JPS5995420A - Mos型センサ - Google Patents

Mos型センサ

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JPS5995420A
JPS5995420A JP57204668A JP20466882A JPS5995420A JP S5995420 A JPS5995420 A JP S5995420A JP 57204668 A JP57204668 A JP 57204668A JP 20466882 A JP20466882 A JP 20466882A JP S5995420 A JPS5995420 A JP S5995420A
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    • G01L1/18Measuring force or stress, in general using properties of piezo-resistive materials, i.e. materials of which the ohmic resistance varies according to changes in magnitude or direction of force applied to the material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01D5/18Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage by varying effective impedance of discharge tubes or semiconductor devices
    • G01D5/183Sensing rotation or linear movement using strain, force or pressure sensors
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    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0098Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means using semiconductor body comprising at least one PN junction as detecting element
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    • G01L9/06Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means by making use of variations in ohmic resistance, e.g. of potentiometers, electric circuits therefor, e.g. bridges, amplifiers or signal conditioning of piezo-resistive devices

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はNO8型電界効果トランジスタ(以下MO8F
ETと称する)を用いたセンサに関する。
〔従来技術〕
MO8FETi各種センサに応用する例としてそのピエ
ゾ抵抗効果を利用した圧力センサまたは歪センサに関す
る提案が、例えばSO目d 5tateElectro
nics、  Vol 18(1975)、P295〜
299に開示されておシ、複数の感圧MO8FETによ
るブリッジ回路について述べられている。このほか、感
圧MO8FET kそのまま増幅素子として用い、複数
の素子からなる差動増幅回路ヲCり成する提案もされて
いる。しかし、これら従来のセンサはいずれも、ゲート
電圧を一定にして、MOSFETに圧力等が加わるとド
レン電流が変化するため、このドレン電流の変化分を検
出して圧力等の被検出要素を測定していた。このため、
従来の検出器は、温度の変化によって同じ圧力等であっ
てもドレン電流が変化し、検出誤差という問題を有して
いた。そこで、この温度変化による検出誤差全なくすた
め、従来の検出器は、温度補償回路を設けなければなら
なかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、温度補償回路を設けることなく、温度
変化の影#を受けることのないMO8型七ンセンサ供す
ることにある。
〔発明の概要〕
本発明は、ドレン電流を温度変化があっても変化しない
値に一定にし検出前のゲート電圧と検出後のゲート電圧
の変化分によって検出することによシ、温度補償回路を
設けることなく温度変化の影響を受けないようにしよう
というものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例について説り」する。
第1図には、本発明の一実施例が示されている。
図において、MOSFET T1のドレン端子には負荷
インピーダンスZLと、増幅回路A1とが接続されてい
る。この負荷インピーダンスZhには電源電圧v1.が
印加されている。また、増幅回路A1の出力端にはMO
8FETTlのゲートが接続されていると共に出力端子
が接続されている。
MO8L”ET Tl のソース端子は接地されている
この増幅回路A1のゲインはμである。また、MOSF
ET T1は感圧兼増幅機能を有するものである。
本実施例は、増幅回路A1を介してMOS FETT1
の圧力によるドレン電流変化分=iMO8FETT1の
ゲート端子に帰還し、帰還制御量ΔV、をもって印加圧
力変化に対応する出力電圧変化とゆするものである。
このような楢成において、いま、MO8FETTlの圧
力零における相互コンダクタンスfgmv、圧力印加時
の圧力変化分に相当する相互コンダクタンス’fcgm
pとすると、それぞれ次9ように定義される。
gmy=ΔIdsv/Δv、       −(i)g
mp=ΔIdsp/ΔVp        ・(2)こ
こでΔJsv は前記MO8FET T1の静特性によ
シ定まるドレン藏流変化分、ΔIdsp及びΔV、はそ
れぞれMOSFET T1の圧力によるドレン電流変化
分及びゲート′ハ圧変化分である。前記MO8FET 
T 1のドレン電流変化Δ■dSは前記静特性により定
まるドレンd流変化分ΔIdsvと圧力によるドレン電
流変化分ΔJdspとの和となり次式のように表わされ
る。
ΔIds  = Δ工dsv+ΔIdsp= gmv・
Δv、 +gml)・ΔV、 ・・・(3)本実施例で
は、上記(3)式に示したドレン電流変化分ΔIdsが
常に苓になるように前記MO8FETのゲートバイアス
電圧を負帰還制御し、該制#量をもって出力電圧変化分
とするもめである。
第2図には、本実施例のMOSFETのドレン電流とゲ
ート電圧との関係が示されている。すなわち、特性曲線
Aが圧力印加によって曲線Bに変化する時、曲線Aにお
ける電流値■dOの点Pはゲート電圧が一定ならば、1
ΔIdsplたけ変化した曲線B上の点几に移動する。
これを1ΔIdsvlだけ変化させて元の■dOに戻す
ために曲線Bに沿ってQ点まで移動させればよい。この
ときのゲート電圧のP点からQ点への制御量全出力電圧
変化として取出す訳である。
第3図には、MOSFETのドレン電流とゲート電圧と
の関係が、同一圧力における温度変化による変動が示さ
れている。この温度による変化があっても、点Pに示す
如き温度変化による影響の全く生じない点がある。この
点Pにドレン′ε流値を選ぶことによシ、温度の影響全
受けない安定なセンサの実現できる。
いま、第1図の如く、MOSFET T1のドレン端子
に負荷素子ZLが接続されている状態では、第1図端子
1の電圧変化ΔV+は次式の如くなる。
ΔV> =−Δ工dsZh       ・・・(4)
一方、増幅回路A1によシ、端子1の電圧変化分ΔVl
 と増幅回路At よシへ40SFET T 1のゲ帰
唱る 一ト端子に 還制御量ΔV、との関係は次式の如△ くなる。
Δv0 ΔVt −□         ・・・(5)μ となる。この(6)式は、ゲインμが、μ)1(μは約
102〜103 )とすれば、1/μ−〇としてよく、
(6)式は、 となる。この(7)式は、前記(3)式においてΔId
s=0 とした場合に相当するものである。
したがって、ゲインμの増幅回路A1を介して端子1に
おける電圧変化分ΔVx’r前記MO8F’ETT1の
ゲート端子2に負帰還することにょシ、前記MO8FE
T T1のドレン電流変化分を常に零に制御できると同
時にゲート電圧の帰還量によって圧力変化に対応した出
力電圧変化分Δv0が得られる。
第4図には、本発明の他の実施例が示されている。
本実施例が第1図図示実施例と異る点は、MOSFET
 T1のドレン端子D1とゲート端子G1との間に負帰
還増幅器N1を挿入接続した点で6る。この負帰還増幅
器N1のゲインはβである。
このような構成において、上記(7)式は、となる。
この場合、帰還量βは通常1よシ小さく、シかも抵抗、
コンデンサなどの安定な受動素子で構成できるため、圧
力変化に対応した出力電圧変化分ΔV、とじて1/β倍
に増幅された安定な出力電第5図には、本発明の別の実
施例が示されている。
図において、MOSFET T1のドレン端子D1には
、抵抗RLi介して電源電圧V。、が供給されるように
構成されておシ、このMOSFET T1のソース端子
S4は接地されている。また、このMOSFET T 
:Lのドレン端子D1には、演算増幅器Aの(+)入力
端子が接続されている。この演算増幅器Aの(−)入力
端子には、基準電圧源Vtrが接続されている。また、
この演算増幅器Aの出力端子には、検出値出力端子Vと
、抵抗R1が接続されている。この抵抗几1の他端には
、MOSFET T1のゲート端子G1が接続されてい
る。
本実施例において、第4図図示増幅器A1が、演算増幅
器Aに相当し、帰還回路N1に相当するものが抵抗几1
.几2の抵抗分割回路である。
このように構成されるものであるから、MOSFET・
T1のドレン端子DIの端子電圧v1は常に前記演算増
幅器Aの(−)入力端子に接続される基準電圧Vjと等
しくなるように制御され、しかも、演算増幅器Aの出力
端子に接続された抵抗分割回路によって、出力V、は 倍に増幅され、感度良く検出が可能である。
第6図には、本発明の更に別な実施例が示されている。
本実施例が第5図図示実施例と異る点は、MOSFET
 T1のゲート端子Gl金コンデンサC1=i介して接
地している点である。
このコンデンサC1は、交流会を除去し、直流成分のみ
をフィードバックして宮に電流値Idsを一定に保たせ
るだめのものであシ、このコンデンサC1によって直流
バイアスレベルが安定化され、振動等の交流的信号を検
出することが可能となる。
第7図には、本発明の更に別な実施例が示されている。
本実施例が第5図図示実施例と異る点は、第5図図示抵
抗几Lk取除き、代りにMO8型電界効果トランジスタ
T2’に挿入接続した点である。このように、MO8型
電界効果トランジスタT2を用いるのは、例えば、MO
SFETにおけるピエゾ抵抗効果を利用した圧力センサ
とした場合、感圧MO8FET  と同一チップ上に負
荷素子をIC化するに、拡散抵抗に比して形成面積全大
幅に縮小することができ小形化を図ることができる。ま
た、駆動トランジスタT1と負荷トランジスタ’I’2
t−それぞれ同じ圧力に対して異なったピエゾ抵抗効果
を示すものとすれば、すなわち、Siダイアフラム上に
MOSFET TlとMOSFET T2と全それぞれ
圧力印加によってΔIdsが逆方向に変化するように(
引張圧力と圧縮圧力、電流と応力が平行するものと電流
全応力が直交するもの)配置することによシ感度全その
分倍加することができる。
第8図は第7図の負荷素子として用いたトランジスタT
2の代わシに前記駆動トランジスタTIと異なるチャネ
ル型のMO8型電界効果トランジスタを接続して相補型
とし、該2つのトランジスタのゲートドイアス電圧を負
帰還制御するものである。かかる構成にすると、周知の
ように極めて低い消費電力でセンサを駆動でき、且つ高
感度化が図れる。例えば、第7図で説明したように、こ
れを圧力センサに応用すれば、何らの工夫ヲ要すること
なく、nチャネルとpチャネルの異なったピエゾ抵抗効
果をそのまま応用できることも可能で、センサの高感度
化又は高精度化が17+]単に具現化する。
第9図は本発明を圧力センサに適用する場合のセンサ構
造の一例である。即ち、111はs1単結晶の基板、1
12はホウケイ酸ガラスダイであシ、該Bi単結晶基板
111は中央部を裏側から加工して薄いダイアフラム1
14を形成している。また、該基板111と前記ガラス
ダイ112は例えば陽極接合法等で堅固に接着されてい
る。該ガラスダイ112にはその中央部に貫通孔1is
y設けてあり、かかる孔を通して被測定圧力が印加され
る。前記ダイアフラム114の上面にはこれまでに述べ
てきたMO8型電界効果トランジスタ113がIC技術
?用いて形成されている。これによシ、圧力印加に応じ
て前記ダイアフラム11i4が変形し、その結果MO8
型電界効果トランジスタ113に応力が加わり、センサ
として作動する。
なお、116は上述した演算増幅器や抵抗分割回路など
の信号処理用素子であり、前記3i基板111の固定部
上に同時に形成することによりMOSのIC化圧力セン
サが具現化できる。
なお、本発明について、圧力センサを実施例として挙げ
てii7と明したが、この圧力センサに限られるもので
はない。本発明の適用例としては、MOS(1り造のゲ
ート電楓部に機能薄膜を形成することによシ各ねセンサ
がある。すなわち、機能薄膜としてポリマを用いれば湿
既センサが、また、pt。
Pdなどに機能N、膜として用いればガスセンサとして
、さらに、Si3N4 などを機能薄膜として用いれば
イオン(H” 、Na” 、K”等)センサとして、ま
たさらに、圧電膜(ZnO等)′f:機能薄膜として用
いれば歪センサとして構成することができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、温度補償回路を
設けることなく、温度変化の影響を受けることがない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例金示す図、第2図はMO
SFETの圧力特性図、第3図はMOSFETの靜温度
特性図、第4図は本発明の第2の実施例を示す図、第5
図は本発明の第3図の実施例を示す図、第6図は本発明
の第4の実施例を示すL1第7図は本発明の第5の実施
例を示す図、第8図は本発明の第6の実施例を示す図、
第9図は本発明の圧力センサとしての実施例を示す構造
図である。 T+1・・・MOSFET 、T2・・・MOSFET
、Zb・・・負荷インピーダンス、A1・・・増幅器、
N1・・・負帰還増コ ブ $ 1 目 茅20 D下− 茅3 目 茅4目 芋5 目 第6 目 茅7目 茅δ目 茅q 目

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ゲート電極部に被検出物に対応する機能薄膜の形成
    されるNO8型電界効果トランジスタと、該トランジス
    タのドレン電流を温度変化によっては変化しない値にな
    るように前記トランジスタのゲート電圧を制御する制御
    手段と、前記トランジスタのゲート電圧変化を検出する
    検出手段とからなることを特徴とするMO8型セフ’9
    −0
JP57204668A 1982-11-24 1982-11-24 Mos型センサ Granted JPS5995420A (ja)

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