JPH0334618B2 - - Google Patents
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- JPH0334618B2 JPH0334618B2 JP8672784A JP8672784A JPH0334618B2 JP H0334618 B2 JPH0334618 B2 JP H0334618B2 JP 8672784 A JP8672784 A JP 8672784A JP 8672784 A JP8672784 A JP 8672784A JP H0334618 B2 JPH0334618 B2 JP H0334618B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は、鉄を主材料とした薄膜型磁気記録
媒体の製造方法に関する。 〔従来技術〕 いわゆる薄膜型磁気記録媒体は、高密度磁気記
録媒体としてその実用化が図られつゝある。従
来、この種の高密度磁気記録媒体で最も優れたも
のは、コバルトまたはコバルト合金等の強磁性材
料を、非磁性の基材の上に斜めから真空蒸着して
磁性膜が作られるが、こうして作られた磁性膜
は、保磁力が10000eあり、また角型比は、0.9以
上ある。 しかし、コバルト系薄膜型磁気記録媒体の実用
について、二つの大きな問題が存在する。第一
に、コバルト系の磁性膜は、それ自体に実用上充
分な耐蝕性が無く、従来では、磁性膜に保護膜を
施して使用している。しかし、同保護膜をもつて
しても耐蝕性は、充分でなく、例えば濃度５％の
塩水に浸漬して外観又は磁気特性に変化が認めら
れないのはせいぜい２日間程度である。この耐蝕
性については、同塩水中で１ヶ月程度耐えられる
程度の耐蝕性が要望されているところである。 第二にコバルトは資源が少なく高価なので資源
が豊富で価格も安い鉄等の材料の利用が望まれて
いたが、鉄を使用したものでは、薄膜型磁気記録
媒体で保磁力が10000e以上、角型比0.9以上で、
しかも優れた耐蝕性を有する高密度磁気記録媒体
は得られなかつた。 〔発明の目的〕 この発明は、薄膜型磁気記録媒体の上記のよう
な要望を満たすべくなされたもので、鉄を主材料
とした優れた磁気特性と耐蝕性とを有する磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の構成〕 この発明による薄膜型磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性の基材上に鉄を蒸着すると同時に、窒
素と酸素を含む混合ガスをイオン化し、これを上
記基材上に照射することによつて同基材上に磁性
膜を作製するものである。混合ガスのイオン化に
は、イオンガン或いは高周波放電型、直流放電
型、アーク放電型等、各種のイオンプレーテイン
グに使用される公知のイオン化手段を用いること
ができる。 この場合に、上記混合ガス中の窒素ガスの濃度
が高くなると磁性膜の磁気特性において角型比が
悪くなる傾向があり、また逆に酸素ガスの濃度が
高い場合は、磁性が低下する傾向がある。従つて
実用的には、混合ガス中に含まれる酸素ガスの濃
度が10〜30％の範囲が適当であり、特に20％前後
の濃度で最も良好な結果が得られる。 〔実施例〕 次ぎに、この発明の実施例について説明する
と、第１図で示すように、純度99.9％の鉄を蒸発
源１とし、非磁性の基材として35mm角のガラス製
基板２を用い、この上に磁性膜を作製した。即
ち、真空槽内の気圧を10-6Torr以下の真空状態
とし、電子銃５から上記蒸発源１に電子線を照射
して、同蒸発源１を蒸発させ、これから発生した
鉄の蒸気を80°の入射角で基板２の上に照射した。
またこれと同時に、バルブ４を介してカウフマン
型のイオンガン３に窒素ガスと酸素ガスを含む混
合ガスを導入し、これを同イオンガン３において
イオン化し、基板２上に照射した。この時の真空
槽内の真空度は、１×10-4Torrになり、また、
混合ガスの導入量を１〜2scc／min、基板２上の
イオン電流密度を0.2ｍÅ／cm2とした。この時の
蒸発源１からの蒸発速度は、基板２に隣接し、か
つこれと同じ高さに設置したセンサーにより測定
しながら、これと連動させた水晶振動式膜厚計
（XTM）の指示値が20Å／ｓになるように制御
した。 なお、混合ガスについては、酸素ガスと窒素ガ
スの総和に対する酸素ガスの濃度を０、５、10、
20、50％と、５段階に別けて実施した。 次ぎにこうして作製された磁気記録媒体につい
てそれぞれ試料振動型磁力計によつて磁性膜のＭ
−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め、さら
に光干渉式膜厚計によつて磁性膜の膜厚を測定し
た。この結果を表１に示す。なお、磁性膜の膜厚
は、何れの磁気記録媒体も1000〜1500Å程度であ
つた。 次ぎに、これらの磁気記録媒体を濃度５％の塩
水に３ヶ月間浸漬した後、外観及び磁気特性
媒体の製造方法に関する。 〔従来技術〕 いわゆる薄膜型磁気記録媒体は、高密度磁気記
録媒体としてその実用化が図られつゝある。従
来、この種の高密度磁気記録媒体で最も優れたも
のは、コバルトまたはコバルト合金等の強磁性材
料を、非磁性の基材の上に斜めから真空蒸着して
磁性膜が作られるが、こうして作られた磁性膜
は、保磁力が10000eあり、また角型比は、0.9以
上ある。 しかし、コバルト系薄膜型磁気記録媒体の実用
について、二つの大きな問題が存在する。第一
に、コバルト系の磁性膜は、それ自体に実用上充
分な耐蝕性が無く、従来では、磁性膜に保護膜を
施して使用している。しかし、同保護膜をもつて
しても耐蝕性は、充分でなく、例えば濃度５％の
塩水に浸漬して外観又は磁気特性に変化が認めら
れないのはせいぜい２日間程度である。この耐蝕
性については、同塩水中で１ヶ月程度耐えられる
程度の耐蝕性が要望されているところである。 第二にコバルトは資源が少なく高価なので資源
が豊富で価格も安い鉄等の材料の利用が望まれて
いたが、鉄を使用したものでは、薄膜型磁気記録
媒体で保磁力が10000e以上、角型比0.9以上で、
しかも優れた耐蝕性を有する高密度磁気記録媒体
は得られなかつた。 〔発明の目的〕 この発明は、薄膜型磁気記録媒体の上記のよう
な要望を満たすべくなされたもので、鉄を主材料
とした優れた磁気特性と耐蝕性とを有する磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の構成〕 この発明による薄膜型磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性の基材上に鉄を蒸着すると同時に、窒
素と酸素を含む混合ガスをイオン化し、これを上
記基材上に照射することによつて同基材上に磁性
膜を作製するものである。混合ガスのイオン化に
は、イオンガン或いは高周波放電型、直流放電
型、アーク放電型等、各種のイオンプレーテイン
グに使用される公知のイオン化手段を用いること
ができる。 この場合に、上記混合ガス中の窒素ガスの濃度
が高くなると磁性膜の磁気特性において角型比が
悪くなる傾向があり、また逆に酸素ガスの濃度が
高い場合は、磁性が低下する傾向がある。従つて
実用的には、混合ガス中に含まれる酸素ガスの濃
度が10〜30％の範囲が適当であり、特に20％前後
の濃度で最も良好な結果が得られる。 〔実施例〕 次ぎに、この発明の実施例について説明する
と、第１図で示すように、純度99.9％の鉄を蒸発
源１とし、非磁性の基材として35mm角のガラス製
基板２を用い、この上に磁性膜を作製した。即
ち、真空槽内の気圧を10-6Torr以下の真空状態
とし、電子銃５から上記蒸発源１に電子線を照射
して、同蒸発源１を蒸発させ、これから発生した
鉄の蒸気を80°の入射角で基板２の上に照射した。
またこれと同時に、バルブ４を介してカウフマン
型のイオンガン３に窒素ガスと酸素ガスを含む混
合ガスを導入し、これを同イオンガン３において
イオン化し、基板２上に照射した。この時の真空
槽内の真空度は、１×10-4Torrになり、また、
混合ガスの導入量を１〜2scc／min、基板２上の
イオン電流密度を0.2ｍÅ／cm2とした。この時の
蒸発源１からの蒸発速度は、基板２に隣接し、か
つこれと同じ高さに設置したセンサーにより測定
しながら、これと連動させた水晶振動式膜厚計
（XTM）の指示値が20Å／ｓになるように制御
した。 なお、混合ガスについては、酸素ガスと窒素ガ
スの総和に対する酸素ガスの濃度を０、５、10、
20、50％と、５段階に別けて実施した。 次ぎにこうして作製された磁気記録媒体につい
てそれぞれ試料振動型磁力計によつて磁性膜のＭ
−Ｈ特性を測定し、保磁力と角型比を求め、さら
に光干渉式膜厚計によつて磁性膜の膜厚を測定し
た。この結果を表１に示す。なお、磁性膜の膜厚
は、何れの磁気記録媒体も1000〜1500Å程度であ
つた。 次ぎに、これらの磁気記録媒体を濃度５％の塩
水に３ヶ月間浸漬した後、外観及び磁気特性
以上説明した通り、この発明によれば、比較的
安価で安定した供給が期待できる鉄を主材料とし
て、コバルト系の斜方蒸着による磁気記録媒体と
ほゞ同等の磁気特性を有し、保護膜を施さなくと
も耐蝕性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。
安価で安定した供給が期待できる鉄を主材料とし
て、コバルト系の斜方蒸着による磁気記録媒体と
ほゞ同等の磁気特性を有し、保護膜を施さなくと
も耐蝕性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。
図面は、この発明を実施する装置の一例を摸式
的に示した説明図である。 １……蒸発源（鉄）、２……基板（非磁性基
材）。
的に示した説明図である。 １……蒸発源（鉄）、２……基板（非磁性基
材）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非磁性の基材上に磁性材料を真空蒸着して薄
膜型磁気記録媒体を製造する方法において、基材
上に加熱蒸発させた鉄の蒸気を入射させると同時
に、窒素と酸素を含む混合ガスのイオンを、上記
基材上に照射して同基材上に磁性膜を作製するよ
うにしたことを特徴とする薄膜型磁気記録媒体の
製造方法。 ２ 反応ガスが空気である特許請求の範囲第１項
記載の薄膜型磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8672784A JPS60231924A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8672784A JPS60231924A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60231924A JPS60231924A (ja) | 1985-11-18 |
| JPH0334618B2 true JPH0334618B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=13894886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8672784A Granted JPS60231924A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60231924A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62298027A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-25 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
| DE69322717T2 (de) * | 1992-09-11 | 1999-05-06 | Hitachi Ltd | Hochkorrosionsbeständiges Metall, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| US8872615B2 (en) | 2010-05-28 | 2014-10-28 | Institute Of Geological And Nuclear Sciences Limited | Magnetic nanoclusters |
-
1984
- 1984-04-28 JP JP8672784A patent/JPS60231924A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60231924A (ja) | 1985-11-18 |
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