JPS59950A - Icチツプの接続実装方法 - Google Patents
Icチツプの接続実装方法Info
- Publication number
- JPS59950A JPS59950A JP57109616A JP10961682A JPS59950A JP S59950 A JPS59950 A JP S59950A JP 57109616 A JP57109616 A JP 57109616A JP 10961682 A JP10961682 A JP 10961682A JP S59950 A JPS59950 A JP S59950A
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- JP
- Japan
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- glass substrate
- layer
- thermoplastic resin
- chip
- pad
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
- H01L2224/9212—Sequential connecting processes
- H01L2224/92142—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92144—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はICチップをガラス基板上に交換可能に高密度
実装することを可能にするIδテップの接続実装方法に
関するものである。
実装することを可能にするIδテップの接続実装方法に
関するものである。
従来技術と問題点
従来のICチップの搭載方法には、■フリップチップボ
ンディング法、■ワイヤボンディング法、■ビームリー
ドポンディング法、0テーブポングイング法、■蒸着配
線による接続方法等があるが、■の場合はワイヤボンデ
ィング用のAtパッド付IC等には適用できず、■の場
合は信頼性に問題があり、■の場合はICチップのコス
トが高くなり、■の場合はテープキャリアを利用するた
め多種少量生産楓:は不利であり、■の場合はICチッ
プの交換が不可能であるという欠点をそれぞれ有してい
る。
ンディング法、■ワイヤボンディング法、■ビームリー
ドポンディング法、0テーブポングイング法、■蒸着配
線による接続方法等があるが、■の場合はワイヤボンデ
ィング用のAtパッド付IC等には適用できず、■の場
合は信頼性に問題があり、■の場合はICチップのコス
トが高くなり、■の場合はテープキャリアを利用するた
め多種少量生産楓:は不利であり、■の場合はICチッ
プの交換が不可能であるという欠点をそれぞれ有してい
る。
発明の目的
本発明は上述の各種の問題を解決するためのもので、パ
ッド付ICをガラス基板上に信頼性を保って交換可能に
低コスFで搭載することのできる特(二多種少量生産に
適したICチップの接続方法を提供することを目的とし
ている。
ッド付ICをガラス基板上に信頼性を保って交換可能に
低コスFで搭載することのできる特(二多種少量生産に
適したICチップの接続方法を提供することを目的とし
ている。
発明の構成
本発明では、上述の目的を達成するため、熱願塑性樹脂
とポリイ乞ドの2層フィルムを層間絶縁膜としてガラス
基板上に高密度化された多層配線を行うとともI:、熱
可塑性樹脂、ポリイミドの2層フィルムを用いてパッド
付ICチップに浸漬法により予備半田を形成し、このI
Cチップをりフロー法によって上記ガラス基板上C:交
換可能に半田付けして搭載するようζ:構成されている
。
とポリイ乞ドの2層フィルムを層間絶縁膜としてガラス
基板上に高密度化された多層配線を行うとともI:、熱
可塑性樹脂、ポリイミドの2層フィルムを用いてパッド
付ICチップに浸漬法により予備半田を形成し、このI
Cチップをりフロー法によって上記ガラス基板上C:交
換可能に半田付けして搭載するようζ:構成されている
。
発明の実施例
以下、図面に関連して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明(二係る方法によりガラス基板上にパッ
ド付ICを搭載した状態を示す正面図で、図中、1はガ
ラス基板、2は熱可塑性樹脂3とポリイミド4の2層フ
ィルム、5はIC=fツブ、6は熱可塑性樹脂7とポリ
イミド8の2層フィルム、9は予備半田である。
ド付ICを搭載した状態を示す正面図で、図中、1はガ
ラス基板、2は熱可塑性樹脂3とポリイミド4の2層フ
ィルム、5はIC=fツブ、6は熱可塑性樹脂7とポリ
イミド8の2層フィルム、9は予備半田である。
このICチップ5の接続実装は次の手順により行われる
。
。
すなわち、まず、第2図(α)に示すように、ガラス基
板1の表面に受動素子を含む薄膜回路10を形成し、そ
の上に2層フィルム2を熱可塑性樹脂6を下側にして熱
圧着によりラミネートする。この2層フィルム2はガラ
ス基板1上に2層配線を行うための層間絶縁膜に相当す
るもので、その形成は容易である。次に、第2図(h)
に示すように2層フィルム2にドライエツチングにより
スルーホール11を形成した後、第2図(CJに示すよ
うにスルーホール形成部を含んで2層目導体12を形成
する。この2層目導体12はスルーホール部を介し薄膜
回路10と接続する。
板1の表面に受動素子を含む薄膜回路10を形成し、そ
の上に2層フィルム2を熱可塑性樹脂6を下側にして熱
圧着によりラミネートする。この2層フィルム2はガラ
ス基板1上に2層配線を行うための層間絶縁膜に相当す
るもので、その形成は容易である。次に、第2図(h)
に示すように2層フィルム2にドライエツチングにより
スルーホール11を形成した後、第2図(CJに示すよ
うにスルーホール形成部を含んで2層目導体12を形成
する。この2層目導体12はスルーホール部を介し薄膜
回路10と接続する。
一方、ICテップ5に、第6図(αH二示すように、あ
らかじめICテップ5のパッド13に対応するス。
らかじめICテップ5のパッド13に対応するス。
ルー°ホール14を形成した熱可塑性樹脂15とポリイ
ミド16の2層フィルム17を熱圧着によりラミネート
し、次にスルーホール形成部に第3図(b)に示すよう
に耐半田性のあるパッド18を蒸着により形成した後、
この部分に第3図(C)に示すように予備半田9を浸漬
法により突出させて形成する。
ミド16の2層フィルム17を熱圧着によりラミネート
し、次にスルーホール形成部に第3図(b)に示すよう
に耐半田性のあるパッド18を蒸着により形成した後、
この部分に第3図(C)に示すように予備半田9を浸漬
法により突出させて形成する。
このように前処理されたICy″ツブ5を第1図に示す
ようにガラス基板1上リブロー法により接続実装するが
、このとき、ガラス基板1の裏面より透視しながら予備
半田9を2層目導体12の所定位置に位置合せした後所
定の圧力で接触させ、ICテップ5を加熱して接続実装
を行う。なお、第1図において19は導伝性樹脂20を
介しICテップ5僅二接続された金属板で、ICテップ
5の放熱はこの金属板19を介し行われる。またICチ
ップの接続は予備半田を介し行われるため、I(4−ツ
ブの交換が可能である。
ようにガラス基板1上リブロー法により接続実装するが
、このとき、ガラス基板1の裏面より透視しながら予備
半田9を2層目導体12の所定位置に位置合せした後所
定の圧力で接触させ、ICテップ5を加熱して接続実装
を行う。なお、第1図において19は導伝性樹脂20を
介しICテップ5僅二接続された金属板で、ICテップ
5の放熱はこの金属板19を介し行われる。またICチ
ップの接続は予備半田を介し行われるため、I(4−ツ
ブの交換が可能である。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、次のような各種の
優れた効果を奏することが可能である。
優れた効果を奏することが可能である。
(1)2層樹脂フィルムを用いることによりガラス基板
上の多層配線が容易に実現でき、さらにICy−ツブに
突出した予備半田を施すことができる。
上の多層配線が容易に実現でき、さらにICy−ツブに
突出した予備半田を施すことができる。
(2) また、ガラス基板を用いることにより、該ガ
ラス基板に対するICチップのフェイスダウンボンディ
ング時の以置合せが容易になる上、基板のコストも低減
できる。
ラス基板に対するICチップのフェイスダウンボンディ
ング時の以置合せが容易になる上、基板のコストも低減
できる。
(3) これにより、パッド付ICテップ実装の高密
度化、低コスト化、信頼性の向上を図ることが可能で、
しかもICチップの交換も容、l(二可能になる。
度化、低コスト化、信頼性の向上を図ることが可能で、
しかもICチップの交換も容、l(二可能になる。
(4)多種少量生産(二連している。
図面は本発明に係るICチップの接続実装方法の実施例
を示すもので、第1図はこの方法を適用したICチップ
実装構造を示す正面図、第2図(α)、 Ih) 、
IC)は2層フィルムを用いてガラス基板上に2層配線
を形成する工程図、第3図(α) 、 (h) 、 t
C)は2層フィルムを用いてICテ、ツブのパット上(
=予備半田を突出形成する工程図である。 図中、1はガラス基板、2.17は2層フィルム、6.
15は熱可塑性樹脂、4.16はポリイミド、5はパッ
ド付IC19は予備半田、10は薄膜回路。 11.14はスルーホール、13はICのパッドである
。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 玉蟲久五部(外3名)り −
〇
を示すもので、第1図はこの方法を適用したICチップ
実装構造を示す正面図、第2図(α)、 Ih) 、
IC)は2層フィルムを用いてガラス基板上に2層配線
を形成する工程図、第3図(α) 、 (h) 、 t
C)は2層フィルムを用いてICテ、ツブのパット上(
=予備半田を突出形成する工程図である。 図中、1はガラス基板、2.17は2層フィルム、6.
15は熱可塑性樹脂、4.16はポリイミド、5はパッ
ド付IC19は予備半田、10は薄膜回路。 11.14はスルーホール、13はICのパッドである
。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 玉蟲久五部(外3名)り −
〇
Claims (1)
- ガラス基板表面に受動素子を含む薄膜回路を形成してそ
の上C二熱可盟性樹脂とポリイミドの2層フィルムな熱
可塑性樹脂を下側−二して熱圧着によりラミネートした
後、該2層フィルムの所定位置Cス/l/−ホールヲ形
成して該2層フィルムのスルーホール形成部を含む所定
部分1:蒸着C二より前記薄膜回路と接続する2層目導
体パターンを形成し、一方、熱可塑性樹脂とポリイミド
の2層フィルムにICテップのパッドC二対応するスル
ーホールを形成して該2層フィルムの熱可塑性樹脂面に
該ICyCツーをそのパッドが該スルーホールに一致す
るよう(二位置合せして熱圧着により両者を接着した後
、該2層フィルムのスルーホール形成部に蒸着によりパ
ッドを形成して該パッド形成部に浸漬法(二より予備半
田を突出形成し、最後に前記ガラス基板を透し位置合せ
しながらリフロー法によす前記予備半田を介し前記IC
チップを前記ガラス基板上の前記2層目導体にフエイ゛
スダクンC:接続実装することを特徴とするICチップ
の接続実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57109616A JPS59950A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Icチツプの接続実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57109616A JPS59950A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Icチツプの接続実装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59950A true JPS59950A (ja) | 1984-01-06 |
Family
ID=14514805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57109616A Pending JPS59950A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Icチツプの接続実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59950A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100249537B1 (ko) * | 1995-07-21 | 2000-03-15 | 가네꼬 히사시 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP57109616A patent/JPS59950A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100249537B1 (ko) * | 1995-07-21 | 2000-03-15 | 가네꼬 히사시 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
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