JPS63133323A - 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 - Google Patents
酸化鉄磁性薄膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS63133323A JPS63133323A JP28018086A JP28018086A JPS63133323A JP S63133323 A JPS63133323 A JP S63133323A JP 28018086 A JP28018086 A JP 28018086A JP 28018086 A JP28018086 A JP 28018086A JP S63133323 A JPS63133323 A JP S63133323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iron oxide
- substrate
- film
- reduced pressure
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 7
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 3
- 229910006297 γ-Fe2O3 Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度の磁気記録を可能とする磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来の技術
従来、磁気記録媒体としては磁性酸化鉄粉ｒ−Ｆｓ２０
．の塗膜が中心であり、面記録密度等の磁気記録媒体と
しての特性はかなり向上して来ている。しかし、塗膜は
バインダ樹脂の中に磁性粉が分散しているので磁性材料
としては不連続である。つまり記録密度の点でかなりの
ロスがあるわけである。そこで、高記録密度化をはかる
上でここ数年来、連続磁性薄膜の研究開発がさかんに行
なわれている。磁気記録媒体を連続ｙｉ膜にすると、塗
膜と比べて磁束密度を高くすることができ、信号品質（
ＳＮ比）も良くすることができるからである。連続磁性
薄膜の中でも酸化鉄（γ−Ｆ ６２０３）磁性薄膜は優
れた磁気特性と環境安全性等の点から高密度磁気記録媒
体として注目されている。
．の塗膜が中心であり、面記録密度等の磁気記録媒体と
しての特性はかなり向上して来ている。しかし、塗膜は
バインダ樹脂の中に磁性粉が分散しているので磁性材料
としては不連続である。つまり記録密度の点でかなりの
ロスがあるわけである。そこで、高記録密度化をはかる
上でここ数年来、連続磁性薄膜の研究開発がさかんに行
なわれている。磁気記録媒体を連続ｙｉ膜にすると、塗
膜と比べて磁束密度を高くすることができ、信号品質（
ＳＮ比）も良くすることができるからである。連続磁性
薄膜の中でも酸化鉄（γ−Ｆ ６２０３）磁性薄膜は優
れた磁気特性と環境安全性等の点から高密度磁気記録媒
体として注目されている。
スピネル型酸化鉄の製造方法としては、スパッタ法が主
として用いられている。たとえば、ＴＩ。
として用いられている。たとえば、ＴＩ。
Ｃｏ、Ｃｕを少量含むＦｅをターゲットとし、アルゴン
と酸素の混合雰囲気中でスパッタを行ないα−Ｆ ｅ
２０３膜を生成し、これを高温で還元してＦｅ３Ｏ４膜
とする。またＦｅ５０．膜を３００〜３３０℃で酸化す
ればｒ−Ｆｅ２０３膜が得られる。また、Ｆｅ、Ｏ，焼
結体をターゲットとして、スパッタを行ない、Ｆｅ３Ｏ
４膜を生成する方法もある。これを酸化すればＴ−Ｆｅ
２Ｏ３膜が得られる〔たとえば、ジェー、ケー、ハワー
ド“シン フィルムズ フォー マグネティンフレコー
ディング テクノロジー：ニーレビュー”ジャーナル
オブ バキューム サイエンス テクノロジー ニー、
４巻、１号、１月／２月。
と酸素の混合雰囲気中でスパッタを行ないα−Ｆ ｅ
２０３膜を生成し、これを高温で還元してＦｅ３Ｏ４膜
とする。またＦｅ５０．膜を３００〜３３０℃で酸化す
ればｒ−Ｆｅ２０３膜が得られる。また、Ｆｅ、Ｏ，焼
結体をターゲットとして、スパッタを行ない、Ｆｅ３Ｏ
４膜を生成する方法もある。これを酸化すればＴ−Ｆｅ
２Ｏ３膜が得られる〔たとえば、ジェー、ケー、ハワー
ド“シン フィルムズ フォー マグネティンフレコー
ディング テクノロジー：ニーレビュー”ジャーナル
オブ バキューム サイエンス テクノロジー ニー、
４巻、１号、１月／２月。
１９８６ （Ｊ、 Ｋ、 Ｈｏｗａｒｄ″Ｔｈ１ｎ ｆ
ｉｌｍｓ ｆｏｒｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｃｏｒｄｉ
ｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ： Ａｒｅｖｉｅｗ
”Ｊ、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈｎｏｌ、 Ａ、
Ｆｅ１４． Ｎａｌ＋Ｊ ａｎ／ Ｆ ｅｂ、 １９
８６．）） 。
ｉｌｍｓ ｆｏｒｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｃｏｒｄｉ
ｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ： Ａｒｅｖｉｅｗ
”Ｊ、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈｎｏｌ、 Ａ、
Ｆｅ１４． Ｎａｌ＋Ｊ ａｎ／ Ｆ ｅｂ、 １９
８６．）） 。
発明が解決しようとする問題点
鉄酸化物を合成する場合、α−Ｆｅ２０ｓが生成し易い
、スパッタ法によりｒ Ｆ ｅ ２０Ｂ膜を生成する
際にも、上述したようにα−Ｆｅ、Ｏ。
、スパッタ法によりｒ Ｆ ｅ ２０Ｂ膜を生成する
際にも、上述したようにα−Ｆｅ、Ｏ。
が生成するためこれを還元、そして酸化の工程を経てγ
−Ｆｅ２Ｏ３の単相膜としなくてはならない。またＦｅ
３Ｏ４焼結体をターゲットにした場合は、Ｆ ｅ ｇ
Ｏ□が生成するがこれもやはり酸化という工程を経て、
ｒ−Ｆｅ２０３膜を生成するのである。結局、スパッタ
法では直接γ−Ｆｅ２０３単相膜を合成することができ
ないのである。
−Ｆｅ２Ｏ３の単相膜としなくてはならない。またＦｅ
３Ｏ４焼結体をターゲットにした場合は、Ｆ ｅ ｇ
Ｏ□が生成するがこれもやはり酸化という工程を経て、
ｒ−Ｆｅ２０３膜を生成するのである。結局、スパッタ
法では直接γ−Ｆｅ２０３単相膜を合成することができ
ないのである。
本発明は上記問題点に鑑み、酸化鉄磁性薄膜（γ−Ｆｅ
１２０Ｂ）を直接合成できる製造方法を提供するもので
ある。
１２０Ｂ）を直接合成できる製造方法を提供するもので
ある。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明は、酸化鉄磁性薄膜
の製造方法に従来のスパッタ法ではなくプラズマの活性
さを利用したプラズマＣＶＤ法を用いることにより、γ
−Ｆｅ２０ａ連続膜を直接合成するという構成を備えた
ものである。
の製造方法に従来のスパッタ法ではなくプラズマの活性
さを利用したプラズマＣＶＤ法を用いることにより、γ
−Ｆｅ２０ａ連続膜を直接合成するという構成を備えた
ものである。
作用
本発明は上記した構成によって、γ−Ｆ ｅ ２０３薄
膜を直接合成するため、スパッタ法のように別の結晶構
造をもつ合成膜を酸化または還元することにより結晶構
造を変化させｒ−Ｆｅ２０８膜を得るといった工程が不
要となるのである。つまり、酸化、還元の際の結晶構造
の変化による膜質等への悪影響がまったくなくなると言
える。
膜を直接合成するため、スパッタ法のように別の結晶構
造をもつ合成膜を酸化または還元することにより結晶構
造を変化させｒ−Ｆｅ２０８膜を得るといった工程が不
要となるのである。つまり、酸化、還元の際の結晶構造
の変化による膜質等への悪影響がまったくなくなると言
える。
またスパッタに比ベプラズマＣＶＤ法が量産化に適して
いることなどから製造コストも大幅に低減することがで
きるのである。
いることなどから製造コストも大幅に低減することがで
きるのである。
実施例
以下本発明の一実施例のプラズマＣＶＤ法による酸化鉄
（Ｔ−Ｆｅ２０．）磁性薄膜の製造方法について、図面
を参照しながら説明する。
（Ｔ−Ｆｅ２０．）磁性薄膜の製造方法について、図面
を参照しながら説明する。
図は本発明の一実施例におけるプラズマＣＶＤ装置の概
略図を示すものである０図においてｌは反応チャンバー
、２，３はそれぞれ高周波電極と高周波電源でプラズマ
を発生させるものである。
略図を示すものである０図においてｌは反応チャンバー
、２，３はそれぞれ高周波電極と高周波電源でプラズマ
を発生させるものである。
４は基板加熱ホルダー、５は基板、６はフェロセンの入
ったバブラー、７はキャリアガスボンベ（Ａｒ）、８は
反応ガスボンベ（０□）、９は反応チャンバー内を真空
にひくためのロータリーポンプである。また、１０はバ
ブラーを加熱するためのヒーターである。
ったバブラー、７はキャリアガスボンベ（Ａｒ）、８は
反応ガスボンベ（０□）、９は反応チャンバー内を真空
にひくためのロータリーポンプである。また、１０はバ
ブラーを加熱するためのヒーターである。
バブラーヒーター１０により、フェロセンの入ったバブ
ラーを８０℃に加熱し、発生したフェロセンの蒸気をア
ルゴンのキャリアガス（流量１０．０ｍＡ’／分）とと
もにロータリーポンプ９により減圧された反応チャンバ
ー１内に導入する。基板加熱ホルダー４によりあらかじ
め基板５ （ポリイミド）を３００℃に加熱しておき、
反応ガス８の酸素を５ ｍ １２７分で反応チャンバー
１内に導入してプラズマを発生（高周波電力４ Ｗ／ｃ
ｄ）させ、３０分間減圧下（０，１Ｔｏｒｒ）で反応さ
せ、ポリイミド基板５上に鉄酸化物を折出させた。Ｘ線
解析を行なった結果ｒ−Ｆｅ２０３単相膜であることが
わかった。また、ＶＳＭ （振動試料型磁力計）による
膜の磁気特性を測定した結果保磁力は３７００ｇであっ
た。
ラーを８０℃に加熱し、発生したフェロセンの蒸気をア
ルゴンのキャリアガス（流量１０．０ｍＡ’／分）とと
もにロータリーポンプ９により減圧された反応チャンバ
ー１内に導入する。基板加熱ホルダー４によりあらかじ
め基板５ （ポリイミド）を３００℃に加熱しておき、
反応ガス８の酸素を５ ｍ １２７分で反応チャンバー
１内に導入してプラズマを発生（高周波電力４ Ｗ／ｃ
ｄ）させ、３０分間減圧下（０，１Ｔｏｒｒ）で反応さ
せ、ポリイミド基板５上に鉄酸化物を折出させた。Ｘ線
解析を行なった結果ｒ−Ｆｅ２０３単相膜であることが
わかった。また、ＶＳＭ （振動試料型磁力計）による
膜の磁気特性を測定した結果保磁力は３７００ｇであっ
た。
以下同様にして、バブラ一温度１反応チャンバー内圧力
、基板加熱温度等を変化させた時のＸ線解析、ＶＳＭ測
定の結果を第１表に示す。
、基板加熱温度等を変化させた時のＸ線解析、ＶＳＭ測
定の結果を第１表に示す。
なお特許請求の範囲において、プラズマを維持する時の
圧力がｌＸｌ０”〜１，０Ｔｏｒｒと限定したのは、Ｉ
Ｘ １０２Ｔｏｒｒ以下では反応生成物Ｃｒ−Ｆｅ２
Ｏ２）の製膜速度が遅く実用上問題があるためであり、
Ｉ Ｔｏｒｒ以上ではプラズマが有効に効かないためで
ある。
圧力がｌＸｌ０”〜１，０Ｔｏｒｒと限定したのは、Ｉ
Ｘ １０２Ｔｏｒｒ以下では反応生成物Ｃｒ−Ｆｅ２
Ｏ２）の製膜速度が遅く実用上問題があるためであり、
Ｉ Ｔｏｒｒ以上ではプラズマが有効に効かないためで
ある。
発明の効果
以上のように本発明は、フェロセン
（（Ｃ５Ｈ５） ２ Ｆ ｅ） （Ｄ蒸気ト、キャリア
カスおよび反応ガスとしての酸素の混合ガスを減圧プラ
ズマ中で分解１反応させるために、加熱した対象基板上
に直接酸化鉄（γ Ｆｅ２０ａ）の単相膜を生成する
ことができるのである。
カスおよび反応ガスとしての酸素の混合ガスを減圧プラ
ズマ中で分解１反応させるために、加熱した対象基板上
に直接酸化鉄（γ Ｆｅ２０ａ）の単相膜を生成する
ことができるのである。
図は本発明の一実施例における酸化鉄磁性薄膜を製造す
るプラズマＣＶＤ装置の概略図である。 １・・・・・・反応チャンバー、２・・・・・・高周波
電極、３・・・・・・高周波電源、４・・・・・・基板
加熱ホルダー、５・・・・・・基板、６・・・・・・（
（０５Ｈ５） ２Ｆｅ）バブラー、７・・・・・・Ａｒ
キャリアガスボンベ、８・・・・・・０２反応ガスボン
ベ、９・・・・・・ロータリーポンプ、ｌＯ・・・・・
・バブラーヒーター。
るプラズマＣＶＤ装置の概略図である。 １・・・・・・反応チャンバー、２・・・・・・高周波
電極、３・・・・・・高周波電源、４・・・・・・基板
加熱ホルダー、５・・・・・・基板、６・・・・・・（
（０５Ｈ５） ２Ｆｅ）バブラー、７・・・・・・Ａｒ
キャリアガスボンベ、８・・・・・・０２反応ガスボン
ベ、９・・・・・・ロータリーポンプ、ｌＯ・・・・・
・バブラーヒーター。
Claims (3)
- （１）フェロセン（（Ｃ＿５Ｈ＿５）＿２Ｆｅ）の蒸気
と、キャリアーガスおよび反応ガスを、減圧プラズマ中
で分解させ、加熱した対象基板上に酸化鉄（γ−Ｆｅ＿
２Ｏ＿３）を折出させることを特徴とする酸化鉄磁性薄
膜の製造方法。 - （２）反応ガスとして、酸素（Ｏ＿２）を用いることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の酸化鉄磁性
薄膜の製造方法。 - （３）プラズマを維持する時の圧力が１×１０＾２〜１
．０Ｔｏｒｒであることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の酸化鉄磁性薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28018086A JPS63133323A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28018086A JPS63133323A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63133323A true JPS63133323A (ja) | 1988-06-06 |
Family
ID=17621410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28018086A Pending JPS63133323A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63133323A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0378114A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 酸化鉄磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP28018086A patent/JPS63133323A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0378114A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 酸化鉄磁気記録媒体の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63133323A (ja) | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 | |
| JPS63181305A (ja) | 酸化鉄垂直磁化薄膜の製造方法 | |
| US3996395A (en) | Method of increasing the coercivity of magnetite films | |
| JPS63104312A (ja) | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 | |
| JPH10308320A (ja) | 磁気抵抗効果膜の製造方法 | |
| JPS61287032A (ja) | 磁性体薄膜の製造方法 | |
| Dhara et al. | Parametric investigation for direct chemical vapour deposition of magnetite films | |
| JPS63275109A (ja) | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 | |
| JPH083902B2 (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| CN1971718B (zh) | 用于磁记录介质的铁磁粉,该粉末的制备方法以及使用该粉末的磁记录介质 | |
| JPS60163233A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造法 | |
| US20040052935A1 (en) | Magnetic thin film and production method therefor | |
| JPS63300420A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63104313A (ja) | ガンマ酸化鉄薄膜の製造方法 | |
| JPS6380504A (ja) | 強磁性金属粉末の製造方法 | |
| JPS60157203A (ja) | 粉末磁性材料 | |
| JPH0378114A (ja) | 酸化鉄磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01154315A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0247011B2 (ja) | Jiseitaihakumakunoseizohoho | |
| JPS62211370A (ja) | スパツタ用窒化鉄タ−ゲツト | |
| JPS62264427A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS58180004A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61192035A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61242330A (ja) | 磁性体薄膜の製造方法 | |
| JPS59124036A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 |