JPS62211370A - スパツタ用窒化鉄タ−ゲツト - Google Patents
スパツタ用窒化鉄タ−ゲツトInfo
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- JPS62211370A JPS62211370A JP61052855A JP5285586A JPS62211370A JP S62211370 A JPS62211370 A JP S62211370A JP 61052855 A JP61052855 A JP 61052855A JP 5285586 A JP5285586 A JP 5285586A JP S62211370 A JPS62211370 A JP S62211370A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は薄膜磁気記録媒体や薄膜磁気ヘッドなどの磁性
薄膜形成に使用するスパッタ用窒化鉄ターゲットに関す
るものである。
薄膜形成に使用するスパッタ用窒化鉄ターゲットに関す
るものである。
（発明の概要）
本発明は薄膜磁気記録媒体や薄膜ヘッドなどに利用する
γ′−窒化鉄（Ｆｅａｒ）、ε−窒化鉄（ＦｅｘＮで２
＜Ｘ≦３）、ζ−窒化鉄（Ｆｅ２Ｎ）などの窒化鉄を熱
間静水圧加圧法により成形することにより、形成した薄
膜の磁気特性、信頼性などがすぐれ、かつスパッタ条件
の制御しやすい良質なスパッタ用ターゲットの供給を可
能とするものである。
γ′−窒化鉄（Ｆｅａｒ）、ε−窒化鉄（ＦｅｘＮで２
＜Ｘ≦３）、ζ−窒化鉄（Ｆｅ２Ｎ）などの窒化鉄を熱
間静水圧加圧法により成形することにより、形成した薄
膜の磁気特性、信頼性などがすぐれ、かつスパッタ条件
の制御しやすい良質なスパッタ用ターゲットの供給を可
能とするものである。
（従来の技術）
磁気ヘッドや磁気記録媒体などの磁性材料としては合金
やフェライトが実用されているが、磁気特性、耐食性、
対摩耗性を兼ねそなえた磁性材料としてγ′−窒化鉄、
α“−窒化鉄（ＦｅｉＮｚ）。
やフェライトが実用されているが、磁気特性、耐食性、
対摩耗性を兼ねそなえた磁性材料としてγ′−窒化鉄、
α“−窒化鉄（ＦｅｉＮｚ）。
ε−窒化鉄や、更にアモルファス、その他の不定比相を
含む窒化鉄が研究されている。
含む窒化鉄が研究されている。
この窒化鉄は針状磁性粒子として塗布形の磁気記録媒体
に利用した場合は、針状合金磁性粒子を利用したメタル
テープよりは特性が劣るため、より窒化鉄の特性を生か
す方法としては薄膜化することにより、薄膜磁気記録媒
体や薄ｌ１１ｖｉｉ気ヘッドに利用することが考えられ
ている。
に利用した場合は、針状合金磁性粒子を利用したメタル
テープよりは特性が劣るため、より窒化鉄の特性を生か
す方法としては薄膜化することにより、薄膜磁気記録媒
体や薄ｌ１１ｖｉｉ気ヘッドに利用することが考えられ
ている。
この場合、窒化鉄は融点以下で窒化鉄を放出し分解する
ため、成ＩＩＩ法としては窒化ガスを導入してＦｅを蒸
発源あるいはターゲットとするイオンブレーティングや
反応性スパッタが主に利用されており、そのようなもの
として第５回日本応用磁気学会学術講演概要集９９頁（
２１ａ［３〜５）や第７回日本応用磁気学会学術講演概
要集６７頁（７ｐＣ−６）などの例がある。
ため、成ＩＩＩ法としては窒化ガスを導入してＦｅを蒸
発源あるいはターゲットとするイオンブレーティングや
反応性スパッタが主に利用されており、そのようなもの
として第５回日本応用磁気学会学術講演概要集９９頁（
２１ａ［３〜５）や第７回日本応用磁気学会学術講演概
要集６７頁（７ｐＣ−６）などの例がある。
（発明が解決しようとする問題点）
Ｆｅを蒸発源あるいはターゲットとするイオンブレーテ
ィングや反応性スパッタ法では導入窒化ガス分圧やその
他の条件により生成する相がα−鉄。
ィングや反応性スパッタ法では導入窒化ガス分圧やその
他の条件により生成する相がα−鉄。
γ′−窒化鉄、ε−窒化鉄、ζ−窒化鉄、α“−窒化鉄
など多彩であり、しかもこれらが混在することが多く、
その生成相や磁気特性の制御が極めて難しい。
など多彩であり、しかもこれらが混在することが多く、
その生成相や磁気特性の制御が極めて難しい。
一方、目的とする組成の窒化鉄をターゲットとするスパ
ッタ法によればこのような欠点は除去できるのであるが
、窒化鉄は分解しやすいため、純度が高く、異相のＵ在
しない、ち密で均一な欠陥の少ない窒化鉄スパッタ用タ
ーゲットは得られず、そのためやはり生成相や磁気特性
の制御が困難ですぐれた窒化鉄磁性薄膜は得られなかっ
た。
ッタ法によればこのような欠点は除去できるのであるが
、窒化鉄は分解しやすいため、純度が高く、異相のＵ在
しない、ち密で均一な欠陥の少ない窒化鉄スパッタ用タ
ーゲットは得られず、そのためやはり生成相や磁気特性
の制御が困難ですぐれた窒化鉄磁性薄膜は得られなかっ
た。
そこで本発明は上記のような欠点を克服し、成膜条件の
管理が容易で、磁気特性、信頼性のすぐれた窒化鉄磁性
薄膜を得ることのできる窒化鉄スパッタ用ターゲットを
供給することを目的としている。
管理が容易で、磁気特性、信頼性のすぐれた窒化鉄磁性
薄膜を得ることのできる窒化鉄スパッタ用ターゲットを
供給することを目的としている。
（問題点を解決するための手段）
本発明では良質な窒化鉄ターゲットを得るために、窒化
鉄ターゲットを熱間静水圧加圧法により形成する。
鉄ターゲットを熱間静水圧加圧法により形成する。
（作用）
Ａｒガスなどを作動媒体とし、高温高圧で加圧成形を行
なう熱間静水圧加圧法によれば、窒化鉄の分解が抑制さ
れ、異相の混在しない、しかも、ち密で均一な窒化鉄タ
ーゲットが得られる。
なう熱間静水圧加圧法によれば、窒化鉄の分解が抑制さ
れ、異相の混在しない、しかも、ち密で均一な窒化鉄タ
ーゲットが得られる。
（実施例）
以下実施例により詳細に説明する。
Ｆｅ微粉末を８８３とト１２の混合ガス中で窒化してＦ
ｅ４ Ｎ粉末を得た。
ｅ４ Ｎ粉末を得た。
このＦｅａ Ｎ粉末をプレス成形した後、軟鋼容器に入
れ、真空引ぎして封止した。
れ、真空引ぎして封止した。
そのあとＡｒガスを媒体として５７０℃、 １ｏｏｏ気
圧で熱間静水圧加圧を行なった後、軟鋼容器から取り出
し、表面を削り取り、スパッタ用ターゲットを得た。
圧で熱間静水圧加圧を行なった後、軟鋼容器から取り出
し、表面を削り取り、スパッタ用ターゲットを得た。
このターゲットはＸ線回折によりＦｅａ Ｎ以外の相は
検出されなかった。
検出されなかった。
また密度もほぼ理論値どうりで、断面の検査によっても
空隙などは見出されず、ち密で均一な組織をもっていた
。
空隙などは見出されず、ち密で均一な組織をもっていた
。
これをターゲットとして２極高周波スパッタ法によりＦ
ｅａ Ｎ ＦＩＪ膜の成膜を行なった。
ｅａ Ｎ ＦＩＪ膜の成膜を行なった。
スパッタ条件の制御は従来に比較してはるかに容易で再
現性も良かった。
現性も良かった。
得られたＦｅａ Ｎ薄膜に異相の混在は認められなかっ
た。
た。
飽和磁束密度も従来法のものより１５〜２０％高く、飽
和磁束密度の経時劣化も４分の１から５分の１と大幅に
減少した。
和磁束密度の経時劣化も４分の１から５分の１と大幅に
減少した。
上記例はＦｅａＮであったがその他不定比組成の窒化鉄
でも、ターゲットとの組成のずれの少ない薄膜が再現性
良く形成できた。
でも、ターゲットとの組成のずれの少ない薄膜が再現性
良く形成できた。
（発明の効果）
本発明は以上述べたようにスパッタ用窒化鉄ターゲット
を熱間静水圧加圧法により成形することにより良質な窒
化鉄ターゲットが得られ、それにより磁気特性、信頼性
のすぐれた窒化鉄磁性薄膜を得ることが可能となる。
を熱間静水圧加圧法により成形することにより良質な窒
化鉄ターゲットが得られ、それにより磁気特性、信頼性
のすぐれた窒化鉄磁性薄膜を得ることが可能となる。
Claims (1)
- 熱間静水圧加圧法により形成したことを特徴とするスパ
ッタ用窒化鉄ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61052855A JPS62211370A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | スパツタ用窒化鉄タ−ゲツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61052855A JPS62211370A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | スパツタ用窒化鉄タ−ゲツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62211370A true JPS62211370A (ja) | 1987-09-17 |
Family
ID=12926472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61052855A Pending JPS62211370A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | スパツタ用窒化鉄タ−ゲツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62211370A (ja) |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP61052855A patent/JPS62211370A/ja active Pending
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