蒸
着中にスプラッシュの発生するもの（例えばボロン）等
があり、材料が限定されそれが特性面の限定ともなって
いた。本発明はこのような欠点を除去し、安定に被膜を
形成する製造方法を提供せんとするものである。本発明
は、強磁性体材料は公知の蒸着手段によるが、薄膜多層
構造化のための他の組み合わせの非磁性体材料は、高周
波グロー放電を利用して被膜形成を行うものであり、以
下図面と共に詳述する。
第１図は例えば高分子成形物等の基村１上に、Ｃｒ層２
とコバルト層３を交互に多層化した薄膜多層構造体、す
なわち磁気記録媒体を示す。
とコバルト層３を交互に多層化した薄膜多層構造体、す
なわち磁気記録媒体を示す。
第２図は本発明を実施するための装置構成の一例である
。そして、第２図の６室で第１図の構成におけるＣｒ層
を形成し、５室でコバルト層を形成する。すなわち、真
空槽４を例えば２室５，６に分離し、６室でＣｒ等の非
磁性体材料の層を作り、５室でＣｏ，Ｆｅ，Ｎｊ等の強
磁性体材料又はこれらの合金層を形成する。なお、必要
に応じて添加元素を導入することができるのはもちろん
である。６室は高周波電極１川こ絶縁導入端子１６を介
して高周波電源１３により高周波電圧を印加することで
、ガス導入管９より目的の気体状化合物の蒸気を含むグ
ロー放電を発生するよう構成される。
。そして、第２図の６室で第１図の構成におけるＣｒ層
を形成し、５室でコバルト層を形成する。すなわち、真
空槽４を例えば２室５，６に分離し、６室でＣｒ等の非
磁性体材料の層を作り、５室でＣｏ，Ｆｅ，Ｎｊ等の強
磁性体材料又はこれらの合金層を形成する。なお、必要
に応じて添加元素を導入することができるのはもちろん
である。６室は高周波電極１川こ絶縁導入端子１６を介
して高周波電源１３により高周波電圧を印加することで
、ガス導入管９より目的の気体状化合物の蒸気を含むグ
ロー放電を発生するよう構成される。
１４は直流電源で、電極１７へ負又は正の電圧を印加す
ることができるよう配設される。
ることができるよう配設される。
又、５室は基材７と対向して蒸発源３を配設し、強磁性
体材料又はそれらの合金層の形成を行う。ここで蒸発源
８は模式的に抵抗加熱を図示したが、電子ビーム加熱，
高周波誘導加熱，レーザ加熱等の公知技術のいずれでも
よいし、蒸着方式や蒸着雰囲気等についても特に限定さ
れるものではない。１１及び１２は真空排気系である。
体材料又はそれらの合金層の形成を行う。ここで蒸発源
８は模式的に抵抗加熱を図示したが、電子ビーム加熱，
高周波誘導加熱，レーザ加熱等の公知技術のいずれでも
よいし、蒸着方式や蒸着雰囲気等についても特に限定さ
れるものではない。１１及び１２は真空排気系である。
次に、具体的実施例について詳述する。
基材：ポリエチレンフタレート １５山
第１層：クロム
第２層：コバルト
クロム層形成条件
導入ガス：Ｃｒ（Ｃ９日，２）２〔ジクメンクロム〕３
×１０‐４Ｔｏｎ高周波電圧：１３．５８ＭＨＺ，松Ｖ
（陽極電圧）コバルト層形成条件電子ビーム：１０ＫＶ
，１．０Ａ 真空度：５×１０‐６Ｔｏｍ 本発明により膜厚の制御性は、上記実施例でも確認でき
たが±５％程度であり、Ｃｒ，Ｃｏ両者を電子ビーム蒸
着で構成した場合の±１５％程度に比較してはるかに実
用に供し得るものであり、同様の効果は塩化物と日２の
混合気体によるものでも確認でき、クロムに限らずＢ２
日６よりポロン層を形成する等、Ｓｉ，Ｍｏ，Ｗ等いず
れについても気体状化合物の安定な非磁性体材料につい
て適用できるものでその産業性は大きい。
×１０‐４Ｔｏｎ高周波電圧：１３．５８ＭＨＺ，松Ｖ
（陽極電圧）コバルト層形成条件電子ビーム：１０ＫＶ
，１．０Ａ 真空度：５×１０‐６Ｔｏｍ 本発明により膜厚の制御性は、上記実施例でも確認でき
たが±５％程度であり、Ｃｒ，Ｃｏ両者を電子ビーム蒸
着で構成した場合の±１５％程度に比較してはるかに実
用に供し得るものであり、同様の効果は塩化物と日２の
混合気体によるものでも確認でき、クロムに限らずＢ２
日６よりポロン層を形成する等、Ｓｉ，Ｍｏ，Ｗ等いず
れについても気体状化合物の安定な非磁性体材料につい
て適用できるものでその産業性は大きい。
第１図は本発明製造方法により得られる薄膜多層構造体
の一例を示す断面図、第２図は本発明製造方法を実施す
る装置の一例を示す概略構成図である。 １，７・・・・・・基材、２・・・・・・非磁性体材料
層（Ｃｒ層）、３・・・・・・強磁性体材料またはそれ
らの合金層（Ｃｏ層）。 籍】図 豹２図
の一例を示す断面図、第２図は本発明製造方法を実施す
る装置の一例を示す概略構成図である。 １，７・・・・・・基材、２・・・・・・非磁性体材料
層（Ｃｒ層）、３・・・・・・強磁性体材料またはそれ
らの合金層（Ｃｏ層）。 籍】図 豹２図
Claims (1)
- １ 高分子成形物や非磁性体材料等よりなる基材に強磁
性体材料もしくはそれらの合金よりなる被膜を形成後、
その被膜上への非磁性体材料の蒸着を該非磁性体材料の
気体状化合物を含む高周波グロー放電中にて行うことを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51116929A JPS6011372B2 (ja) | 1976-09-28 | 1976-09-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51116929A JPS6011372B2 (ja) | 1976-09-28 | 1976-09-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5342009A JPS5342009A (en) | 1978-04-17 |
| JPS6011372B2 true JPS6011372B2 (ja) | 1985-03-25 |
Family
ID=14699173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51116929A Expired JPS6011372B2 (ja) | 1976-09-28 | 1976-09-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011372B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01170982A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Alps Denshi Kogyo Kk | 電光表示器 |
| JPH0569431B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1993-10-01 | Konratsukusu Matsumoto Kk |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6046181B2 (ja) * | 1980-06-10 | 1985-10-15 | 松下電器産業株式会社 | 真空蒸着方法 |
| JPS5778632A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-17 | Sekisui Chem Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| FR2596775B1 (fr) * | 1986-04-07 | 1992-11-13 | Univ Limoges | Revetement dur multicouches elabore par depot ionique de nitrure de titane, carbonitrure de titane et i-carbone |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4861104A (ja) * | 1971-12-01 | 1973-08-27 |
-
1976
- 1976-09-28 JP JP51116929A patent/JPS6011372B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4861104A (ja) * | 1971-12-01 | 1973-08-27 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01170982A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Alps Denshi Kogyo Kk | 電光表示器 |
| JPH0569431B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1993-10-01 | Konratsukusu Matsumoto Kk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5342009A (en) | 1978-04-17 |
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