JPS60100679A - 金属材料の銀被覆方法 - Google Patents

金属材料の銀被覆方法

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JPS60100679A
JPS60100679A JP58207116A JP20711683A JPS60100679A JP S60100679 A JPS60100679 A JP S60100679A JP 58207116 A JP58207116 A JP 58207116A JP 20711683 A JP20711683 A JP 20711683A JP S60100679 A JPS60100679 A JP S60100679A
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は安価な金属材料に銀を被覆する方法に関するも
のであ)、更に詳しくは母体金属材料の酸化又は腐蝕を
防止すると共に、電気特性、特に導電性が著しく改良さ
れた導電性材料を得るためシアン化物を用いて金属粉を
処理する方法(%公開47−3019号)、硝酸銀、炭
酸アンモニウム、エチレンジアミン4酢酸2ナトリウム
からなる硝酸銀溶液を用いて金属粉(銅粉)を処理する
方法(特公昭57−59283号)等が知られているが
、前者の特公昭47−3019号公報記載の方法は高濃
度のシアン化合物を使用するだめ極めて危険性が高く、
更に廃水処理に多額の費用を要するという問題を有して
いる。また、後者の特公開57−59283号に記載の
方法は、シアン化合物を用いていないという安全性を有
するが、硝酸銀及び炭酸アンモニウムを使用するために
雷酸銀が生成して爆発の危険性が生じると共に、硝酸銀
自体或いはその溶液による皮膚の損傷という危険性もあ
り、更にその実施に当シ、A液、B液という2種類の液
体を用い、使用時に両液を混合し、生成した沈殿が溶解
してから使用するという作業の煩雑性を有している。
本発明者らは、安全性がm<、Lかも経済性、応用性の
優れた金属材料に対する銀被覆方法につして使用し、こ
のめっき液で銅粉、ニッケル粉、鉄粉等の金属材料を処
理することによシ、上記目的が効果的に達成されると共
に、これら金属材料を均一かつ確実に銀被覆することが
でき、よシ導電性の高い銀被覆金属材料を得ることがで
きることを知見した。
即ち、本発明者らの検討によれば、硫酸銀を用い、これ
をアミノカルボン酸類、特にアミノカルボン酸に溶解し
たPH5以上の溶液をめっき液として使用した場合には
、硝酸銀を用いた場合に比較してめっき液の液粘性が小
さく、金属材料、特に金属粉体に対する分散性が良好で
あシ、金属材料の均一被覆を完全かつ確実に行なうこと
ができると共に、硝酸銀を用いた場合に比較して導電性
のよシ高い銀皮膜を形成することができることを見い出
した。更に、硫酸銀は硝酸銀のように皮膚組織を腐蝕す
る危険性も少ない上、雷酸銀生成のおそれもなく、安全
性が高いものであると共に、取扱い性が良好であシ、シ
かも上述したように本発明のめつき浴の使用によシ従来
の硝酸鍋温と比較してより導電性の高い銀被覆を与える
ことができるので、安価なかつ導電性の低い金属材料を
処理することによシ、高導電性の金属材料を簡単かつ経
済的に得ることができ、また銅に限らず、ニッケル等に
対しても良好に銀被覆することができることを知見し、
本発明をなすに至ったものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の金属材料の銀被覆方法は、硫酸銀とアを処理す
るものである。
ここで、硫酸銀を用いる理由は上述した通シであシ、硫
酸銀の使用によシめつき液の液粘性を小さくして金属材
料に対する分散性を良好なものとすることができ、かつ
よシ導電性の高い銀被膜を形成し得ると共に、安全性、
取扱い性をよシ高いものとすることができる。
硫酸銀の使用ト1°は特に制限されないが、アミノカル
ボン酸類に対する溶解量、特にめっき液lt中0.2〜
407、とシわけ0.5〜202とすることが好ましい
また、アミノカルボン酸類としては、エチレンジアミン
四酢酸(EDTA)、ニトリロ三酢酸(NTA)、ヒド
ロキシエチルエチレンジアミン三酢酸(耶DTA) 。
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、トリエチレ
ンテトラミン六酢酸(TTHA)、ヒドロキシエチルイ
ミンニ酢酸(HIDA)、ヅヒドロキシエチルグリシン
(DHEG)或いはこれらの塩等が挙げられ、これらの
1種又は2種以上を混合して使用することができるが、
特にアミノカルボン酸、とシわけDTPAXTTHA等
が好ましく用いられる。
これらのアミノカルボン酸類は硫酸銀の錯化と処理すべ
き金属材料の錯化との反応試剤として働き、硫酸銀と錯
塩を生成すると共に、使用時に金属材料とも錯塩を作9
、その際に金属材料表面の酸化膜を除去し、金属材料へ
の銀の密着性を向上させるものである。ここで、アミノ
カルボン酸類の使用量は処理すべき金属材料の種類及び
使用するアミノカルボン酸類の種類によって異なるが、
稀酸銀錯塩を生成させる以上の量とすることが好ましく
、銀1f当り2〜80tが好適である。例えばEDTA
を用いる場合には銀1g当シ3〜607、特に8〜50
1とすることが好ましく、オたDTPAの場合には4〜
75f、特に4〜40vとすることが好ましい。
この場合、アミノカルボン酸類の量が少なすぎると硫酸
銀錯塩の生成が十分でなく、金属材料上への銀の被覆が
不完全となシ、またアミノカルボン酸類が多すぎると金
属材料上へ析出被覆した銀がめつき浴中に再溶解すると
いう現象を生じる場合があり、(I−って上述した景と
することが好ましい。
なお、グルコン酸、ヒドロキシ酢酸等も錯化剤としてア
ミノカルボン酸類と併用することができるが、それぞれ
単独で使用した場合には、アミノカルボン酸類に比べる
と銀及び金属材料に対する錯化力に選択性があす、マた
基本的に錯化力が弱く、得られた銀被覆材料の導電性は
大きく改善されないため、本発明の目的は達成されない
1だ、アミノカルボン酸類はアンモニウムイオンと併用
してその錯化力を強めることもできるが、得られた銀被
覆材料の導電性は改善されず、まためっき浴中に雷酸銀
が生成する場合もあるので、アンモニウムイオンを併用
することは好ましくない。
本発す1]めつき液は一6以上とするものであるが、よ
シ望ましくはp)16〜11、特に8〜1oとすること
が好オしい。PHが低すぎる場合、また逆にPHが高す
ぎる場合は、アミノカルボン酸類の錯化力が不充分で硫
酸銀の溶解が困難であり、金属材料への銀の被覆は不完
全なものになる場合が生じる。
この場合、鉛被覆を行なう金属材料の種類によってより
ぜ゛ましいPH範囲を選定することが好1しく、例えば
鉄の場合にはPHは6〜9、銅の場合にはPHは7〜1
1、ステンレススチール及びニッケルのシ)合には−」
は7〜10とすることが好ましい。
また、めっき液のpH調整はアミノカルボン酸類として
アミノカルボン酸を使用し、無機アルカリ金(・へ塩、
牡に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属塩、と9わけ炭酸すトリウムでPHを調整することが
最も好ましい。本発明を実施するに当って、アミノカル
ボン酸溶液を炭酸アルカリ金属塩で一定のPH値に調整
しためっき浴を用いることにより、硫酸銀及び各種金属
材料に対する錯化力が強く、かつ非常に簡単かつ確実に
金属材料上に導電性のよp高い被膜を析出させ、金属材
料の酸化や腐1i!llを確実に防止することができみ
ものである。
この場合、アミノカルボン酸溶液のPHを調整するに当
り、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸塩等を
使用することもできるが、めっき液の粘度が上昇したり
、或いは金属材料とリン酸塩とが反応するととbどの現
象を生じる場合があり、かつ得られる銀皮膜の導電性も
炭酸アルカリ金属塩を用いたf1台と比較して劣る。寸
だ、アミノカルボン酸塩溶液のpHを炭酸アルカリ金属
塩で調整する代りに、アミノカルがン酸塩溶液のpl−
1を無機酸又は有機酸で調終する場合には、このアミノ
カルボン酸塩溶液は所定のPH値を示すにもかかわらず
錯化力が弱く、硫酸銀を低濃度でも溶解することができ
ないことがある。更にアミノカルボン酸f6’tlのP
Hr、 トリエタノールアミン等の有機塩基で調整した
場合も得られる銀被膜の導電性が劣る。
従って、アミノカルボン酸類としてアミノカルボン酸を
使用し、これを炭酸アルカリ金属塩、特に炭酸すトリウ
ムで、ti 5〜11、特に8〜10に調整することが
最も好ましい。
本発明にあっては、上述しためつき液中に金属材料を浸
漬し、この金属材料表面に置換めっき法により銀皮膜を
形成するものであるが、ここで金属材料としては銅、ニ
ッケル、鉄、ステンレススチール、これらの合金等、置
換めっき可能な材質であればいかなるものでも使用でき
る。まだこれら材料は粉状、繊維状、板状等であって差
支えないが、特に粉状、繊維状金属材料に対して好適に
採用され、銀粉、銀繊維の代りとなる銀被覆金属粉、金
属繊維を提供することができる。なお、金属粉の粒径は
特に制限はないが、0.1μ以上が好ましく用いられる
前記金属材料表面に銀被膜を形成する方法は、浸漬法が
一般に採用されるが、場合によシ金属材料にめっき液を
吹付ける等の方法も採用し得る。
寸だ、めっき液は一般に室温で使用することができる。
更に、浸漬法を採用する場合(・寸、めっき液を撹拌、
流動させることが好ましい。
金属材料に対する銀被膜の被覆量は必ずしも制限されな
いが、金属粉又は繊維の場合は、これら金属粉又は繊維
に対し0.1〜20M量チ、特に0.5〜5重8%とす
ることが好ましく、この範囲で銀粉と殆んど遜色のない
導電性を有する銀被覆が得られ、かつ母体金属の酸化腐
蝕を確実に改善することができる。
ここで、金属材料を高い比率で銀被覆する場合には、め
っき液に対する金属材料の処理量を少なくするか或いは
アミノカルボン酸類の量を多く用いて硫酸銀を高濃度に
溶解し、一定量の金属材料を処理するようにすればよい
なお、本発明めっき液に対する金属材料の使用量は、特
に金属粉又は繊維を使用した場合、金属粉又は繊維10
02当りめっき液50〜3000ゴ、とシわけ300〜
15007!とすることが好ましく、この範囲の使用量
で導電性の良好な銀被覆金属材料が得られる。
本発明に、よシ得られた銀被覆金属材料は、硫酸銀をア
ミノカルボン酸類に溶解しためっき液を使用しているこ
とによシ、高い導電性を示し、従って銀粉の代シに例え
ば塗料、接着剤、合成樹茄へのフィラーとして用いるこ
とができる。また、本発明方法は安全性が高く、取扱い
性に優れ、安価に銀被覆金属材料を提供することができ
るものである。
次に実験例を示し、本発明の効果を具体的に示す。
使用し、この中に銅粉1002を入れ、30分間撹拌し
て銀めっきを行なった。
NIL I FJa 2 硫酸銀 2.8?/l − 硝酸銀 2.8?/1 EDTA・4H15,21/ 15.2 〃炭酸ナトリ
ウム 12.2 // 12.2 //pH8,88,
8 次に、得られた銀被覆粉体をスコッチメンデングテーデ
に5002の荷重で圧着してこれら粉体の皮膜を形成し
く皮膜厚さ約30μ)、テスター(SOARCnrT)
oration ME−533DTGTAL■LTIM
ETER)で10?III+1間隔の抵抗を測定した。
その結果を第1表に示す。
第1表 第1表の結果よシ、硫酸銀を使用することによって導電
性の高い銀被膜を形成することができることが認められ
た。
〔実験例2〕 第2表に示す…調整剤を使用した下記組成のめつき液を
用いて実験例1と同様にめっきを行ない、得られた銀被
覆銅粉の抵抗値を実験例1と同様に測定し、第2表に示
す結果を得た。
硫酸銀 2.8f/1 IDTA・4H15,2/j 8.8 第2表 第2表の結果から、…調整剤としては炭酸ナトリウムが
最も良好であることが認められた。
なお、硫酸銀2.8 Y/l % EDTA ・4Na
 15.2 f/Lを使用し、これを塩酸、或いは酢酸
でpH8,8に調整したものは硫酸銀が完全に溶解し難
いものであった。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。
〔実施例1〕 銅粉として電解銅粉CE−1110(補出金属社製、平
均粒径10μ)を使用し、下記組成のめつき液を用いて
銀被覆を施した。
めっき液組成 A 1’2 S 04 2゜8 f/1EDTA−4H
15,2f/1 NatCOs 12.2f/L … 8.8 銅粉1002を5 % H2SO,溶液200 ml!
中に入れて約1o分間撹拌し、銅粉表面の酸化皮膜を除
去する。次いで、約30’Cの温水2tで洗浄した後、
スラリー状となった銅粉を速かにめっき槽内に入れ、銅
スラリーを撹拌しながら上記めっき液を500−加え、
撹拌速度約25 Or、p、m、において30分間撹拌
を続ける。反応終了後、生成し、臀銀被覆銅粉を温水3
tで充分洗浄した後、更にアセトンで洗浄、濾過し、ア
セトンを除去した後70〜90℃で速かに乾燥させる。
得られた銀被覆銅粉の量は95.09であシ、銅粉表面
には完全に銀被覆が施こされていた。また、この銀被覆
銅粉を原子吸光分析法によって分析した結果は、Cu9
9.0%、Ar 1.0%4’アツ*。
〔実施例2〕 ニッケル粉トシてカルボニルニッケル287(カナダ、
インコ社製、平均粒径2μ)を使用し、下記組成のめっ
き液を用いて銀被覆を施した。
A P2S 04 15.Or/1 EDTA−4H130’!/1 Na2COx 110 ?/2 、l−19,0 ニツケル粉1002を実施例1と同様に酸洗、水洗した
後、スラリー状となったニッケル粉を速かにめつき槽内
に入れ、ニッケルスラリーを撹拌しながら上記めっき液
を1000−加え、撹拌速度約25 Or、p、m、に
おいて撹拌を続けた。約2時間経j1)シた頃よりめっ
き液は青色に変化するが、引き続き撹拌を続は全部で4
時間撹拌を行なう。
反応終了後、生成した銀被覆ニッケル粉は実施例1と同
様に温水洗浄、アセトン洗浄後乾燥する。
得られた銀被覆ニッケル粉の量は103.5 rであり
、顕微鏡で観察した結果、ニッケル粉は完全に銀被覆が
施こされていた。また、この銀被覆ニッケル粉を原子吸
光分析法によって分析した結果は、Ni90.5%、、
AlF2.5チであった。
〔実施例3〕 鉄粉として搗砕鉄粉Fe■−8−100(平均粒径10
 /l )を使用し、下記組成のめつき液を用いて銀被
覆を施した。
めっき液組成 A ’2804 7.251/2 DTPA15H30,OIiI/1 Na2COa 22.5 Iil/を −8,5 鉄粉1002を実施例1と同様に酸洗、水洗した後、ス
ラリー状となった鉄粉を速かにめつき槽内に入れ、鉄ス
ラリーを撹拌しながら上記めっき液を1ooo−加え、
撹拌速度約30 Or、p、m。
において1時間撹拌を続ける。反応終了後、生成した銀
被覆鉄粉は実施例1と同様に温水洗浄、アセトン洗浄後
乾燥する。
得られた銀被覆鉄粉の量は99.5 S’であシ、これ
を顕微鏡観察した結果、鉄粉表面には銀被覆が完全に施
こされていた。また、この銀被覆鉄粉を原子吸光分析法
によって分析した結果は、Fe 95.2係、AP 4
.8チであった。
次に、実施例1〜3で得られた銀被覆粉体の導電性を下
記方法によシ測定した。
導電性のテスト セメダインC(セメダイン株式会社製)80Fにアセト
ン20?を加えて希釈し、この希釈液102に実F(1
例1〜3で得られた銀被覆金属粒子151を加えてよく
混合した。このスラリーをプラスチック板上に塗布して
巾5咽、長さ30謳、厚み約60μの皮膜を形成し7.
80℃、30分乾燥した後、皮膜表面の10mm間隔の
電気抵抗をテスターで測定した。たお、テスターは「5
OAR霜rporationλ化−533DICT肛■
几TIW比」であシ、リード線を含むブランクの抵抗は
0.30である。
また、比較のため、銀粒子、ニッケル粒子単独の場合の
導電性を同様にして測定した。
結果を第3表に示す。
測定結果 第3表 表に示された導電性のテスト結果によれば、実施例1の
Cu/Ar (As’ : 1%)の抵抗値は銀粉であ
るドータイトD−550の抵抗値1Ωよシ低い値0.8
〜0.9Ωを示し、銀被覆銅粉が銀ペーストに充分式シ
得る材料であることが判明した。
マタ、カルボニルニッケルはそのままでは30Ωの抵抗
値を有するが、実施例2に示されたように銀被覆を行っ
たニッケル粉の抵抗値は2〜3Ωとカルボニルニッケル
そのものの抵抗値30Ωの約1/10 の値となり、ニ
ッケル粉或いは鉄粉に対しても銀被覆を施すことが好ま
しいものであることが認められた。
更に、実施例1〜3で得た銀被覆金属粉の耐蝕性をテス
トするために、これらの金属粉を温度70℃、湿度98
チの条件下で1日放置した後、上記と同様にして抵抗を
測定した結果は、抵抗値に変化が認められず、これらの
金属粉上に銀の均一な被覆が形成さね、ておシ、耐蝕性
が良好であることを確認することができた。
出願人 上村工業株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 を処理し、この金属制科表面に金鴇銀被膜を形成するこ
    とを特徴とする銀被覆方法。 2 アミノカルボン酸類としてアミノカルボン酸を使用
    し、かつ炭酸アルカリ金属塩で世を6以上に調整した溶
    液をめっき液として使用し′fc特許請求の範囲第1項
    記載の銀被覆方法。 3、 炭酸アルカリ金属塩が炭酸ナトリウムである特許
    請求の範囲第2項記載の銀被覆方法。 4、 めっき液のpHが6〜11である特許請求の範囲
    第1項乃至第3項いずれか記載の銀被覆方法。 5、 アミノカルボ/酸がエチレンジアミン四酢酸、ニ
    トリロ三酪酸、ヒドロキシエテルエテレンジアミン三#
    散、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラ
    ミン六酢酸、ヒドロキシエチルイミンニ酢酸、ヅヒドロ
    キシエチルグリシンそある特許請求の範囲第2項乃至第
    4項いずれか記載の銀被覆方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08232072A (ja) * 1994-12-09 1996-09-10 Alpha Metals Ltd 銀めっき
JP2009084634A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dowa Electronics Materials Co Ltd 金属被覆ニッケル粉およびその製造方法
JP2014118589A (ja) * 2012-12-14 2014-06-30 Unitika Ltd 被覆繊維状銅微粒子集合体
JP2014118590A (ja) * 2012-12-14 2014-06-30 Unitika Ltd 繊維状銀微粒子集合体
USRE45297E1 (en) 1996-03-22 2014-12-23 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
US9072203B2 (en) 1994-12-09 2015-06-30 Enthone Inc. Solderability enhancement by silver immersion printed circuit board manufacture
USRE45842E1 (en) 1999-02-17 2016-01-12 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
USRE45881E1 (en) 1996-03-22 2016-02-09 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
JP2016193813A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆テルル粉及びその製造方法、並びに導電性ペースト
JP2019517625A (ja) * 2016-06-03 2019-06-24 バイオニア コーポレーションBioneer Corporation 化学的還元法を用いたコアシェル構造の銀コーティング銅ナノワイヤの製造方法
JP2020132940A (ja) * 2019-02-19 2020-08-31 関東化学株式会社 銀めっき液組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5759283A (en) * 1980-09-25 1982-04-09 Sharp Corp Card reader

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5759283A (en) * 1980-09-25 1982-04-09 Sharp Corp Card reader

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE45175E1 (en) 1994-12-09 2014-10-07 Fry's Metals, Inc. Process for silver plating in printed circuit board manufacture
JPH08232072A (ja) * 1994-12-09 1996-09-10 Alpha Metals Ltd 銀めっき
US9072203B2 (en) 1994-12-09 2015-06-30 Enthone Inc. Solderability enhancement by silver immersion printed circuit board manufacture
USRE45279E1 (en) 1994-12-09 2014-12-09 Fry's Metals, Inc. Process for silver plating in printed circuit board manufacture
USRE45881E1 (en) 1996-03-22 2016-02-09 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
USRE45297E1 (en) 1996-03-22 2014-12-23 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
USRE45842E1 (en) 1999-02-17 2016-01-12 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
JP2009084634A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dowa Electronics Materials Co Ltd 金属被覆ニッケル粉およびその製造方法
JP2014118590A (ja) * 2012-12-14 2014-06-30 Unitika Ltd 繊維状銀微粒子集合体
JP2014118589A (ja) * 2012-12-14 2014-06-30 Unitika Ltd 被覆繊維状銅微粒子集合体
JP2016193813A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀被覆テルル粉及びその製造方法、並びに導電性ペースト
JP2019517625A (ja) * 2016-06-03 2019-06-24 バイオニア コーポレーションBioneer Corporation 化学的還元法を用いたコアシェル構造の銀コーティング銅ナノワイヤの製造方法
JP2021021146A (ja) * 2016-06-03 2021-02-18 バイオニア コーポレーションBioneer Corporation 化学的還元法を用いたコアシェル構造の銀コーティング銅ナノワイヤの製造方法
JP2022116130A (ja) * 2016-06-03 2022-08-09 バイオニア コーポレーション 化学的還元法を用いたコアシェル構造の銀コーティング銅ナノワイヤの製造方法
JP2020132940A (ja) * 2019-02-19 2020-08-31 関東化学株式会社 銀めっき液組成物

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JPH0250991B2 (ja) 1990-11-06

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