JPH01154315A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH01154315A JPH01154315A JP31270887A JP31270887A JPH01154315A JP H01154315 A JPH01154315 A JP H01154315A JP 31270887 A JP31270887 A JP 31270887A JP 31270887 A JP31270887 A JP 31270887A JP H01154315 A JPH01154315 A JP H01154315A
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- Pending
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 20
- 229910001567 cementite Inorganic materials 0.000 abstract description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017356 Fe2C Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- -1 iron carbides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Compounds Of Iron (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度の磁気記録を可能とする炭化鉄を用い
る磁気記録媒体に関するものである。
る磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
炭化鉄の中には、高い飽和磁束を持つものがあるが、保
磁力が低い為磁気記録には適せず、磁気記録媒体として
は、近年の非平衡プロセスの発展に伴い、ようやく数件
の研究例が報告されているにすぎない。
磁力が低い為磁気記録には適せず、磁気記録媒体として
は、近年の非平衡プロセスの発展に伴い、ようやく数件
の研究例が報告されているにすぎない。
〔例えば、「化学と工業」第38巻第7号527〜53
0ページ〕 発明が解決しようとする問題点 従来、磁気記録媒体としては磁性酸化鉄粉の塗布膜が主
流を占め、記録密度の点でもかなり向上してきている。
0ページ〕 発明が解決しようとする問題点 従来、磁気記録媒体としては磁性酸化鉄粉の塗布膜が主
流を占め、記録密度の点でもかなり向上してきている。
しかし上記媒体は、樹脂の中に酸化鉄を分散させた不連
続膜であるため、記録密度や信号品質(S/N特性)の
面で本質的に不利である。そのためコバルト・鉄・クロ
ム等の金属薄膜が利用されてきているが、これら金属薄
膜媒体は、酸化鉄等の化合物媒体と比較すると化学的安
定性、ひいては信頼性の面で問題が残っている。
続膜であるため、記録密度や信号品質(S/N特性)の
面で本質的に不利である。そのためコバルト・鉄・クロ
ム等の金属薄膜が利用されてきているが、これら金属薄
膜媒体は、酸化鉄等の化合物媒体と比較すると化学的安
定性、ひいては信頼性の面で問題が残っている。
本発明は上記問題点に鑑み、記録密度・信号品質・信頼
性の総てを兼ね備えた磁気記録媒体を提供するものであ
る。
性の総てを兼ね備えた磁気記録媒体を提供するものであ
る。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体は、
Fe、CとFe、C,を主成分とするという構成を備え
たものである。
Fe、CとFe、C,を主成分とするという構成を備え
たものである。
作用
本発明は上記した構成によって、本来高飽和磁束・低保
磁力で空気中で安定な炭化鉄の、高保磁力の薄膜を提供
することにより、記録密度・信号品質の他に、信頼性を
も備えた磁気記録媒体を実現することとなる。
磁力で空気中で安定な炭化鉄の、高保磁力の薄膜を提供
することにより、記録密度・信号品質の他に、信頼性を
も備えた磁気記録媒体を実現することとなる。
実施例
以下本発明の第一の実施例の磁気記録媒体について、図
表を参照しながら説明する。第3図は、本発明の磁気記
録媒体の製法の一例を示すものである。第3図において
、9は炭化鉄の原料となる有機金属の一つのフェロセン
(F e (CsHs)z )、2はフェロセンを気化
させる為の加熱器であるバブラー、8からは気化したフ
ェロセンを反応室まで運ぶキャリアーガスとしてアルゴ
ンガスを供給する。1は原料(フェロセン)ガスが反応
室に到達するまでに固化してしまうのを防ぐ為の加熱器
であるシーズヒーター、5は原料(フェロセン)ガスを
広範囲に均一に吹き付ける為のリング状で多孔のノズル
、11はプラズマ源となるアルゴン・窒素・水素等のガ
スの導入口、12は2.45Gl(zのマイクロ波の導
入口、7は10のプラズマ室を2.45GHzの元で電
子サイクロトロン共鳴の状態に保つ磁場と同時に、サイ
クロトロン電子を反応室の方に引き出す発散磁界を供給
する磁石、3は7の磁石を冷却する為の冷却水路、6は
目的の炭化鉄薄膜を成長させる基板、4は反応室を10
−3〜10−7程度の真空に保つ為の排気系である。
表を参照しながら説明する。第3図は、本発明の磁気記
録媒体の製法の一例を示すものである。第3図において
、9は炭化鉄の原料となる有機金属の一つのフェロセン
(F e (CsHs)z )、2はフェロセンを気化
させる為の加熱器であるバブラー、8からは気化したフ
ェロセンを反応室まで運ぶキャリアーガスとしてアルゴ
ンガスを供給する。1は原料(フェロセン)ガスが反応
室に到達するまでに固化してしまうのを防ぐ為の加熱器
であるシーズヒーター、5は原料(フェロセン)ガスを
広範囲に均一に吹き付ける為のリング状で多孔のノズル
、11はプラズマ源となるアルゴン・窒素・水素等のガ
スの導入口、12は2.45Gl(zのマイクロ波の導
入口、7は10のプラズマ室を2.45GHzの元で電
子サイクロトロン共鳴の状態に保つ磁場と同時に、サイ
クロトロン電子を反応室の方に引き出す発散磁界を供給
する磁石、3は7の磁石を冷却する為の冷却水路、6は
目的の炭化鉄薄膜を成長させる基板、4は反応室を10
−3〜10−7程度の真空に保つ為の排気系である。
以上のように構成された製造装置により、以下の実施例
に記すことろの炭化鉄薄膜が形成される過程を説明する
。
に記すことろの炭化鉄薄膜が形成される過程を説明する
。
プラズマ室に導入されたアルゴン・窒素・水素等のガス
は、2.45Gtlzのマイクロ波によって電離され、
磁場による電子サイクロトロン共鳴によりさらに電離度
は高められる。電離した電子の方はサイクロトロン運動
をしている為、発散磁界により反応室の方へ押しやられ
る。従って反応室の方は電子が多く、プラズマ室はイオ
ンが多くなり、そのため生じる磁界によってイオンが基
板の方に加速される。リングノズルから吹き出た原料ガ
スは、上記イオンにより分解・励起され、鉄と炭素が反
応して炭化鉄となり、基板上に降り積る。
は、2.45Gtlzのマイクロ波によって電離され、
磁場による電子サイクロトロン共鳴によりさらに電離度
は高められる。電離した電子の方はサイクロトロン運動
をしている為、発散磁界により反応室の方へ押しやられ
る。従って反応室の方は電子が多く、プラズマ室はイオ
ンが多くなり、そのため生じる磁界によってイオンが基
板の方に加速される。リングノズルから吹き出た原料ガ
スは、上記イオンにより分解・励起され、鉄と炭素が反
応して炭化鉄となり、基板上に降り積る。
第1表は、上記製法により作製した本実施例の炭化鉄薄
膜のプラズマ生成ガス中の水素の比と、Ff33C及び
l”e、C,(これをAとする)と、その他F ex
CJ?)C等の構成物質(これをBとする)との比と、
磁気特性との関係を表したものである。尚第1表に示し
た薄膜の膜厚は総て、はぼ1000人であった。
膜のプラズマ生成ガス中の水素の比と、Ff33C及び
l”e、C,(これをAとする)と、その他F ex
CJ?)C等の構成物質(これをBとする)との比と、
磁気特性との関係を表したものである。尚第1表に示し
た薄膜の膜厚は総て、はぼ1000人であった。
第1表
第1図は、第1表のうちで保磁力が最大であった、プラ
ズマ生成ガス中の水素の比が80%の炭化鉄薄膜を、2
00℃・ 300℃及び400℃の空気中で熱処理を行
った場合の保磁力と飽和磁束の変化を調べたものである
。
ズマ生成ガス中の水素の比が80%の炭化鉄薄膜を、2
00℃・ 300℃及び400℃の空気中で熱処理を行
った場合の保磁力と飽和磁束の変化を調べたものである
。
以上のように本実施例によれば、Fe5CとFesCg
を記録媒体の主成分とすることにより、高記録密度・高
信号品質に適した高保磁力の薄膜であって、しかも空気
中で安定な磁気記録媒体を提供することが出来る。
を記録媒体の主成分とすることにより、高記録密度・高
信号品質に適した高保磁力の薄膜であって、しかも空気
中で安定な磁気記録媒体を提供することが出来る。
以下、本発明の第二の実施例の磁気記録媒体について表
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
第2表は、本発明の第二の実施例と同じ製法により作製
した本実施例の炭化鉄薄膜の製作時の反応室の圧力と、
Fe、C及びp’e5ct(これをAとする)と、その
他Fe2CやC等の構成物質(これをBとする)との比
と、磁気特性との関係を表したものである。尚、第一の
実施例において反応室圧力は3.OX 10− ’To
rr、第二の実施例においてプラズマ生成ガス中の水素
の比は80%である。
した本実施例の炭化鉄薄膜の製作時の反応室の圧力と、
Fe、C及びp’e5ct(これをAとする)と、その
他Fe2CやC等の構成物質(これをBとする)との比
と、磁気特性との関係を表したものである。尚、第一の
実施例において反応室圧力は3.OX 10− ’To
rr、第二の実施例においてプラズマ生成ガス中の水素
の比は80%である。
また第2表に示した薄膜の膜厚は総て、はぼ1000人
であった。
であった。
第2表
第2図は、第2表のうちで保磁力が最大であった、炭化
鉄薄膜の製作時の反応室の圧力が、3.4×101の炭
化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及び400℃の空気
中で熱処理を行った場合の保磁力と飽和磁束の変化を調
べたものである。
鉄薄膜の製作時の反応室の圧力が、3.4×101の炭
化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及び400℃の空気
中で熱処理を行った場合の保磁力と飽和磁束の変化を調
べたものである。
以上のように本実施例によっても第一の実施例と同様、
Fe5CとFe5C2を記録媒体の主成分とすることに
より、高記録密度・高信号品質に適した高保磁力の薄膜
であって、しかも空気中で安定な磁気記録媒体を提供す
ることが出来る。
Fe5CとFe5C2を記録媒体の主成分とすることに
より、高記録密度・高信号品質に適した高保磁力の薄膜
であって、しかも空気中で安定な磁気記録媒体を提供す
ることが出来る。
発明の効果
以上のように本発明は、記録媒体の主成分をFe5Cと
Fe5Czとすることによって、本来高飽和磁束・低保
磁力で空気中で安定な炭化鉄の、高保磁力の薄膜を提供
することにより、記録密度・信号品質の他に、信頼性を
も備えた磁気記録媒体を実現することができる。
Fe5Czとすることによって、本来高飽和磁束・低保
磁力で空気中で安定な炭化鉄の、高保磁力の薄膜を提供
することにより、記録密度・信号品質の他に、信頼性を
も備えた磁気記録媒体を実現することができる。
第1図は、本発明の第1の実施例における磁性薄膜のう
ちで保磁力が最大であった、プラズマ生成ガス中の水素
の比が80%の炭化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及
び400℃の空気中で熱処理を施した時間と、保磁力と
飽和磁束の変化を調べた説明図、第2図は、本発明の第
2の実施例における磁性薄膜のうちで保磁力が最大であ
った、炭化鉄薄膜の製作時の反応室の圧力が、3.4X
10−’の炭化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及び4
00℃の空気中で熱処理を施した時間と、保磁力と飽和
磁束の変化を調べた説明図、第3図は、本発明の磁気記
録媒体の製造装置の一例の概観を示した構成図である。 1・・・・・・シーズヒーター、2・・・・・・バブラ
ー、3・・・・・・冷却水、4・・・・・・排気系、5
・・・・・・リングノズル、6・・・・・・基板、7・
・・・・・電磁石、8・・・・・・アルゴン、9・・・
・・・フェロセン、10・・・・・・プラズマ室、11
・・・・・・ガス(プラズマ源)、工2・・・・・・高
周波。
ちで保磁力が最大であった、プラズマ生成ガス中の水素
の比が80%の炭化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及
び400℃の空気中で熱処理を施した時間と、保磁力と
飽和磁束の変化を調べた説明図、第2図は、本発明の第
2の実施例における磁性薄膜のうちで保磁力が最大であ
った、炭化鉄薄膜の製作時の反応室の圧力が、3.4X
10−’の炭化鉄薄膜を、200℃・ 300℃及び4
00℃の空気中で熱処理を施した時間と、保磁力と飽和
磁束の変化を調べた説明図、第3図は、本発明の磁気記
録媒体の製造装置の一例の概観を示した構成図である。 1・・・・・・シーズヒーター、2・・・・・・バブラ
ー、3・・・・・・冷却水、4・・・・・・排気系、5
・・・・・・リングノズル、6・・・・・・基板、7・
・・・・・電磁石、8・・・・・・アルゴン、9・・・
・・・フェロセン、10・・・・・・プラズマ室、11
・・・・・・ガス(プラズマ源)、工2・・・・・・高
周波。
Claims (1)
- Fe_3CとFe_5C_2を主成分とすることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31270887A JPH01154315A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31270887A JPH01154315A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01154315A true JPH01154315A (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=18032467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31270887A Pending JPH01154315A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01154315A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0258724A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6460814A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Nec Corp | Magnetic memory body |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP31270887A patent/JPH01154315A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6460814A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Nec Corp | Magnetic memory body |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0258724A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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